《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
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光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
:s|" ZR 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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Z 93S|q 第一篇光学多层膜设计
*V}T}nK7 第1章光学薄膜特性的理论计算
{x$WBy9 1.1单色平面电磁波
uEqL Dg 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
i!5zHn 1.3光学薄膜特性的理论计算
zyb>PEd. 1.4光学多层膜内的电场强度分布
0 ~2~^A#]\ 习题
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Oq x 第2章光学薄膜的设计理论
kOi@QLdN 2.1矢量作图法
|/rms`YQ 2.2有效界面法
fX"cQ& 2.3对称膜系的等效层
Kxs_R#k 2.4导纳图解技术
K]5@bm 习题
"SGq$3D 第3章光学薄膜
系统的设计
Ei@w*.3P< 3.1减反射膜
$2lrP]`>j. 3.2分束镜
T \d-r#{ 3.3高反射膜
BC|=-^( 3.4干涉截止滤光片
tS|gQUF17 3.5带通滤光片
O2z{>\ 3.6特殊膜系
1nHQ)od 习题
ECq(i( 参考文献
1?k{jt~ 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
z u53mZ 第4章薄膜制备技术
-2Bkun4Pt 4.1真空淀积工艺
$H}G'LqiG 4.2光学薄膜材料
3-^z<* 4.3薄膜厚度监控艺术
3QNu7oo 4.4膜层厚度的均匀性
']]Czze 习题
9eG{"0) 参考文献
U tb"6_ 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
UEkn@^&bg 5.1薄膜的形成过程
K9\p=H^T7 5.2薄膜的微观结构
t]dtBt].: 5.3薄膜的成分
([vyY}43h 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
TV&:`kH 5.5薄膜微观结构和改善
O{YT6&.S0 习题
D}.Pk>5 参考文献
Fog4m=b`g 第三篇光学薄膜检测技术
6}b1*xQ 第6章薄膜透射率和反射率测量
J/OG\} 6.1光谱分析测试系统的基本
原理 :!',o]"4,k 6.2薄膜反射率的测试
j6Msbq[ 6.3薄膜反射率的测量
!'yCB9]O 6.4利用
激光谐振腔测量激光高反射镜的反射率与损耗
wlSl ~A/s 6.5总结
z`)i"O]-K_ 习题
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