《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
E|.D 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
2'r8#,) 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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;"nEEe]? =;$&:Zjy/% 第一篇光学多层膜设计
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6i_ 第1章光学薄膜特性的理论计算
f i!wrvO 1.1单色平面电磁波
!J'xk 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
-}juj;IVv 1.3光学薄膜特性的理论计算
{w^flizY 1.4光学多层膜内的电场强度分布
[P{Xg:0 习题
uyG4zV\h* 第2章光学薄膜的设计理论
es(vWf' 2.1矢量作图法
j{P,(- 2.2有效界面法
%/MK$ 2.3对称膜系的等效层
ix&hsNzD 2.4导纳图解技术
MOmp{@ 习题
[*>@hx 第3章光学薄膜
系统的设计
pp[? k}@ 3.1减反射膜
I|O~F e. 3.2分束镜
tY:-13F 3.3高反射膜
O!]wJ 3.4干涉截止滤光片
+V8yv-/{ 3.5带通滤光片
.+B)@? 3.6特殊膜系
}RUC#aW1 习题
qW<: `y 参考文献
IW1]H~1w 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
+-~;?wA 第4章薄膜制备技术
c/2OR#$t 4.1真空淀积工艺
|ns^'q 4.2光学薄膜材料
bt&vik _ 4.3薄膜厚度监控艺术
x{ZVq 4 4.4膜层厚度的均匀性
sq)Nn&5A 习题
<qRw!
'S^ 参考文献
;.:UfW 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
TPEZ"%=Hg 5.1薄膜的形成过程
!Xj m h$F 5.2薄膜的微观结构
LL6f40hC 5.3薄膜的成分
cW GU?cv} 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
a5)[?ol 5.5薄膜微观结构和改善
yMSRUQ
x 习题
$uLzC] 参考文献
ci^-0l_O 第三篇光学薄膜检测技术
oC[wYUDg 第6章薄膜透射率和反射率测量
m#;:%.Rm 6.1光谱分析测试系统的基本
原理 @e0Q+ t 6.2薄膜反射率的测试
*,n7& 6.3薄膜反射率的测量
&gEu%s^wR 6.4利用
激光谐振腔测量激光高反射镜的反射率与损耗
UU
,)z 6.5总结
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