线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:542
时间地点 s:3[#&PQpN  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 kW/G=_6  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 QRQZ{m  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 7}X1A!1  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 <L-F3Buu  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 +8Lbz^#  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 r:g\  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 }4|EHhG  
课程概要 "2cOSPpQL  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 q?}C`5%D  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 #r'MfTr  
课程大纲 YRu@; `  
1. Essential Macleod软件介绍 ojd0um6I{  
1.1 介绍软件 Z2g'&,uc#  
1.2 创建一个简单的设计 e|]e\Or>  
1.3 绘图和制表来表示性能 k>($[;k|b  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 5#DMizv6  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) k*$WAOJEW  
1.6 特定设计的公式技术 Cyg2o<O@  
1.7 交互式绘图 TR DQ+Z  
2. 光学薄膜理论基础 ! ?g+'OM  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |7|S>h^  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 RA0;f'"`  
3. 材料管理 bk0>f   
3.1 材料模型 lFzVd N  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 {kpF etXt?  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 *ub2dH4/  
3.4 基板光学常数的提取 gNCS*a  
4. 光学薄膜设计优化方法 :PO./IBX  
4.1 参考波长与g %O \@rws  
4.2 四分之一规则 E 2n z  
4.3 导纳与导纳图 /|?$C7%a\D  
4.4 斜入射光学导纳 =]7o+L4  
4.5 光学薄膜设计的进展 t8^1wA@@V  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 >d + }$dB  
4.6.1 优化目标设置 w(oK   
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 5XKTb  
4.6.3 膜层锁定和链接 r:H]`Uo'r  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 r: K1PO  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ~5KcbGD~  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 'UlVc2%{  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号  2v{WX  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 J,Sa7jv[  
5.5 如何在Function中编写脚本 :G _  
6. 光学薄膜系统案例 Nr4}x7  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 l2 .S^S  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 T\l`Y-vu  
6.3 Stack应用范例说明 _uIS[%4g  
7. 薄膜性能分析 eEZgG=s  
7.1 电场分布 0AB a&'h  
7.2 公差与灵敏度分析 K\K& K~Z  
7.3 反演工程 8b/$Qp4d  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 `!]|lI!GW  
8. 真空技术 RjW wsC~B  
8.1 常用真空泵介绍 "jL>P )  
8.2 真空密封和检漏 _T\~%  
9. 薄膜制备技术 @](vFb  
9.1 常见薄膜制备技术 JEto_&8,C  
10. 薄膜制备工艺 QH'*MY  
10.1 薄膜制备工艺因素 $TIeeTB  
10.2 薄膜均匀性修正技术 &L8RLSfX  
10.3 光学薄膜监控技术 xw#CwMbbi  
11. 激光薄膜 v) n-  
11.1 薄膜的损伤问题 i'ap8Dr  
11.2 激光薄膜的制备流程 /!5Wd(:  
11.3 激光薄膜的制备技术 )?rq8VO  
12. 光学薄膜特性测量 h^3gYL7O6  
12.1 薄膜光谱测量 5u$.!l8Nl  
12.2 薄膜光学常数测量 R"t#dG]1t  
12.3 薄膜应力测量 h@%Xy(/m'  
12.4 薄膜损伤测量 @A,8 >0+  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 :kgh~mx5LF  
3aqH!?rVU  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
F[ E'R.:  
内容简介 tMl y*E  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。  Vl_6nY;  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 7b"fpB  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 w#.3na  
u BEw YQB  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
alb3oipOB  
目录 lod+]*MD  
Preface 1 `O\>vn  
内容简介 2 jq~`rE h9  
目录 i @|Pm%K`1  
1  引言 1 3%POTAw%  
2  光学薄膜基础 2 !5*VBE\  
2.1  一般规则 2 dseI~}  
2.2  正交入射规则 3 j yHa}OT  
2.3  斜入射规则 6 2 }xePX9?  
