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双束聚焦离子束(Dual Beam FIB)
双束聚焦离子束(Dual Beam FIB)
发布:
探针台
2019-08-07 10:45
阅读:
1362
VLOyUt~O#
Dual Beam FIB(双束聚焦离子束)
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双束聚焦离子束是一种多用途的分析技术,可以用于样品定位切割并将隐藏在各种基底
材料
中的缺陷揭露出来。最常见的用途之一就是制备TEM样品。双束FIB可以通过切断/连接
芯片
线路来进行芯片线路修改。
优势
局限
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- 横截面缺陷
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- TEM快速样品制备
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- 线路修改
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- 借助EDX配件进行元素定量分析
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- 晶片尺寸需要小于150mm
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- 瀑布效应有时会给分析造成不便
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