案例:LED和准分子激光的匀滑和整形

发布:piaodongdewo 2014-10-28 13:33 阅读:1501
案例:LED和准分子激光的匀滑和整形
功能
需要的工具箱
基本
光栅
衍射光学
照明
B o.x  
微光学元件的分析和设计
[yL %+I  
透镜阵列
3X*;.'#Z  
?tE}89c  
$$<9tqA  
mJ<rzX  
l!Z>QE`.S  
蝇眼聚光镜
9c9-1iS  
;#78`x2  
IJxdbuKg  
.}kUD]pW  
?,]%V1(@V`  
衍射扩散器
./jkY7 k  
U# Y ?'3:  
{z|0Y&>[=  
djqSW9  
wJ1qJ!s@  
单元阵列    光栅单元阵列
yopEqO  
Lg|j0-"N  
MA.1t  
9~ajEs  
+VDwDJ)lG  
            棱镜单元阵列
!sEI|47{  
m@.4Wrv  
qc|;qPj   
EyI 9$@4  
4?><x[l2{  
            反射镜单元阵列
Hlp!6\gukp  
eT[ ,k[#q  
6vro:`R ?  
# Fw<R'c  
x% k4Lm  
DOE产生的光分布
Y~dRvt0_w  
高帽
'`T.K<  
>wej1#\3  
?(*KQ#d  
50rCW)[#  
'|':W6m,  
平顶
(NOAHV0H  
Of7j~kdh83  
=+T{!+|6P  
p+snBaAo}  
bnUpH3  
焦线
!9356) cV  
}<uD[[FLB  
Lx8 ^V7 X  
uKo)iB6D  
\! Os!s  
二元二维强度分布
&sR{3pC}  
3*CF!Y%  
rs~RKTv-  
;Y?7|G97*S  
Cj"k Fq4  
任意二维强度分布
d~g  
}%| (G[  
!vr">@}K  
RSG4A>%!mI  
w?Nvm?_]  
点阵
pTOS}A[dh  
2[[ pd&MJZ  
@'?<9 2A  
MkC25  
2fO ~%!.G  
点线
L=Dd`  
E$ q/4  
'-D-H}%;}M  
=9i:R!,W  
Z=z'j8z3  
整形和匀滑
kR%CSLOVy  
单色LED
&1F)/$,v  
Fb*^GH)J  
i:&Y{iPQp  
k^ B'W{  
n/p M[gI  
白光LED
C;oP"K]4=  
r444s8Y  
&~6Z)}  
NlU:e}zGR  
r}WV"/]p  
准分子激光
3_J9SwtN  
_Jj|g9b  
bo$xonV@y  
Z]1~9:7ap  
U/&?rY^|  
常见光束整形推荐使用的工具箱
r*>XkM& M  
推荐的工具箱
U2ecvq[T  
uCNQ.Nbf C  
-J:](p  
?T$i  
\hc}xy 0  
优化
HOsq _)K  
局部和全局参数优化
yh]#V"W3  
C&NoEtL>s  
F{[2|u(4  
#| A @  
3+{hO@ O  
使用参数运行的全局优化
 3iV/7~ O  
Zul]ekv  
|42E'zH&  
6y%BJU.I  
H6/@loO!Xy  
迭代傅里叶变换算法(IFTA
QD+dP nZu  
d7It}7@9  
=Q.2:*d.  
}f^K}*sK$5  
;T"}dJel#  
单元阵列设计算法
w/d9S(  
GaSk &'n$Y  
Z #w1,n88  
lh7{2WQ  
{h&*H[Z z  
公差仿真
_S,2j_R9  
高度公差
=XQ3sk6U  
V>gEF'g  
fk*JoR.o  
S?OK@UEJ  
zST# X}  
掩膜蚀刻深度公差
fT[6Cw5w`  
x\3 ` W  
+SrE  
5}*aP  
9C|T/+R  
边缘圆滑模拟
,{%/$7)  
yeE_1C .  
&^63*x;hE  
0>H<6Ja  
M[Y|$I}  
对准误差
3hO` GM  
[5)1 4% x  
v^[tK2&v  
GQ2&D}zh  
$w[@L7'(  
波长误差
L(`^T`  
m ~fqZK  
 7 g  
#mk#&i3"k  
+**H7: bO  
远场和近场分布的变化
%+gze|J  
S &s7]  
=bN[TD  
6\4oHRJC  
%lv2;-  
由参数运行产生的实验系列
M`BD]{tN}  
YwoytoXK  
r5lp<md  
F m h;d*IT  
|WXu;uf$.u  
加工数据的导出
%j2YCV7  
GDSII文件
ukS@8/eJ  
$'L(}gNv5  
.g(yTA  
kL*Q})  
T-fW[][&$  
CIF文件
(}4tj4d  
fhMtnh:  
_m3PAD4  
^CZn<$  
Y<w2_+(  
位图文件
Yi7`iC  
tq<7BO<6  
VG2TiR1  
YXrTm[P  
3t68cdFlz  
ASCII/.csv文件
"4`h -Y  
4K0N$9pd:  
R/ l1$}  
3z\:{yl  
^:{l~~9iKp  
Point-Cloud文件
T>vHZZiO  
}k\a~<'X  
Pk~P  
N=tyaS(YJ  
|5e/.T$  
STL文件
JaG<.ki  
*ubLuC+b  
ofcoNLX5c  
Kk9 JZ[nT'  
A3$ rPb8  
蚀刻掩膜的计算
j,EE`g&  
[g&Q_+,j  
`hM ]5;0  
uZm<:d2%)  
7" Dw4}T  
自定义
?v8RY,Q30  
可编程元件
,dzbI{@6  
2x$\vL0  
Zp- Av8  
'PV,c|f>  
{< jLfL1  
可编程探测器
0/{-X[z  
v SHb\V#  
kj@#oLd%  
*=@Z\]"?  
I4qzdD  
可编程光源
#mx;t3ja7  
gOgG23 x  
,0lRs   
P1Re7/  
L!mQP  
MATLAB可编程界面
iu*u|e  
!G`w@E9M)  
rZ:  
6$fC R  
` mALx! `  
C#可编程界面
+vDT^|2SF  
gqZ7Pro.  
FE/&<g0,:  
F[RhuNa&'W  
-Ah\a0z  
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