2.4  精确计算 7 ? |M-0{  
2.5  相干性 8 _}R$h=YD  
2.6 参考文献 10 N3G9o`k  
3  Essential Macleod的快速预览 10 _U~R   
4  Essential Macleod的特点 32 L.;b( bFe  
4.1  容量和局限性 33 Myc-lCE  
4.2  程序在哪里? 33 h#0n2o#  
4.3  数据文件 35 SAm%$v z%M  
4.4  设计规则 35 opa/+V3E4  
4.5  材料数据库和资料库 37 %1#\LRA(  
4.5.1材料损失 38 UQ0!tFx  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 *V&M5  
4.5.2 材料库 41 H oQb.Z  
4.5.3导出材料数据 43 ";/]rwHa)  
4.6  常用单位 43 Ct=bZW"j/  
4.7  插值和外推法 46 VzG|Xtco [  
4.8  材料数据的平滑 50 l,@>J9}Se  
4.9 更多光学常数模型 54 k{vj,#  
4.10  文档的一般编辑规则 55 u&~Xgq5[  
4.11 撤销和重做 56 {~apY,3  
4.12  设计文档 57 971=OEyq*  
4.10.1  公式 58 k0Vri$x  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 v`4w=!4  
4.10.3  沉积密度 59 fN2Sio:  
4.10.4 平行和楔形介质 60 N'b GL%  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 !S?Fz]  
4.10.4  性能 61 BK!Yl\I<  
4.10.5  保存设计和性能 64 KM&P5}  
4.10.6  默认设计 64 J&6p/'UPZ  
4.11  图表 64 >LPb>t5%p  
4.11.1  合并曲线图 67 6J;!p/C8E  
4.11.2  自适应绘制 68 !8 @yi"n  
4.11.3  动态绘图 68 zgjg#|  
4.11.4  3D绘图 69 ? 2}%Rb39  
4.12  导入和导出 73 ?+}Su'pv}  
4.12.1  剪贴板 73 b!H1 |7>  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 j*3;G+  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 INnd TF  
4.13  背景 77 *~8F.c x  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 [Qs`@u<%  
4.15  生成Rugate 84 {C w.?JU  
4.16  参考文献 91 S257+ K9  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 9~V'Wev  
5.1  Jobs 92 -mJs0E*g  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 "dpjxH=xO  
5.3  输入材料 94 i[z 2'tx4  
5.4  设计数据文件夹 95 NDRD PD  
5.5  默认设计 95 !gI0"p?  
6  细化和合成 97 HxbzFu?h  
6.1  优化介绍 97 21!X[) r  
6.2  细化 (Refinement) 98 u(zgKoF9A  
6.3  合成 (Synthesis) 100 :'DX M{  
6.4  目标和评价函数 101 |5flvkid  
6.4.1  目标输入 102 v7(7WfqP  
6.4.2  目标 103 RxP~%oADw  
6.4.3  特殊的评价函数 104 rl.K{Uad  
6.5  层锁定和连接 104 fTEZ@#p  
6.6  细化技术 104 8*-)[+s9il  
6.6.1  单纯形 105 bZ`#;D<  
6.6.1.1 单纯形参数 106  r(^00hvH  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 2D!jVr!  
6.6.2.1 Optimac参数 108 8cO?VH,nk  
6.6.3  模拟退火算法 109 '6zZ`Ll9  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 NLZ5 5yo$  
6.6.4  共轭梯度 111 _sy{rnaqvb  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 eX\v;~W*  
6.6.5  拟牛顿法 112 r2:{r`ocM  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ue8 @=}  
6.6.6  针合成 113 -gGw_w?)(  
6.6.6.1 针合成参数 114 !$n@:W/  
6.6.7 差分进化 114 ^S|qGu,G  
6.6.8非局部细化 115 23CvfP  
6.6.8.1非局部细化参数 115 <?A4/18K  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 aH;AGbp  
6.7.1  细化 116 pnu?=.O  
6.7.2  合成 117 J>R $K  
6.8  参考文献 117 M XW1 :  
7  导纳图及其他工具 118 ~Jf(M ^E  
7.1  简介 118 `NhG|g  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 nHRsr x  
7.2.1  四分之一波长规则 119 xy`Y7W=  
7.2.2  导纳图 120 {n>.Y -=  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 W(s5mX,Kv  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 3^KR{N p  
7.5  斜入射导纳图 141 l4DBGZB  
7.6  对称周期 141 #j7&2L  
7.7  参考文献 142 oY~q^Y  
8  典型的镀膜实例 143 TQb/lY9*  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ";dS~(~  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 F7' MoH  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 l!gX-U%-  
8.4  W-膜层 148 &wDZ@{h  
8.5  V-膜层 149 Y;Nq(  
8.6  V-膜层高折射基底 150 7a>+ma\  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 hXFT(J=  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 S\ak(<X  
8.9  四层抗反射薄膜 153 I3 6@x`f  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ZeG4z({af  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 G#Bm">+  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 @V>]95RX  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ty5# a  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 }bi hlyB&Q  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 4wv0~T$;x  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 J#:`'eEG  
8.17  1/4波长堆栈 162 nt"\FZ*;3  
8.18  陷波滤波器 163 Qu#[PDhb  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 mm_)=Ipj>  
8.20  褶皱 165 ;a|%W4"  
8.21  消偏振分光器1 169 <:AA R2=  
8.22  消偏振分光器2 171 ~_0XG0oA  
8.23  消偏振立体分光器 172 N5W!(h)  
8.24  消偏振截止滤光片 173 u~,hT Y(%  
8.25  立体偏振分束器1 174  !'!\>x$  
8.26  立方偏振分束器2 177 "KF]s.  
