2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ S"R(6:hkgu  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! a=*JyZ.2  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 {fn1sGA  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) bO }9/Ay  

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08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) vgKdhN2kI	TracePro的演变与7.0功能介绍 Yo,n#<37   1.       TracePro的功能演变 v(Q-RR   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) 3Sn# M{wH   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) Mu$"fYKf"   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) v3r<k NW_   l   7.x – 多进程 (multi-core support) E7@m& R   2.       V7的功能 j$r2=~1   l   Grouping in model view :a)`iJn b   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) =m?x5G^	TracePro在背光系统的设计与优化 :Mq{ES%   Outline: #M[%JTTn   1.       背光模块的构成与仿真 LbnW(wr6:(   2.       光源的建立 /Hyi/D{W   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 )/BbASO$)Z   4.       网点的设计与优化
10:10 #9q ]jjH E	茶叙交流 coffee break GNM+sdy+
10:30(30分钟) OTWp,$YA=	荧光粉模拟与LED设计与优化 2h`Tn{&1/   Outline: eJ60@N\A   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 jJe?pT]o   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 bfKF6   3.       白光LED的设计 Vv*](iM   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ q'`LwAU}	Q&A \s,~|0_V

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 T0%l$#6v  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场