《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
W=+AU!% 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
NM),2% < 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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U+4[w`a} XH*(zTd(? 第一篇光学多层膜设计
P Gxv4(% 第1章光学薄膜特性的理论计算
{|<r7K1< 1.1单色平面电磁波
#n.v#FyNx 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
%z[=T@ 1.3光学薄膜特性的理论计算
IIXA)b! 1.4光学多层膜内的电场强度分布
D,FgX/&i/ 习题
~p{YuW[e 第2章光学薄膜的设计理论
!nsr( 7X2 2.1矢量作图法
A(BjU:D(Oj 2.2有效界面法
Yh"9,Z&wiR 2.3对称膜系的等效层
UL&>]aQ 2.4导纳图解技术
vmfFR 习题
(M{wkQTO 第3章光学薄膜
系统的设计
}7{(o- 3.1减反射膜
:nqDX 3.2分束镜
|FlB# 3.3高反射膜
=Y!.0)t;* 3.4干涉截止滤光片
3^q9ll7Op 3.5带通滤光片
&+oJPpHi\ 3.6特殊膜系
Y4,p_6aKJ] 习题
CV{ZoY 参考文献
JW2f 6!b 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
[rAi9LSO" 第4章薄膜制备技术
/Hm/%os 4.1真空淀积工艺
P$AHw;n[R 4.2光学薄膜材料
)G]J@36 4.3薄膜厚度监控艺术
g3%x"SlIU 4.4膜层厚度的均匀性
t)k;5B`> & 习题
AOL=;z9c# 参考文献
7hMh%d0d(_ 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
)ytP$,r![S 5.1薄膜的形成过程
}y+a)2 5.2薄膜的微观结构
4-'0# a 5.3薄膜的成分
sMJa4P>O@ 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
"av/a 5.5薄膜微观结构和改善
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习题
o2]Np~`g, 参考文献
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