日本制造出仅有一个原子厚的硅薄膜
日本北陆尖端科学技术大学院大学近日宣布,其研究小组开发出能制作大面积硅薄膜“silicene”的技术。这种只有一个原子厚的薄膜,可具备半导体的性质,有望用于制造高速电子线路等。
研究小组在2厘米长、1厘米宽的硅基板表面,覆盖上陶瓷薄膜,然后在特殊真空装置中将其加热到900摄氏度。于是,硅基板所含的硅元素就穿透陶瓷薄膜,出现在陶瓷薄膜表面,形成硅薄膜。如果将基板做得更大,就可以制作出更大面积的硅薄膜。 只有一个碳原子厚的石墨烯是迄今世界上最薄的材料,它的发明者因为这种具备诸多神奇性质的材料获得了2010年诺贝尔物理学奖。“silicene”被誉为硅版石墨烯而受到物理学界的关注。 研究小组带头人、北陆尖端科学技术大学院大学副教授高村由起子指出:“今后的课题是弄清‘silicene’的形成机制,并开发出将这种薄膜从基板上剥离下来的技术。” 分享到:
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最新评论
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tassy 2012-06-03 08:59神奇性质的材料.
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vurtne_000 2012-06-04 06:25神奇性质的材料.
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amiferous 2012-06-04 07:37神奇的材料
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qingming0802 2012-06-04 08:03长知识了
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lvoq7 2012-06-04 08:25顶起~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
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dxawlll 2012-06-04 08:32.....................................
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dafeng3210 2012-06-04 08:45牛。。。。。
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tassy 2012-06-04 08:55知识长了.
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titanlizard 2012-06-04 09:27新技术啊··········
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hanlinvan 2012-06-04 09:29很厉害啊