《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
h0F=5| B 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
)@!fLAT 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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H9WYt# onuG 第一篇光学多层膜设计
3EY Ed39E 第1章光学薄膜特性的理论计算
L2@:?WW[ 1.1单色平面电磁波
uO4
LD}A 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
2TGND-(j 1.3光学薄膜特性的理论计算
@|A!?} 1.4光学多层膜内的电场强度分布
ZX/FIxpy 习题
;Z*rY?v 第2章光学薄膜的设计理论
M6wH$!zRa 2.1矢量作图法
Q0xGd(\ 2.2有效界面法
`)cI^! 2.3对称膜系的等效层
+2MF#{ tS 2.4导纳图解技术
l~$)>?ZD 习题
<VZ43I 第3章光学薄膜
系统的设计
g;Ugr8 3.1减反射膜
syu/"KY^! 3.2分束镜
M"*NV(".g 3.3高反射膜
w6Gez~8 3.4干涉截止滤光片
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