线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:843
时间地点 M`q|GY  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ]=ApYg7!  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 @",#'eC"  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 K%L6UQ;  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 vy5Fw&?"  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
Qp[ Jw?a  
特邀专家介绍 (y?F8]TfM  
u59l)8=  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 |S).,B  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 fnr8{sr.2Z  
课程概要 Iv3yDL;  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 7neJV  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 />8A?+g9u  
课程大纲 jyF*JQjK4  
1. Essential Macleod软件介绍 ORP<?SG55u  
1.1 介绍软件 h4K Mhr  
1.2 创建一个简单的设计 Y)lr+~84f  
1.3 绘图和制表来表示性能 NBasf n  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 f{L;,  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Hc<@T_h+2  
1.6 特定设计的公式技术 /d6Rd l`w  
1.7 交互式绘图 _2`b$/)-  
2. 光学薄膜理论基础 aqqo>O3 s  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ) YwEl72c  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 I:oEt  
3. 材料管理 C[%&;\3S@  
3.1 材料模型 Va.TUz4  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 =$bF[3D  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 #E=8kbD7  
3.4 基板光学常数的提取 vf>d{F^rv  
4. 光学薄膜设计优化方法 1Zp/EYWa{  
4.1 参考波长与g GK,{$SC+=  
4.2 四分之一规则 03|nP$g  
4.3 导纳与导纳图 %=2sz>M+  
4.4 斜入射光学导纳 EI?8/c  
4.5 光学薄膜设计的进展 tvVf)bbz  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 v,Z]Vqk  
4.6.1 优化目标设置 OMmfTlM%  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) }m?Ut|  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?&,6Y'"  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 a]P%Y.? r  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 wDoCc:  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 q[P>s{"  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Ca?w"m~h  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 h"8[1 ;  
5.5 如何在Function中编写脚本 L3Y2HZ  
6. 光学薄膜系统案例 /<[_V/g[t?  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 paN=I=:*M  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 $1d{R;b[  
6.3 Stack应用范例说明 ^J^~5q8  
7. 薄膜性能分析 [bo"!Qk%  
7.1 电场分布 3j$, L(  
7.2 公差与灵敏度分析 2<n 18-|OQ  
7.3 反演工程 "8z Me L  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真  Jn|<G  
8. 真空技术 >m%TUQ#%  
8.1 常用真空泵介绍 0)h.[O8@>  
8.2 真空密封和检漏 8'3&z-  
9. 薄膜制备技术 yVn%Bz' [  
9.1 常见薄膜制备技术 /{8Y,pZbu  
10. 薄膜制备工艺 s8]%L4lvu  
10.1 薄膜制备工艺因素 DH _~,tK9  
10.2 薄膜均匀性修正技术 zCA8}](C^  
10.3 光学薄膜监控技术 qgEzK  
11. 激光薄膜 |p+FIr+  
11.1 薄膜的损伤问题 b|x B <  
11.2 激光薄膜的制备流程 />9`Mbg[G  
11.3 激光薄膜的制备技术 2w1Mf<IXPo  
12. 光学薄膜特性测量 ]x8Y]wAU&{  
12.1 薄膜光谱测量 :$yOic}y  
12.2 薄膜光学常数测量 7g{JE^u  
12.3 薄膜应力测量 }2BNy9q@  
12.4 薄膜损伤测量 0]DX KI  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 W6EEC<$JL  
Q2)5A& U\  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
"3Dnp?gB  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 tZ@&di:-F  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 oui0:Vy<  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :u=y7[I  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]moBVRd  
CP"5E?dcK  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
MxGQM>  
目录 zN+jn  
Preface 1 >yVrIko  
内容简介 2 x?0(K=h,  
目录 i u\xrC\Ka  
1  引言 1 u|ihUE!h  
2  光学薄膜基础 2 *)\y52z  
2.1  一般规则 2 y}U'8*,  
2.2  正交入射规则 3 $E:z*~ ?  
