线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:599
时间地点 (4RtoYWW  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 pRxVsOb  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 :/6aBM?  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 X{i>Q_8>  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 3G 5xIr6   
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
R}3th/qf  
特邀专家介绍 =d<~:!)  
1#;^ Z3  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 x $[_Hix  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 z19%!k  
课程概要 $%ND5uK  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ">h$(WCK  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ndT_;==  
课程大纲 XV4aR3n{Q  
1. Essential Macleod软件介绍 [e _csQ  
1.1 介绍软件 ]Lg~ I#/#  
1.2 创建一个简单的设计 ps8tr:T^=  
1.3 绘图和制表来表示性能 yP} |8x  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 [g: cG  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) @qW$un:  
1.6 特定设计的公式技术 xe(7q1   
1.7 交互式绘图 pmurG  
2. 光学薄膜理论基础 :kE*  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $_eJ@L#  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 VK,{Mu=.9  
3. 材料管理 LH @B\ mS  
3.1 材料模型 m :~y:.  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 7F]Hq  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ZdY$NpR,  
3.4 基板光学常数的提取 _\,lv \u  
4. 光学薄膜设计优化方法 8KkN "4'  
4.1 参考波长与g v+trHdSBYE  
4.2 四分之一规则 `D=d!!1eUi  
4.3 导纳与导纳图 l= Jw6F+5  
4.4 斜入射光学导纳 (Uu5$q(  
4.5 光学薄膜设计的进展 IZ^:wIKo{  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 omPxU2Jw  
4.6.1 优化目标设置 73]t5=D:  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) c3c3T`B  
4.6.3 膜层锁定和链接 0 "TPY(n  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 z%JN|5  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 pXBh^  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 0Krh35R_)F  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 eLgq )  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 gcO$T`  
5.5 如何在Function中编写脚本 *V+,X  
6. 光学薄膜系统案例 \UM&|yk:  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 )Spa F)N8  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 kSCpr0c  
6.3 Stack应用范例说明 T$<'ZC  
7. 薄膜性能分析 GNB'.tJ:0Y  
7.1 电场分布 B`3z(a92S  
7.2 公差与灵敏度分析 -byaV;T?"  
7.3 反演工程 ]c|JxgU  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 SfrM|o  
8. 真空技术 3fZoF`<a  
8.1 常用真空泵介绍 hcYqiM@8>  
8.2 真空密封和检漏 ~ oq.yn/1  
9. 薄膜制备技术 :M`~9MCRf  
9.1 常见薄膜制备技术 l g ,%  
10. 薄膜制备工艺 N:#$S$  
10.1 薄膜制备工艺因素 aCIz(3^  
10.2 薄膜均匀性修正技术 U#w0E G  
10.3 光学薄膜监控技术 U#PgkP[4  
11. 激光薄膜 O*]}0*CT  
11.1 薄膜的损伤问题 $83Qd  
11.2 激光薄膜的制备流程 u}_x   
11.3 激光薄膜的制备技术 28+{  
12. 光学薄膜特性测量 -*ZQ=nomN  
12.1 薄膜光谱测量 -{z[.v.p  
12.2 薄膜光学常数测量 $3ZQ|X[|+  
12.3 薄膜应力测量 HB*BL+S06  
12.4 薄膜损伤测量 'dzbeTJ D5  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Q?([#  
#u\~AO?h  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
RX^8`}N  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
I1dOMu9  
内容简介 9U3}_  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Uqj$itqUQ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4R8Qn^  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 v/$<#2|  
s9+lC!!  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
J_|%8N{[x  
目录 j':<7n/A  
Preface 1 ft0d5n!ui4  
内容简介 2 VJCj=jX  
目录 i R{aqn0M  
1  引言 1 Kg /,  
2  光学薄膜基础 2 $`vXI%|.  
