《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
cK,&huk 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
*^iSP(dg 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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SAU` u]E dn&484 第一篇光学多层膜设计
k/M{2Po+ 第1章光学薄膜特性的理论计算
kZ0z]Y 1.1单色平面电磁波
JkEITuTth 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
y[/:?O}g4 1.3光学薄膜特性的理论计算
mYqLqezAA 1.4光学多层膜内的电场强度分布
N>iNz[a
q 习题
~uG/F?= Q: 第2章光学薄膜的设计理论
g'9~T8i& ^ 2.1矢量作图法
\"X_zM 2.2有效界面法
,E8g~ZUY9 2.3对称膜系的等效层
JF'<"" 2.4导纳图解技术
[M#(su0fv 习题
gX`C76P! 第3章光学薄膜
系统的设计
s)+] pxV0- 3.1减反射膜
~"Su2{"8B 3.2分束镜
RJ-J/NhWyI 3.3高反射膜
P=a&>i 3.4干涉截止滤光片
L=5Y^f'aU 3.5带通滤光片
BO+to. 3.6特殊膜系
%"e hZd0r 习题
Of-8n- 参考文献
<.{OIIuk 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
7HJH9@8V 第4章薄膜制备技术
s~A:*2 \ 4.1真空淀积工艺
`,Fc271` 4.2光学薄膜材料
Ev T"+;9/p 4.3薄膜厚度监控艺术
\1eWI 4.4膜层厚度的均匀性
QS@eqN 习题
0S\HO<~k 参考文献
PB#EU9 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
\SBAk
h 5.1薄膜的形成过程
qykI[4 5.2薄膜的微观结构
QrLXAK\5 5.3薄膜的成分
zpy&\#Vc 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
eI@G B 5.5薄膜微观结构和改善
WHr:M/qD 习题
1i#U& 参考文献
miV 8jaV 第三篇光学薄膜检测技术
S-79uo 第6章薄膜透射率和反射率测量
Pa{bkr 6.1光谱分析测试系统的基本
原理 aW#^@||B 6.2薄膜反射率的测试
{~V_6wY g 6.3薄膜反射率的测量
[9Hrpo]tU: 6.4利用
激光谐振腔测量激光高反射镜的反射率与损耗
;I>77gi`] 6.5总结
+$R%Vbd 习题
b(A;mt#N 参考文献
GPAz#0p 第7章薄膜的吸收和散射测量
p]6/1&t