《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
Ib$?[ 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
D~ %h3HM 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
S|ADu]H( z>W'Ra6 市场价:¥64.00
5[$jrG\! 优惠价:¥51.20 为您节省:12.80元 (80折)
)UG<KcdI
'>r"+X^W yy|F6Pq3` 第一篇光学多层膜设计
PiwI.c 第1章光学薄膜特性的理论计算
@0q*50 1.1单色平面电磁波
+jX.::UPm 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
\+sP<'~M 1.3光学薄膜特性的理论计算
k%lz%r 1.4光学多层膜内的电场强度分布
w\ 7aAf3O 习题
'}
LAZQ" 第2章光学薄膜的设计理论
8Wyv!tL 2.1矢量作图法
fHwr6"DJ 2.2有效界面法
/h73'"SpDy 2.3对称膜系的等效层
@60/IE{-v 2.4导纳图解技术
`?:X-dh_ 习题
bn<} 第3章光学薄膜
系统的设计
%q
7gl;' 3.1减反射膜
NI?YUhg> 3.2分束镜
!RwOUCk
3.3高反射膜
pwO
U6A! 3.4干涉截止滤光片
{F+iL&e) 3.5带通滤光片
' fP`ET5 3.6特殊膜系
:i:M7 }r 习题
j
/=4f 参考文献
Nb@zn0A(; 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
QAh6!<.;@ 第4章薄膜制备技术
2s:$4]K D 4.1真空淀积工艺
xBi``x2eY 4.2光学薄膜材料
Qcr-|?5L 4.3薄膜厚度监控艺术
S?Z"){ 4.4膜层厚度的均匀性
)s4a<Sc] 习题
I<ta2<h 参考文献
\4|o5, +(@ 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
Rck k 5.1薄膜的形成过程
ThSB\ 5.2薄膜的微观结构
_-/<