8.27  相位延迟器 178 F,as>X#  
8.28  红外截止器 179 a`:F07r  
8.29  21层长波带通滤波器 180 !d 4DTo  
8.30  49层长波带通滤波器 181 >'#vC]@  
8.31  55层短波带通滤波器 182 .|CoueH  
8.32  47 红外截止器 183 'uzHI@i  
8.33  宽带通滤波器 184 HjzAFXRG  
8.34  诱导透射滤波器 186 (mbm',%-(  
8.35  诱导透射滤波器2 188 =,6X_m  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 i{9.bpp/  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 `_.:O,^n^  
8.35  增益平坦滤波器 193 z(,j)".  
8.38  啁啾反射镜 1 196 -+i7T^@|  
8.39  啁啾反射镜2 198 mS}.?[d"  
8.40  啁啾反射镜3 199 "*HEXru#B  
8.41  带保护层的铝膜层 200 $ r-rIW5\  
8.42  增加铝反射率膜 201 6Ik v}q_j  
8.43  参考文献 202 E3{kH 7_'\  
9  多层膜 204 A|PZ<WAY  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ajG_t  
9.2  内部透过率 204 14l6|a  
9.3 内部透射率数据 205 KXz7l\1Gb  
9.4  实例 206 K}N~KDW R|  
9.5  实例2 210 p<pGqW  
9.6  圆锥和带宽计算 212 *'?V>q,  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 CXuMNa  
10  光学薄膜的颜色 216 NZG ^B/  
10.1  导言 216 T+gH38!e  
10.2  色彩 216 ?ecR9X k  
10.3  主波长和纯度 220 3A0Qjj=  
10.4  色相和纯度 221 mQt0?c _  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 2zbn8tO  
10.6 色差 226 d~6UJ=]@8  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 w`< {   
10.8  颜色渲染指数 234 <Vt"%C  
10.9  色差计算 235 Ll%}nti  
10.10  参考文献 236 Kc@Sw{JR#7  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Mcz;`h|EW  
11.1  短脉冲 238 zgGJ<=G.  
11.2  群速度 239 !]fSS)\H  
11.3  群速度色散 241 eu]qgtg~U  
11.4  啁啾(chirped) 245 YuHXm3[  
11.5  光学薄膜—相变 245 KRR)pT  
11.6  群延迟和延迟色散 246 GbQg(%2F  
11.7  色度色散 246 gw">xt5  
11.8  色散补偿 249 V@y&n1?6  
11.9  空间光线偏移 256 zFDtC-GF  
11.10  参考文献 258 RkTYvAk|kY  
12  公差与误差 260 .F%jbnKd_  
12.1  蒙特卡罗模型 260 OXl0R{4  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 n``9H 91  
12.2.1  误差工具 267 I!(BwYd  
12.2.2  灵敏度工具 271 {md5G$* %  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 F.@|-wq&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 g-u4E^,*|  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Gf+X<a  
12.3  参考文献 276 b&Laxki  
13  Runsheet 与Simulator 277 S !lrnH  
13.1  原理介绍 277 j4`+RS+q  
13.2  截止滤光片设计 277 L?M x"  
14  光学常数提取 289 WuI$   
14.1  介绍 289 VMo:pV  
14.2  电介质薄膜 289 <gFisc/#r  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ?|_i"*]l  
14.4  基底的参数提取 302 ={]POL\ A  
14.5  金属的参数提取 306 {,(iL8,^  
14.6  不正确的模型 306 q<^MC/]  
14.7  参考文献 311 6f t6;*,  
15  反演工程 313 .!+7|us8l\  
15.1  随机性和系统性 313 k}qCkm27  
15.2  常见的系统性问题 314 f<oU" WM  
15.3  单层膜 314 Brd9"M|d  
15.4  多层膜 314 zTPNQ0=|  
15.5  含义 319 'R- g:X\{  
15.6  反演工程实例 319 \"L0d1DK)  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 6kAGOjO  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 x TH3g^E  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 r=7!S8'  
16.1  光学性质的热致偏移 329 e^x%d[sU  
16.2  应力工具 335 W1LR ,:$  
16.3  均匀性误差 339 d0Ubt  
16.3.1  圆锥工具 339 qu'D"0  
16.3.2  波前问题 341 K3WaBcm  
16.4  参考文献 343 mfffOG  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 >lyE@S sA  
17.1  引言 345 Jk7 Am-.0  
17.2  操作数 345 paMK]-  
18  如何在Function中编写脚本 351 (c"!&&S^ =  
18.1  简介 351 *5hbD-a:  
18.2  什么是脚本? 351 nz#eJ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 y!rJ}e  
18.4  基础 352 ?1O` Rd{tn  
18.4.1  Classes(类别) 352 oSjYp(h:  
18.4.2  对象 352 ^ uwth  
18.4.3  信息(Messages) 352 jY=M{?h''  
18.4.4  属性 352 %.'oY%  
18.4.5  方法 353 6hcK%0z  
18.4.6  变量声明 353 Bga4kjfmk  
18.5  创建对象 354 m6}_kzFz  
18.5.1  创建对象函数 355 !mB `FC  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 >Y+m54EE  
18.5.3 丢弃对象 356 ,Jn` qvmi  
18.5.4  总结 356 qzO5p=}  
18.6  脚本中的表格 357 Y" rODk1  
18.6.1  方法1 357 W:9l"'  
18.6.2  方法2 357 3J/l>1[  
18.7 2D Plots in Scripts 358 \[)SK`cwd  