2.3  斜入射规则 6 loq2+(  
2.4  精确计算 7 {t0!N]'  
2.5  相干性 8 Oa@SyroF=  
2.6 参考文献 10 Q(1R=4?.Z  
3  Essential Macleod的快速预览 10 yl' IL#n]r  
4  Essential Macleod的特点 32 066\zAPdH  
4.1  容量和局限性 33 !.@:t`w  
4.2  程序在哪里? 33 ,e`n2)  
4.3  数据文件 35 !VG ]~lc  
4.4  设计规则 35 @wAYhnxq  
4.5  材料数据库和资料库 37 n~w[ajC/  
4.5.1材料损失 38 bccf4EyQ Y  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 c(3idO*R)  
4.5.2 材料库 41 ep48 r>  
4.5.3导出材料数据 43 yQu/({D  
4.6  常用单位 43 <7ag=IgDy  
4.7  插值和外推法 46 Gh{9nM_\"  
4.8  材料数据的平滑 50 K;\fJ2ag  
4.9 更多光学常数模型 54 Pa|*Jcr  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ZL!5dT&@W  
4.11 撤销和重做 56 T0@<u  
4.12  设计文档 57 a{By U%  
4.10.1  公式 58 ]wbV1Y"  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 cUi6 On1C  
4.10.3  沉积密度 59 VeFfkg4  
4.10.4 平行和楔形介质 60 6(A"5B=\  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 =7~;*Ts  
4.10.4  性能 61 OCqknA  
4.10.5  保存设计和性能 64 [zrFW g6N  
4.10.6  默认设计 64 <1~_nt~(*  
4.11  图表 64 {t'SA]|g  
4.11.1  合并曲线图 67 KmD#Ia  
4.11.2  自适应绘制 68 *'n=LB8R  
4.11.3  动态绘图 68 yWH!v]S  
4.11.4  3D绘图 69 4>HQ2S{t  
4.12  导入和导出 73 1[RI 07g7*  
4.12.1  剪贴板 73 f.vJJa  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 NPE 4@c_a@  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _w5c-\-PUM  
4.13  背景 77 hx~rq `{  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ;Q5o38(  
4.15  生成Rugate 84 KC<K*UHPAH  
4.16  参考文献 91 $O;a~/T  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 `[_p,,}Ir  
5.1  Jobs 92 sk t9mU  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 W{}M${6&  
5.3  输入材料 94 E|VTbE YG  
5.4  设计数据文件夹 95 =$kSn\L,  
5.5  默认设计 95 Ob|tA  
6  细化和合成 97 W>u$x=<T  
6.1  优化介绍 97 7<5=fYb r  
6.2  细化 (Refinement) 98 vcOw`oS  
6.3  合成 (Synthesis) 100 /)Weg1b  
6.4  目标和评价函数 101 "@xL9[d  
6.4.1  目标输入 102 9.Sv"=5gz  
6.4.2  目标 103 yW}x  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ~^g*cA t}  
6.5  层锁定和连接 104 QA~Lm  
6.6  细化技术 104 EhOB+Mc1  
6.6.1  单纯形 105 ch/DBu  
6.6.1.1 单纯形参数 106 5*y6{7FLp  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 4"+v:t)z6{  
6.6.2.1 Optimac参数 108 <Um5w1  
6.6.3  模拟退火算法 109 6ZC~q=my  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 \Dx)P[Ur  
6.6.4  共轭梯度 111 llpgi,-=  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 zwlz zqV  
6.6.5  拟牛顿法 112 (%]M a  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [5P1 pkZ  
6.6.6  针合成 113 xZMAX}8v  
6.6.6.1 针合成参数 114 -wnBdL  
6.6.7 差分进化 114 X/S%0AwZ  
6.6.8非局部细化 115 x{ VUl  
6.6.8.1非局部细化参数 115  1W>0  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Q3LScpp  
6.7.1  细化 116 *nY$YwHB  
6.7.2  合成 117 - SCFWc  
6.8  参考文献 117 DPlmrN9@=  
7  导纳图及其他工具 118 <'P+2(Oi  
7.1  简介 118 s#(<zBZ9p#  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 >% E=l  
7.2.1  四分之一波长规则 119 t)l^$j !h@  
7.2.2  导纳图 120 DV~g  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ;.d{$SO  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 g+ cH  
7.5  斜入射导纳图 141 9+frxD&pO  
7.6  对称周期 141 ZX40-6#O  
7.7  参考文献 142 4~0 @(3  
8  典型的镀膜实例 143 S\A9r!2  
8.1  单层抗反射薄膜 145 'u%SI]*;>  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 dYp} R>+  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8wzQr2:  
8.4  W-膜层 148 Y:5Gp8Vi  
8.5  V-膜层 149 ju/#V}N  
8.6  V-膜层高折射基底 150 @9h6D<?  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 {mB &xz:b  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 DcNwtts  
8.9  四层抗反射薄膜 153 .:TSdusr~  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 @?[}\9dW  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {pk&dB _Bu  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 8G_KbS  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 M_#^zo "x  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 O['5/:-  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ap.L=vn  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 S>EO6z#   
