案例:LED和准分子激光的匀滑和整形

发布:piaodongdewo 2014-10-28 13:33 阅读:1463
案例:LED和准分子激光的匀滑和整形
功能
需要的工具箱
基本
光栅
衍射光学
照明
q]PeS~PjF\  
微光学元件的分析和设计
lM0`yh  
透镜阵列
1 /@lZ  
c j-_  
*WS'C}T  
> wsS75n1  
P!uwhha/g  
蝇眼聚光镜
c;RB!`9"  
u~ %xU~v  
*hugQh ]a  
Ekq&.qjYG"  
r7dvj#^  
衍射扩散器
y9<]F6TT  
';T=kS<^_  
8M9LY9C  
TF0DQP  
LHy-y%?i  
单元阵列    光栅单元阵列
sqKLz  
h7 uv0a~0  
R 2.y=P8N  
;4E(n  
Gvo|uB#  
            棱镜单元阵列
mv%Zh1khn/  
2y_R05O0  
/K+GM8rtE  
ZmT N  
e G8Zn<:s  
            反射镜单元阵列
^Ob#B!=  
'3n?1x  
;{@jj0h;  
f[S$ Gu4-  
fDq`.ZW)s  
DOE产生的光分布
[X9s\H  
高帽
'a&(r;  
x{=@~c%eh  
ZH@BHg|}H  
hSBR9g  
y7&8P8R  
平顶
&DUt`Dr w  
ux8:   
PxqRb  
;c>Co:W  
>pS @;t'  
焦线
N.j?:  
J~\`8cds  
d-cK`pSB  
,F4 _ps?(  
gWqO5C~h  
二元二维强度分布
]7#@lL;'0  
ZD)pdNX  
oM')NIW@  
|G!PG6%1  
>n`!S`)9{  
任意二维强度分布
"0ITW46n  
t&GjW6]W  
!i"Z  
d&!ZCq#_e  
+N~?_5lv\s  
点阵
WJB/X"J  
Ru1I,QvCj"  
W0++q=F  
6f$h1$$)^  
\|OW`7Q)k  
点线
g91X*$`]  
e~wuoE:M3  
X={n9*Sd8  
}!^/<|$=  
ZO`{t1   
整形和匀滑
D$ >gAv  
单色LED
2E@ !  
cqr4P`Oj  
- %ul9}.  
dWg09sx  
xj1FCT2  
白光LED
EQ;,b4k?&g  
8Z^9r/%*Z  
`#X\@?'5  
(|(#W+l~  
`L-GI{EJ  
准分子激光
2g)W-M  
%B;e 7 UJ  
sz5&P )X  
T'n~Qf U  
R4?OFhN9  
常见光束整形推荐使用的工具箱
n+C,v.X  
推荐的工具箱
JZCRu_M>|  
eyx;8v cM  
U\_-GS;1  
]3+xJz~=  
aNqhxvwf  
优化
i2PPVT  
局部和全局参数优化
O<@S,/Q4  
(c{<JYEC  
?q&*|-%)_d  
#$<7  
r9x.c7=O  
使用参数运行的全局优化
dy4! >zxF  
dkz79G}e  
U1+X!&OCp  
QQ+?J~  
-^y$RJC  
迭代傅里叶变换算法(IFTA
M]S&vE{D  
l P4A?J+Q  
YKjm_)8]w  
xB1Oh+@i  
Ha U6`IP  
单元阵列设计算法
M_o<6C  
1>JUI5 {  
XQ+KI:g2  
L*A9a  
S nMHk3(\  
公差仿真
rtl|zCst  
高度公差
YS}uJ&WoF  
:{iS0qJ  
X[ERlw1q4Q  
Q%.V\8#|V  
XO*|P\#^  
掩膜蚀刻深度公差
RHV& m()Q  
Us4ijR d  
2#sJ`pdQ  
63ig!-9F  
{X=gjQ9  
边缘圆滑模拟
Gw"H#9J} T  
hf2Q;n&V  
*c\:ogd  
9-<EeV_/  
E!d;ym  
对准误差
__}j {Buk  
AE:IXP|c  
9=(*#gRd  
 ~ccwu  
hpftVEB  
波长误差
N# Ru `;  
J#tGQO  
t)Iu\bP  
<NV[8B#k]  
MGH(= w1  
远场和近场分布的变化
,_K /e  
`"N56  
[4V{~`sF  
U5uO|\+)  
7$ vs X  
由参数运行产生的实验系列
o% ZtE  
(Rqn)<<2  
ar-N4+!@  
?Y:>Ouv*z'  
b' 1%g}  
加工数据的导出
[.M<h^xrB  
GDSII文件
,KXS6:1%5Y  
z1LN|+\}  
\2q!2XWgK  
7Eo a~  
=(ULfz[:  
CIF文件
by 'P}  
t5r,3x!E  
;pK/t=$  
))y`q@  
]a4rA+NFLB  
位图文件
L: hEt  
|7$F r[2d  
ZT*RD2,  
`)sC".b7  
*v+xKy#M  
ASCII/.csv文件
~j%g?;#*  
8lG@8tbW^  
D6cqON0a.  
~>h_#sIBC  
{Kn:>l$*7  
Point-Cloud文件
)%8 ;C]G;  
$a'n{EP  
X,m6#vLK2  
G}!dm0s$  
ya[][!.G  
STL文件
 V6opV&  
oD_n+95B  
=og5Mh,  
JmHEYPt0  
o:`>r/SlL  
蚀刻掩膜的计算
}.j<kmd  
TqzL]'NS+  
S8 +GM  
<g/Z(<{wor  
yV;_]_EO  
自定义
O=2"t%Gc  
可编程元件
Q-scL>IkCb  
Lye^G% {  
[sxJ<  
A .]o&S}  
1}O&q6\"J  
可编程探测器
in>Os@e#  
r]GG9si  
rA<>k/a  
{51<EvyE*  
^T(v4'7  
可编程光源
xqP DL9\  
An cka  
ii< /!B(  
QqpXUyHp[  
0l.\KF  
MATLAB可编程界面
3>Ne_kY  
dRl*rP/  
|wef[|@%  
N*Is_V\R  
nSMw5  
C#可编程界面
%(f&).W  
A6ar@$MZ  
n U0  
dm;C @.ML  
;nzzt~aCC  
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