2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ EY&C[=  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! $jed{N7Y  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 + lB+|yJ+  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) )=E~CpKV  

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08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) EdAR<VfleA	TracePro的演变与7.0功能介绍 PWk?8dL-   1.       TracePro的功能演变 zRy5,,i5=[   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) 3']:1B   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) &[ u6oAR   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) uH&,%k9GVK   l   7.x – 多进程 (multi-core support) ,B~lwF9   2.       V7的功能 #A/]Vs$   l   Grouping in model view (}FW])y   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) : \:~y9X0	TracePro在背光系统的设计与优化 #x5N{8   Outline: ,t%\0[{/B   1.       背光模块的构成与仿真 Oh/b?|imG   2.       光源的建立 f ATA%eA8;   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 Z;fm;X%4   4.       网点的设计与优化
10:10 gR;8ht(pd(	茶叙交流 coffee break WS1&3mOd
10:30(30分钟) 5fegWCJ	荧光粉模拟与LED设计与优化 OY^n0Zof,   Outline: Oj"pj:fB   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 UbY~xs7_   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 XSp x''l   3.       白光LED的设计 %jZp9}h   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ $m:2&lU3	Q&A [%7;f|p?

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 2q-:p8  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场