2.1  一般规则 2 }&s |~  
2.2  正交入射规则 3 KZ65# UVX  
2.3  斜入射规则 6 Gb"kl.j  
2.4  精确计算 7 %=s2>vv9  
2.5  相干性 8 w6lx&K-  
2.6 参考文献 10 *] >R  
3  Essential Macleod的快速预览 10 M-+!z5 q~d  
4  Essential Macleod的特点 32 h:FN&E c}  
4.1  容量和局限性 33 3Y +;8ld  
4.2  程序在哪里? 33 sE{5&aCSR  
4.3  数据文件 35 LUpkO  
4.4  设计规则 35 &H}Xk!q5b^  
4.5  材料数据库和资料库 37 U!BZs Vx  
4.5.1材料损失 38 Q MX  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Klu0m~X@  
4.5.2 材料库 41 Y q|OX<i`K  
4.5.3导出材料数据 43 6~?yn-Z  
4.6  常用单位 43 9>&p:+D  
4.7  插值和外推法 46 9 *v14c%  
4.8  材料数据的平滑 50 YETGq-  
4.9 更多光学常数模型 54 I-kK^_0mV<  
4.10  文档的一般编辑规则 55 |GPY bxzc  
4.11 撤销和重做 56 ~Xr[d07bC  
4.12  设计文档 57 c2s73i z  
4.10.1  公式 58 hX-^h2eV  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 K>\v<!%a  
4.10.3  沉积密度 59 j!0-3YKv  
4.10.4 平行和楔形介质 60 GQjU="+  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 I.SMn,N  
4.10.4  性能 61 oJE<}~_k  
4.10.5  保存设计和性能 64 #a]\3X  
4.10.6  默认设计 64 `J7@G]X;2  
4.11  图表 64 kaECjZ _&+  
4.11.1  合并曲线图 67 "/taatcH  
4.11.2  自适应绘制 68 HuN_$aP  
4.11.3  动态绘图 68 ,Vz-w;oDn  
4.11.4  3D绘图 69 DwTVoCC  
4.12  导入和导出 73 g]?>6 %#rA  
4.12.1  剪贴板 73 k@>(sXs  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 l Yj$ 3  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 XN3'k[  
4.13  背景 77 XF@34b5(  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0juP"v$C>  
4.15  生成Rugate 84 |a'$v4dCF  
4.16  参考文献 91 jG#e% `'  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ,WoV)L'?  
5.1  Jobs 92 H>-{.E1bG  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 E429<LQI/  
5.3  输入材料 94 #B_H/9f(  
5.4  设计数据文件夹 95 mK^E@uxN  
5.5  默认设计 95 }%y5<n*v\  
6  细化和合成 97 nLrCy5R:  
6.1  优化介绍 97 &C?4'e  
6.2  细化 (Refinement) 98 c;#gvE  
6.3  合成 (Synthesis) 100 6mxzE3?G  
6.4  目标和评价函数 101 (H]NL   
6.4.1  目标输入 102 CRNt5T>qH  
6.4.2  目标 103 T*(mi{[T  
6.4.3  特殊的评价函数 104 4P7r\ hs  
6.5  层锁定和连接 104 cF"}}c1*M  
6.6  细化技术 104 I%z,s{9p  
6.6.1  单纯形 105 Z:,`hW*A6  
6.6.1.1 单纯形参数 106 (7??5gjh  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 R|*Eg,1g -  
6.6.2.1 Optimac参数 108 q1rD>n&d  
6.6.3  模拟退火算法 109 7eFFKl  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 '_91(~P  
6.6.4  共轭梯度 111 +7y#c20  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 L/N%ft]!T  
6.6.5  拟牛顿法 112 y (%y'xBP  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 &}#zG5eu  
6.6.6  针合成 113 1T4#+kW&  
6.6.6.1 针合成参数 114 ?ihRt+eR~  
6.6.7 差分进化 114 M~.1:%khM  
6.6.8非局部细化 115 TFXKCl  
6.6.8.1非局部细化参数 115 1>bNw-kz7  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 @F|pKf:M+  
6.7.1  细化 116 F84<='K  
6.7.2  合成 117 j:HIcCp  
6.8  参考文献 117 py%:,hi  
7  导纳图及其他工具 118 ey n-bw  
7.1  简介 118 *(Z\ "o!  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 AU8sU?=  
7.2.1  四分之一波长规则 119 -^< t%{d  
7.2.2  导纳图 120 i G%R'/*  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yQN^F+.  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 'sa>G  
7.5  斜入射导纳图 141 YQR[0Y&e=  
7.6  对称周期 141 Ia[<;":U  
7.7  参考文献 142 D]WrPWL8v  
8  典型的镀膜实例 143 :8A@4vMS)?  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Uu9I;q!|  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 +iNp8  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 dleCh+ny?  
8.4  W-膜层 148 qsYg%Z  
8.5  V-膜层 149 }LoMS<O-[  
8.6  V-膜层高折射基底 150 _C,9c7K4  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 A,?6|g`q'  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 4)p ID`  
8.9  四层抗反射薄膜 153 R}D[ z7  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ]\/"-Y#4Q  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /^WOrMR  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 oE,TA2  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 8zho\'  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ~1nKL0C6u  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 64Tb,AL_  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 -U|Z9sia  
8.17  1/4波长堆栈 162 +DE;aGQ.z?  
