《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
@F%H 1 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
M@ t,P? 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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.: nK=-SQ _1TSt%L 第一篇光学多层膜设计
$Hh3*reSg- 第1章光学薄膜特性的理论计算
vu-QyPnS|w 1.1单色平面电磁波
>*r H Nf 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
>U?HXu/TJr 1.3光学薄膜特性的理论计算
Hyx%FN= 1.4光学多层膜内的电场强度分布
RRR'azT 习题
8#b>4Dx 第2章光学薄膜的设计理论
#!!Ea'3Iq 2.1矢量作图法
MDI[TNYG 2.2有效界面法
)xwWig. 2.3对称膜系的等效层
I[E/)R{\ 2.4导纳图解技术
Huzw> 习题
.b'hVOs{ 第3章光学薄膜
系统的设计
\@6PA 3.1减反射膜
I`"B<=zi 3.2分束镜
2O}UVp> 3.3高反射膜
lrQ +G@# 3.4干涉截止滤光片
B^`'2$3 3.5带通滤光片
M8j%bmd(, 3.6特殊膜系
QJ1_LJ4)a 习题
$42%H# 参考文献
~{MmUp rS 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
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1(g$6# 第4章薄膜制备技术
mqPV
Eo 4.1真空淀积工艺
DY]\@<ez 4.2光学薄膜材料
:{2exu 4.3薄膜厚度监控艺术
'fB/6[bd 4.4膜层厚度的均匀性
TXx%\V_6 习题
`}uOlC]I 参考文献
1QkAFSl3 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
'U=D6X%V9m 5.1薄膜的形成过程
0{u31#0j 5.2薄膜的微观结构
*oR`l32O0z 5.3薄膜的成分
-UgD 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
z=q 5.5薄膜微观结构和改善
5\1C@d 习题
+Ja9p 参考文献
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s(9@ 第三篇光学薄膜检测技术
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