《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
hE!3kaS 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
H(]lqvO 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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K;-:C9@ {Y'DUt5j 第一篇光学多层膜设计
D}!U?]la& 第1章光学薄膜特性的理论计算
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& 1.1单色平面电磁波
)sB`!:~HjP 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
*D;B%j^; 1.3光学薄膜特性的理论计算
jRB:o?S 1.4光学多层膜内的电场强度分布
1y_{#,{> 习题
vD1jxk'fd 第2章光学薄膜的设计理论
7"*-
>mg 2.1矢量作图法
s&y 2.2有效界面法
X/i8$yqv 2.3对称膜系的等效层
fgl"ox 2.4导纳图解技术
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