8.17  1/4波长堆栈 162 /cZ-+cu  
8.18  陷波滤波器 163 h1QrFPQnu  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 A@ 4Oq  
8.20  褶皱 165 pm'i4!mY<P  
8.21  消偏振分光器1 169 x@,B))WlGr  
8.22  消偏振分光器2 171 SHUn<+/e  
8.23  消偏振立体分光器 172 _!E/ em  
8.24  消偏振截止滤光片 173 {'q(a4  
8.25  立体偏振分束器1 174 h[j(@P  
8.26  立方偏振分束器2 177 [7=?I.\Cr7  
8.27  相位延迟器 178 )ZDqj  
8.28  红外截止器 179 _{0IX  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $ud\CU:r  
8.30  49层长波带通滤波器 181 6vebGf  
8.31  55层短波带通滤波器 182 |F52)<\  
8.32  47 红外截止器 183 Q`(h  
8.33  宽带通滤波器 184 :LX (9f   
8.34  诱导透射滤波器 186 l=ZX9<3  
8.35  诱导透射滤波器2 188 pq<2:F:Kl  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 6^hCW`jG  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Q`(.Blgm;  
8.35  增益平坦滤波器 193 P#ot$@1v  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ZD`0(CkXb  
8.39  啁啾反射镜2 198 :P2 0g](  
8.40  啁啾反射镜3 199 OA8iTn  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ($^=f}+  
8.42  增加铝反射率膜 201 pwr]lV$w  
8.43  参考文献 202 Xe:e./@  
9  多层膜 204 R\n*O@E v3  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 9i/VvW  
9.2  内部透过率 204 >iFi~)i_4y  
9.3 内部透射率数据 205 ]sV) '-  
9.4  实例 206 3`DwKv `+  
9.5  实例2 210 J nf@u  
9.6  圆锥和带宽计算 212 aj@<4A=;  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 E0<$zP}V}F  
10  光学薄膜的颜色 216 SW*Y u{  
10.1  导言 216 C: <TJ  
10.2  色彩 216 o_&*?k*  
10.3  主波长和纯度 220  B/ACU  
10.4  色相和纯度 221 Rkz[x  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 V75P@jv5J  
10.6 色差 226 )E (9 R(  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 X1~ WQ?ww  
10.8  颜色渲染指数 234 137:T:  
10.9  色差计算 235 G}p* oz~  
10.10  参考文献 236 i[a1ij=  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 !Di*y$`}b  
11.1  短脉冲 238 >p@v'h/Cr  
11.2  群速度 239 ":,J<|Oy  
11.3  群速度色散 241 %t J@)  
11.4  啁啾(chirped) 245 t{Xf3.  
11.5  光学薄膜—相变 245 $ jgEB+  
11.6  群延迟和延迟色散 246 $WHmG!)*  
11.7  色度色散 246 },(Ln%M  
11.8  色散补偿 249 ^%~ux0%^T  
11.9  空间光线偏移 256 `%A>{A"  
11.10  参考文献 258 sj\kp ni  
12  公差与误差 260  Vq K/GWg  
12.1  蒙特卡罗模型 260 23~KzC  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 =P\Tk)(`  
12.2.1  误差工具 267 ;ZowC#j  
12.2.2  灵敏度工具 271 $mq @g  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?wYvBFRn7"  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 l!YjDm{E  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 S67>yqha  
12.3  参考文献 276 v'H\KR-;  
13  Runsheet 与Simulator 277 e:kd0)9  
13.1  原理介绍 277 EwH_k  
13.2  截止滤光片设计 277 %$H~  
14  光学常数提取 289 g6 Nw].{  
14.1  介绍 289 0) T`&u3!  
14.2  电介质薄膜 289 leomm+f^  
14.3  n 和k 的提取工具 295 yi$Jk}w  
14.4  基底的参数提取 302 sJ q^>"|J  
14.5  金属的参数提取 306 ZVX!=3VT  
14.6  不正确的模型 306 pXv@ QD#!  
14.7  参考文献 311 dpWBY3(7a  
15  反演工程 313 +U];  
15.1  随机性和系统性 313 EAi!"NJ  
15.2  常见的系统性问题 314 "J(W)\  
15.3  单层膜 314 '2BE"e  
15.4  多层膜 314 /!L#cUog  
15.5  含义 319 +9d]([Lx  
15.6  反演工程实例 319 -^+!:0';  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ?cdjQ@j~h  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 )`B n"=  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ~Dz`O"X3  
16.1  光学性质的热致偏移 329 gV-x1s+  
16.2  应力工具 335 8#&axg?a  
16.3  均匀性误差 339 WC<K(PP  
16.3.1  圆锥工具 339 ^~Dmb2h  
16.3.2  波前问题 341 N! N>/9  
16.4  参考文献 343 DsZBhjCB  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 C/L+gU&  
17.1  引言 345 bQFMg41*w7  
17.2  操作数 345 3Sb'){.MT+  
18  如何在Function中编写脚本 351 FJl_2  
18.1  简介 351 }g\1JSJ%H  
18.2  什么是脚本? 351 X[{tD#  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 7@*l2edXm+  
18.4  基础 352 )lsR8Hi8  
18.4.1  Classes(类别) 352 X|iWnz+^  
18.4.2  对象 352 1ehl=WN  
18.4.3  信息(Messages) 352 |JD"iP:  
18.4.4  属性 352 G$)f5_]7{  
18.4.5  方法 353 6*]g~)7`Q~  
18.4.6  变量声明 353 sWc_,[b  
18.5  创建对象 354 (+^z9p7/!  
