《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
zxC~a97` 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
Sz-TarTF 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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Y2W{?<99 VJS1{n=;k 第一篇光学多层膜设计
IgEVz^W?h 第1章光学薄膜特性的理论计算
(l}nwyh5 1.1单色平面电磁波
(p(-E 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
Lklb 1.3光学薄膜特性的理论计算
R=
.U bY 1.4光学多层膜内的电场强度分布
O'S9y 习题
^%NjdZu DO 第2章光学薄膜的设计理论
A'suZpL 2.1矢量作图法
grE'ySX0 2.2有效界面法
d RHw]!. 2.3对称膜系的等效层
/ !aVv 2.4导纳图解技术
zO((FQ 习题
$KPf[JvQ 第3章光学薄膜
系统的设计
TNlS2b1 3.1减反射膜
&IP`j~b 3.2分束镜
#YK=e&da 3.3高反射膜
G$t:#2 3.4干涉截止滤光片
}[: i!t.m 3.5带通滤光片
D<lV WP 3.6特殊膜系
9>ML;$T& 习题
H,;9' *84 参考文献
WD|pG;Gq 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
uo3o[H 第4章薄膜制备技术
QJ,~K&? 4.1真空淀积工艺
+<'>~lDg 4.2光学薄膜材料
bdj')%@n 4.3薄膜厚度监控艺术
' pfkbmJ 4.4膜层厚度的均匀性
Vkl]&mYRz 习题
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]4WM< 参考文献
.e|\Bf0P 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
6t'vzcQs 5.1薄膜的形成过程
$u,
~183 5.2薄膜的微观结构
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Xz 5.3薄膜的成分
LT:8/&\ 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
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