清华大学“远场超分辨光学系统、激光制造系统及成像分析系统“专利公布

据国家知识产权局公告，清华大学取得一项名为“远场超分辨光学系统、激光制造系统及成像分析系统”，授权公告号CN116893525B，申请日期为2023年9月。 [$] JvF  
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专利摘要显示，本发明涉及光学系统技术领域，提供一种远场超分辨光学系统、激光制造系统及成像分析系统。远场超分辨光学系统，包括：激光发射装置，所述激光发射装置用于发射激光光束；第一光束调制模块，所述第一光束调制模块用于将激光光束调制为环形能量分布光束；第二光束调制模块，所述第二光束调制模块用于将所述环形能量分布光束调制为可实现环形聚焦的锥形波前相位分布光束；所述激光发射装置、所述第一光束调制模块和所述第二光束调制模块依次同轴设置。本发明提供的远场超分辨光学系统，在能够实现纳米级特征形貌分辨率的聚焦光场基础上，实现厘米级的远场工作距离，大幅提升光学系统的远场光学分辨率以及相关纳米级光学制造的制造效率和制造精度。