8.18  陷波滤波器 163 $dsLU5]1o  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 00yWk_w  
8.20  褶皱 165 Qve5qJ  
8.21  消偏振分光器1 169 n8i: /ypB  
8.22  消偏振分光器2 171 equi26jhr  
8.23  消偏振立体分光器 172 jPn.w,=)27  
8.24  消偏振截止滤光片 173 <s$Jj><  
8.25  立体偏振分束器1 174 ! iK{q0  
8.26  立方偏振分束器2 177 _.I58r  
8.27  相位延迟器 178 =JxEM7r  
8.28  红外截止器 179 G7r.Jm^q  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $Xqc'4YOZ  
8.30  49层长波带通滤波器 181 X(Z(cY(  
8.31  55层短波带通滤波器 182 1E0!?kRK  
8.32  47 红外截止器 183 7vc4 JO]  
8.33  宽带通滤波器 184 =>@ X+4Kb  
8.34  诱导透射滤波器 186 |<uBJ-5  
8.35  诱导透射滤波器2 188 9ZuKED  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 35:RsL  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 moZeP#Q%  
8.35  增益平坦滤波器 193 u~~ ~@p  
8.38  啁啾反射镜 1 196 C 1)+^{7ef  
8.39  啁啾反射镜2 198 E H|L1g  
8.40  啁啾反射镜3 199 ^ ~dC&!D  
8.41  带保护层的铝膜层 200 VH vL:z  
8.42  增加铝反射率膜 201 xE!b)@>S  
8.43  参考文献 202 -C* 6>$A  
9  多层膜 204 L^K,YlNBR  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 =,X*40=  
9.2  内部透过率 204  HYv-5:B  
9.3 内部透射率数据 205 Z/ L%?zH  
9.4  实例 206 ;J:*r0  
9.5  实例2 210 x{/-&`F  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ]@}o"Td  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ^)h&s*  
10  光学薄膜的颜色 216 j3u!lZ}U  
10.1  导言 216 b*4aUpW  
10.2  色彩 216 +-|}<mq  
10.3  主波长和纯度 220 j]aIJbi  
10.4  色相和纯度 221 at1 oxmy  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 b~(S;1NS'  
10.6 色差 226 IYa(B+nB)  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 _,igN>  
10.8  颜色渲染指数 234 fUZCP*7>  
10.9  色差计算 235 MPF({Pnx7  
10.10  参考文献 236 We'=/!  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 lI@Z)~  
11.1  短脉冲 238 }vg|05L  
11.2  群速度 239 dux_v"Xl  
11.3  群速度色散 241 +]0hSpZ"p  
11.4  啁啾(chirped) 245 \tCK7sBn  
11.5  光学薄膜—相变 245 .')^4\  
11.6  群延迟和延迟色散 246 VFm)!'=I  
11.7  色度色散 246 !(3[z>  
11.8  色散补偿 249  '{cFr  
11.9  空间光线偏移 256 $4og{  
11.10  参考文献 258 GH&5m44   
12  公差与误差 260 ~RZN+N  
12.1  蒙特卡罗模型 260 bL{D*\HF  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 %ofq  
12.2.1  误差工具 267 rd"!&i  
12.2.2  灵敏度工具 271 ++ObsWZ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 w{]B)>! 1W  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Z Z c^~  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 B~,?Gbl+g  
12.3  参考文献 276 3K/]{ dkD  
13  Runsheet 与Simulator 277 l>J%Q^  
13.1  原理介绍 277 -iFFXESVX  
13.2  截止滤光片设计 277 "hZ `^ "0b  
14  光学常数提取 289 MYR\W*B'b  
14.1  介绍 289 Kek %io  
14.2  电介质薄膜 289 jR*iA3LDo  
14.3  n 和k 的提取工具 295 #jO2Zu2`}  
14.4  基底的参数提取 302 mxe\+j#  
14.5  金属的参数提取 306 8: uh0  
14.6  不正确的模型 306 llCE}Vdh  
14.7  参考文献 311  Bgai|l  
15  反演工程 313 ISTAJ8" D  
15.1  随机性和系统性 313 >)mF'w  
15.2  常见的系统性问题 314 c;=St1eoz  
15.3  单层膜 314 =PnNett}a  
15.4  多层膜 314 !#E-p?O.  