18.5.1  创建对象函数 355 ;@R=CQ6  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 CMI V"-  
18.5.3 丢弃对象 356 {+V]saYP  
18.5.4  总结 356 bXw!fYm&  
18.6  脚本中的表格 357 YAoGVey  
18.6.1  方法1 357 0~:Eo89  
18.6.2  方法2 357 WK<:(vu.  
18.7 2D Plots in Scripts 358 3r]:k) J  
18.8 3D Plots in Scripts 359 `$5 QTte  
18.9  注释 360 ^[]@dk9  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 >m-VBo  
18.11  一个更高级的脚本 362 CC<(V{Png  
18.12  <esc>键 364 c{X:0man  
18.13 包含文件 365 hhU: nw  
18.14  脚本被优化调用 366 1'G&PX   
18.15  脚本中的对话框 368 SZhW)0  
18.15.1  介绍 368 R rtr\ a  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 1"4Pan  
18.15.3  输入框函数 370 +%%Ef]  
18.15.4  自定义对话框 371 c\\'x\J7  
18.15.5  对话框编辑器 371 E9"P~ nz  
18.15.6  控制对话框 377 X*^^W_LH.  
18.15.7  更高级的对话框 380 g$N/pg2>cT  
18.16 Types语句 384 N#Y|MfLc  
18.17 打开文件 385 WX9ABh&5  
18.18 Bags 387 dpPu&m+  
18.13  进一步研究 388 Tt.#O~2:9  
19  vStack 389 ;;#_[Zl  
19.1  vStack基本原理 389 +6$|No  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 'Cv>V"X: `  
19.3  五棱镜 393 = @EN]u  
19.4 光束距离 396 y| 7sh  
19.5 误差 399 Hv~& RZpe  
19.6  二向分色棱镜 399 DNGXp5I  
19.7  偏振泄漏 404 Gz,?e]ZV  
19.8  波前误差—相位 405 5>e#SW  
19.9  其它计算参数 405 R iPxz=kr  
20  报表生成器 406 m);0sb  
20.1  入门 406 $:i%\7=  
20.2  指令(Instructions) 406 '[z529HN  
20.3  页面布局指令 406 L xg,BZV  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;tZ;C(;<  
20.5  表格中的常见参数 408 |K(2_Wp  
20.6  迭代指令 408 1[g -f ,  
20.7  报表模版 408 U_8 Z&  
20.8  开始设计一个报表模版 409 5x=aJl;G  
21  一个新的project 413 E<~Fi .M;\  
21.1  创建一个新Job 414 8?za&v  
21.2  默认设计 415 XjRk1 ~  
21.3  薄膜设计 416 8nj^x?bn  
21.4  误差的灵敏度计算 420 U $2"ZyFii  
21.5  显色指数计算 422 s.#%hPX{  
21.6  电场分布 424 XB.xIApmy  
后记 426 L*QX21@wC  
&&daQg4Ha  
c&mLK1A6  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ZR," w  
RnaxRnXVR  
《Essential Macleod中文手册》
AVnH|31dC~  
_&wrA3@/L  
目  录 9*&c2jh  
+I$,Y~&`>  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vh/&KTe?:  
第1章 介绍 ..........................................................1 e2><Y<  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ;J>upI   
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ,l47;@kr  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 V`WSZ  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 d$H   
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 AL;z's(F?  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ^5D%)@~  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 sc0.!6^'V  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 sy]hMGH:3W  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 7G \a5  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 E xls_oSp  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 Hh1]\4D,4  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 x<'<E@jpU;  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 )z^NJ'v4(  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 j%`% DQ  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 kdP*{  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 cp)BPg  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 P{ K;vEp  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 (Qcd !!   
第20章 运行表单 .................................................................... 251 4aGVIQ  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ]i:_^z)R  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 k6$Ft.0d1Z  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 hjgB[ &U>  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 K0usBA  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 @dyh: 2!  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Bc*FH>E  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 QMhvyzkS  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 QG=K^g  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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