ZEMAX(上海)光学设计软件高级兼照明培训班2012年3月24-29日
ZEMAX(上海)光学设计软件 高级兼照明培训班 开课时间:2012年3月24-29日 开课地点:上海市区 ● 主办单位 南京理工大学 电子工程与光电技术学院 光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn ● 课程形式 讲师讲授与学员互动式教学、下机讨论并指导上机练习,教材与PPT同步教学 ● 课程对象 光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 ●课程特色及内容 ZEMAX光学设计高级培训班 3月24日- 3月26日 ☆高级课程回顾并延伸了标准课程的设计思想,进一步加大了设计实例的深入研究,涵盖了更加复杂成像的设计和分析,包括如何根据需求设定不同的求解类型,如何选用局部和全局优化,利用Image Simulation功能进行实际像分析,同时介绍不同环境下的热分析,如何进行消热差分析。详细讲解了ZEMAX中的分析诊断工具,几种优化方法的技巧,各种求解方式的使用,玻璃替代优化等。 在衍射光学理论方面,课程向纵深发展,细致讨论了与衍射相关的物理光学设计(POP光束传播),高斯激光系统设计,小孔滤波设计,衍射二元面设计,双折射系统设计,衍射光学元件、单模与多模光纤耦合系统设计等。 其它设计实例包括:扫描系统F-Theta镜头设计,应用于传真机上的渐变折射率透镜设计,与环境结构相关的热分析,用户自定义面形设计,用户自定义膜层(分光,滤光等),完整序列与非序列系统结合设计。 公差方面,全面系统地描述各种公差来源、公差分析流程及技巧、分布特征,公差操作数设置,补偿器设置,公差分析方法(敏感度或反敏感度),简单光学系统及复杂双通系统公差分析方法以及梯度折射率面应用以及如何进行自定义面的设定等。 |