18.8 3D Plots in Scripts 359 @6aJh< c  
18.9  注释 360 (#)XRm{t  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 !h<O c!9  
18.11  一个更高级的脚本 362 P3Vh|<'7  
18.12  <esc>键 364 2|WM?V&  
18.13 包含文件 365 wa`c3PQGu  
18.14  脚本被优化调用 366 8$Zwk7 w8A  
18.15  脚本中的对话框 368 3-1a+7fD  
18.15.1  介绍 368 ]ZW-`UMO  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Rh$+9w  
18.15.3  输入框函数 370  &"27U  
18.15.4  自定义对话框 371 _%\%  
18.15.5  对话框编辑器 371 .Y8P6_  
18.15.6  控制对话框 377 hsYE&Np_Q  
18.15.7  更高级的对话框 380 c9c3o{(6Y  
18.16 Types语句 384 bGy|T*@  
18.17 打开文件 385 0_Elxc  
18.18 Bags 387 Xh3b=i|K  
18.13  进一步研究 388 Q00v(6V46  
19  vStack 389 ?_p!teb  
19.1  vStack基本原理 389 H5 :,hrZY  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Zg>]!^X8  
19.3  五棱镜 393 2m*/$GZ  
19.4 光束距离 396 .)p%|A#^  
19.5 误差 399 3p?nQ O)L  
19.6  二向分色棱镜 399 ]%FP*YU4O  
19.7  偏振泄漏 404 f4F%\ "  
19.8  波前误差—相位 405 $d4&H/u^  
19.9  其它计算参数 405 F;kKn:XL  
20  报表生成器 406 Qe4 % A  
20.1  入门 406 2i !\H$u`  
20.2  指令(Instructions) 406 ^,5%fl  
20.3  页面布局指令 406 s16, *;Z  
20.4  常见的参数图和三维图 407 D&G?Klq  
20.5  表格中的常见参数 408 ~ISY( &  
20.6  迭代指令 408 7sWe32  
20.7  报表模版 408 qdmAkYUC  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ""|;5kJS4  
21  一个新的project 413 :=5X)10  
21.1  创建一个新Job 414 1w7XM0SHcn  
21.2  默认设计 415 ~Lg ;7i1L  
21.3  薄膜设计 416 Tr|PR t  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ?E}gm>  
21.5  显色指数计算 422 V8&'dhuG  
21.6  电场分布 424 mpVD;)?JmM  
后记 426 w:iMrQeJg  
Hvy$DX|p  
v;Q*0%~  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 1;i|GXY:h  
B4*y-Q.*  
《Essential Macleod中文手册》
fE&s 6w&  
,oSn<$%/q  
目  录 +xsGa{`  
HY?#r]Ryt  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 KsK]y,^Z  
第1章 介绍 ..........................................................1 nHQ *#&$  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 (!J;g|58  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 aJF/y3  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ~x+'-2A46  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 G51-CLM,  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 8bs'Ek{'o  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 C&%NO;Ole  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 |cp_V  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 -1NR]#P'  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 m,62'  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 [Ob'E!;<  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 Li0+%ijM  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 <sM_zoprc  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 _*8 6  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 _3wK: T{:  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 q #7Nk)<.  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 n9k  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ~Cw7.NA{3  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 4,h)<(d{  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 /FpPf[  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 hA1B C3  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 XqhrQU|wM  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 j8bA"r1  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 IMM sOl  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Iw)m9h  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ?m7i7Dz   
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 3O1Lv2)_  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ,aBy1K  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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