TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5356
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 WUQa2$.  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 $~ d6KFT  
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照明课程费用 ¥3000元 q_BMZEM  
~HtD]|7  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 G'nSnw  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 3(.Y>er%U  
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Jiru~Vo+  
科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 @KZW*-"  
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课程名称
Lc-Wf zT  
课程编号
jgkY^l  
课程日期
X"HVK+  
课程地点
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授课软件
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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7月7日-7月8日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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9月10日-9月11日
r,L`@A=v  
深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
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12月8日-12月9日
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深圳
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TracePro
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本课程特色: #wh[F"zX  
0p\Kf(|E*6  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 m YhDi  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 ,wyEo>>4)  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 \vW'\}  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 c/(Dg$DbX  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 !!~r1)zN  
'loko#6  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 WO^]bR  
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TracePro 照明设计培训课程表 x Y}.mP  
Ffd;aZ4n  
上课时间
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第一天
V.ae 5@;  
第二天
4:kDBV;v  
9:00-10:30 $5Rx>$~+d  
h6tYy_(G  
简单的照明系统实例光通量计算 o$}$Z&LK  
色度学与应用CIE色坐标
&.Yu%=}  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 e8z?) 4T  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
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10:30-10:45
1Z_ H% (  
课间休息
|"eC0u  
课间休息
SUsdX[byb  
10:45-12:00
@ xTVX'$  
LED色度学实例快速导览TracePro   1h{7dLA  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 x3nUKQtk:8  
TracePro的系统树
}rWg ']  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: JDO n`7!w  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 J@ 8OU  
3 照明透镜均匀化设计优化
J d,9<m $  
12:00-14:00
RXO5p d  
午餐
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午餐
# `@jVX0  
14:00-15:30
Pup%lO`.0  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 xhMAWFg|  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 bPuO~#iN~  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 `SS[[FT$>  
导入原厂IES光源
WkPT6d  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 )X8N|W>vh  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 t&_X{!1X"w  
反光杯面型设计优化
x l=i_  
15:30-15:45
V2'5doo  
课间休息
cSmy M~[  
课间休息
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15:45-17:00
zV"'-iP  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 LeNSjxB  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
9)4_@rf%  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 Na+h+wD.D  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
H,LJ$ py  
!;Pp)SRzKG  
第一天课程内容 Qm*XWo  
q&LCMnv"P  
.k|\xR  
光度学与色度学 }!m}?  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 bE3mOml  
^RYq !l$  
光源建模 光线追迹 Iq 0ew  
照度分析 X-psao0tI`  
光强分析 6<f(Zv? I  
9d!mGnl  
物体建模练习 Xu|2@?l9  
3D模型文件导入导出 S[N9/2  
Epm8S}6K  
!mUO/6Q hq  
IES文件导入 y43ha  
光科IES文件生成器的使用 4Ofkagg  
C3(h j  
方光手电筒设计 \(r$f!`  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC .sKfwcYu4  
Jw{ duM;]  
光源数据图形识别 wGx H  
表面光源特性生成器 j@{dsS: 6  
Wmx3@]<  
s3 VD6xi7  
光线追迹保存光源数据文件 @\W-=YKLg  
手动建立SIEMENS LED D/hq~- g  
2W#^^4^+  
散射ABg模型 反射 透射 ACpecG  
人眼观察效果-亮度计算 j}6h}E&dEr  
[ B*r{  
CREE Xlamp 系列光源 n98sY+$-z  
手电筒透镜设计实例 M; YJpi  
)RQQhB  
第二天课程内容 !t\sg  
F 6C7k9  
LED反光杯矿灯设计实例 QXgfjo  
t=fP^bJ  
练习:1 @|e we. r  
3jHg9M23[^  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 '~1Zr uO  
6E.[F\u  
PMMA 直径 < 23MM (*AJ6BQWa  
6;;2e> e  
练习:2 VmRfnH"  
Z$zX%w  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 r`< x@,  
+[4y)y`  
TracePro的自动优化 xC}'"``s  
光源坐标优化光效 U} w@,6  
反光杯准直优化 wc&D[M]-/  
吸顶灯均匀光斑自动优化 {SD%{  
,LDL%<7t  
LED透镜均匀光斑自动优化 W_,7hvE?"H  
反光杯均匀光斑自动优化 ~ H/ZiBL@  
JVr8O`>T  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 c c/nzB  
M}q;\}  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 &>QxL d#  
u! dx+vd  
设计过程: |nGv:= H@  
第一步:打开初始文件 rmr :G  
光源Source 调节光线数量 Nbv b_  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 {L [   
!!w(`kmn1  
第二步:执行Macro 了解主要参数 k4E9=y?  
透镜 中心厚度 外径 W=OryEV?  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) NytodVZ'3  
dczSW ]%  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 PZlPC#E-  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) # s7e/GdKb  
v>N*f~n  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 1b2  
增加光线数量,看最终效果 };<?W){!H  
oXN(S:ZF  
设计过程参数: E&5S[n9{3  
L4bYVTm|  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) :{B']~Xf  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) ?<Lm58p8  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) 0WYu5|  
xEeHQ7J  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。  yK$aVK"  
(h g6<`  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 Ajo IL  
1&<o3)L:  
CPC TIR透镜设计 .yFO] r1aL  
\fuz`fK:  
阵列Macro的使用 lnm@DWhf  
双向非球面Macro lnLy"f"zV  
G6G-qqXy6  
花生粒LED路灯透镜设计 (: ?bQA'Td  
LED投影机的整体设计 +{C)^!zBK  
rK`^A  
Q w - z  
{9.UeVz  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 2oRwDg&7|  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 _nEVmz!zg  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 \~(kGE--+  
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