日本制造出仅有一个原子厚的硅薄膜
日本北陆尖端科学技术大学院大学近日宣布,其研究小组开发出能制作大面积硅薄膜“silicene”的技术。这种只有一个原子厚的薄膜,可具备半导体的性质,有望用于制造高速电子线路等。
研究小组在2厘米长、1厘米宽的硅基板表面,覆盖上陶瓷薄膜,然后在特殊真空装置中将其加热到900摄氏度。于是,硅基板所含的硅元素就穿透陶瓷薄膜,出现在陶瓷薄膜表面,形成硅薄膜。如果将基板做得更大,就可以制作出更大面积的硅薄膜。 只有一个碳原子厚的石墨烯是迄今世界上最薄的材料,它的发明者因为这种具备诸多神奇性质的材料获得了2010年诺贝尔物理学奖。“silicene”被誉为硅版石墨烯而受到物理学界的关注。 研究小组带头人、北陆尖端科学技术大学院大学副教授高村由起子指出:“今后的课题是弄清‘silicene’的形成机制,并开发出将这种薄膜从基板上剥离下来的技术。” 分享到:
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最新评论
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ffjeffery 2012-06-04 12:00长见识了
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lgt2006 2012-06-04 12:03谢谢分享
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hzl-laser 2012-06-04 13:49小日本挺聪明啊!!!
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fengxy 2012-06-04 14:41高科技
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liu.wade 2012-06-04 16:22神奇性质的材料
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lixun201 2012-06-04 18:15不做光学设计搞搞材料算了
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tangbei 2012-06-04 20:51学习了。。。再一遍
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东西南北 2012-06-04 21:41长见识啊
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qwolf 2012-06-04 21:56我的勋章啊 !!!Come on!
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huixing1996 2012-06-04 22:01又是日本人