2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ TnET1$@qr*  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! Bu?"b=B*  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 3}O.B r|  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) Y
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bu"Jb4_a>   时间	主题
08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) @ [_I|	TracePro的演变与7.0功能介绍 WH :+HNl1d   1.       TracePro的功能演变 e2w$ ":6>   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) 2L.UEAt   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) =0xuH>WY}w   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) Z4'"*   l   7.x – 多进程 (multi-core support) g-xbb&]   2.       V7的功能 &B3Eq1A   l   Grouping in model view ><iEVrpN   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) X?$Eb	TracePro在背光系统的设计与优化 Lc^nNUzPo   Outline: QQ@, v@j5   1.       背光模块的构成与仿真 s<0yQ-=.?N   2.       光源的建立 >j?5MIm03   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 THQW8 V   4.       网点的设计与优化
10:10 SqY;2:	茶叙交流 coffee break sw*k(i
10:30(30分钟) | (P%<	荧光粉模拟与LED设计与优化 ZTd_EY0q   Outline: C|"T!1MlY4   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 `g%]z@'+?   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 H^"BK -`hs   3.       白光LED的设计 i2b\` 805   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ Cq1t[a	Q&A T,(IdVlJ

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 Wf_aEW&n  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场