《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
G(|(y=ck 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
qY~$wVY( 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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O.up%'%,
sWZtbW;) i37a}.; 第一篇光学多层膜设计
$vbAcWj 第1章光学薄膜特性的理论计算
}Cq9{0by?a 1.1单色平面电磁波
, C@hTOT 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
d;jJe0pH 1.3光学薄膜特性的理论计算
XpAq=p0; 1.4光学多层膜内的电场强度分布
s=%+o&B 习题
CXP $bt} 第2章光学薄膜的设计理论
4pTuP / 2.1矢量作图法
1~xn[acy 2.2有效界面法
m|cWX"#g 2.3对称膜系的等效层
.jGsO0 2.4导纳图解技术
hZ\W ?r 习题
L};;o+5uJD 第3章光学薄膜
系统的设计
U37?P7i's 3.1减反射膜
M?4r 5R 3.2分束镜
ao";5m 3.3高反射膜
]R0A{+]n 3.4干涉截止滤光片
[TfV2j* e 3.5带通滤光片
xV 1Z&l 3.6特殊膜系
Q"K >ML>0 习题
8$jT#\_ 参考文献
uA/.4 b 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
I#hg(7|", 第4章薄膜制备技术
(h>X:! 4.1真空淀积工艺
@Jn:!8U0 4.2光学薄膜材料
!9<RWNKV)Y 4.3薄膜厚度监控艺术
<iprPk 4.4膜层厚度的均匀性
LX?r=_\ 习题
N5an9r&z(1 参考文献
.lF\b A| 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
'hi\98y 5.1薄膜的形成过程
F?,&y)ri 5.2薄膜的微观结构
m<'xlF 5.3薄膜的成分
$}nUK~$GSv 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
Rd1ku= 5.5薄膜微观结构和改善
%d#)({N 习题
e%v4,8 参考文献
L9YwOSb. 第三篇光学薄膜检测技术
c+i`Zd.m< 第6章薄膜透射率和反射率测量
llG#nDe 6.1光谱分析测试系统的基本
原理
2:5gMt 6.2薄膜反射率的测试
K,,@', 6.3薄膜反射率的测量
sriq(A 6.4利用
激光谐振腔测量激光高反射镜的反射率与损耗
A%w]~ chC9 6.5总结
WT!\X["FI$ 习题
I~]mX; 参考文献
e%c5OZ3~ 第7章薄膜的吸收和散射测量
|>}0? '/] 7.1激光量热计基本原理
6.7Kp 7.2光声、光热偏转法测量薄膜吸收
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