《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
98h :X % 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
Lp!0H `L 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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tI"wVr u/;_?zI 第一篇光学多层膜设计
48H5_9>: 第1章光学薄膜特性的理论计算
3_C98ClE 1.1单色平面电磁波
F9v)R#u~ 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
=obt"K%n 1.3光学薄膜特性的理论计算
?ISI[hoc 1.4光学多层膜内的电场强度分布
A\Lr<{Jh 习题
sE^ns\&QP= 第2章光学薄膜的设计理论
'lxLnX 2.1矢量作图法
~Ry
$>n*/ 2.2有效界面法
H U:1f)aa 2.3对称膜系的等效层
! Zno[R 2.4导纳图解技术
f%vHx, 习题
BvSdp6z9Iv 第3章光学薄膜
系统的设计
b=V)?"e- 3.1减反射膜
jkZ_c! 3.2分束镜
mgk64}K [n 3.3高反射膜
r(PJ~8)(= 3.4干涉截止滤光片
9cl{hdP{ 3.5带通滤光片
7qW.h>%WE 3.6特殊膜系
Gs^(YGtU 习题
O)Xd3w' 参考文献
FrgW7`s[A 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
}~myf\$ 第4章薄膜制备技术
q2[+-B)m 4.1真空淀积工艺
un.G6| S 4.2光学薄膜材料
A"Tc^Ij 4.3薄膜厚度监控艺术
3s3a> 4.4膜层厚度的均匀性
&*X3ch 习题
5Xp$yX = 参考文献
9vB9k@9 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
7yo|ie@S 5.1薄膜的形成过程
N;e;4,_ n 5.2薄膜的微观结构
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~s_E 5.3薄膜的成分
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1X 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
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4eD. 5.5薄膜微观结构和改善
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