15.5  含义 319 C;9P6^Oz  
15.6  反演工程实例 319 > :0N)Pj  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 n*G!=lMji  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 r]kks_!Z  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 nhd.c2t\  
16.1  光学性质的热致偏移 329 *Tmqs@L  
16.2  应力工具 335  }"q#"s  
16.3  均匀性误差 339 >!c Ff$2'  
16.3.1  圆锥工具 339 qR , 5  
16.3.2  波前问题 341 aD~S~L!  
16.4  参考文献 343 ?Qts2kae#  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 (X (:h\^  
17.1  引言 345 Svs&?B\}{6  
17.2  操作数 345 PAVlZ}kj  
18  如何在Function中编写脚本 351 '8I=Tn  
18.1  简介 351 H D,6  
18.2  什么是脚本? 351 b0tbS[j  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 715J1~aRNr  
18.4  基础 352 w2U]RI\?2  
18.4.1  Classes(类别) 352 a(h@4 x  
18.4.2  对象 352 $0]5b{i]  
18.4.3  信息(Messages) 352 8zwH^q[`r  
18.4.4  属性 352 e0#{'_C  
18.4.5  方法 353 <YWu/\{KT  
18.4.6  变量声明 353 ")fgQ3XZ  
18.5  创建对象 354 kjSzu qB  
18.5.1  创建对象函数 355 NCm=l  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 4&6cDig7*2  
18.5.3 丢弃对象 356 % 5BSXAc  
18.5.4  总结 356 U)z1RHP|z  
18.6  脚本中的表格 357 lHu/pSu@k  
18.6.1  方法1 357 M2.*]AL  
18.6.2  方法2 357 Z(J 1A x  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Exat_ L'?  
18.8 3D Plots in Scripts 359 \`8F.oZ^)  
18.9  注释 360 !'>#!S~h3  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 g](&H$g  
18.11  一个更高级的脚本 362 N0ZD+  
18.12  <esc>键 364 R!rMrWX  
18.13 包含文件 365 LD,T$"  
18.14  脚本被优化调用 366 9s*UJIL  
18.15  脚本中的对话框 368 YKx+z[A/p  
18.15.1  介绍 368 QKoJxjR=^  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Y2+YmP*z`  
18.15.3  输入框函数 370 lDs C>L-F  
18.15.4  自定义对话框 371 2[KHmdgtB  
18.15.5  对话框编辑器 371 "7?xaGh8  
18.15.6  控制对话框 377 rhN"#?  
18.15.7  更高级的对话框 380 _G)x\K]N  
18.16 Types语句 384 nH[>Sff$  
18.17 打开文件 385 UG<<.1JL  
18.18 Bags 387 Q|g>ga-a  
18.13  进一步研究 388 zaE!=-U  
19  vStack 389 **ls 4CE<  
19.1  vStack基本原理 389 GVdJ&d\x  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Q2!RFtXV  
19.3  五棱镜 393 <(us(zbk]  
19.4 光束距离 396 4 @9cO)m  
19.5 误差 399 li~=85 J  
19.6  二向分色棱镜 399 `oE.$~'  
19.7  偏振泄漏 404 < -Ax)zE  
19.8  波前误差—相位 405 CTc#*LJx>j  
19.9  其它计算参数 405 Ge76/T%{Q  
20  报表生成器 406 &2W`dEv]?  
20.1  入门 406 U,aMv[ZB  
20.2  指令(Instructions) 406 /NVyzM51V  
20.3  页面布局指令 406 h0VeXUM;.  
20.4  常见的参数图和三维图 407 o:Tpd 0F  
20.5  表格中的常见参数 408 5WtI.7r  
20.6  迭代指令 408 J!zL)u|  
20.7  报表模版 408 <Oj'0NK-  
20.8  开始设计一个报表模版 409 /j(<rz"j  
21  一个新的project 413 H]Gj$P=k  
21.1  创建一个新Job 414  V#+J4   
21.2  默认设计 415 LM".]f!,  
21.3  薄膜设计 416 yLt>OA<X  
21.4  误差的灵敏度计算 420 PS??wlp7  
21.5  显色指数计算 422 ) KYU[  
21.6  电场分布 424 77G4E ,]  
后记 426 mS]soYTQ  
{.UK{nA?sm  
]T>YYz  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》  /?6  
v/3Vsd  
《Essential Macleod中文手册》
+#g4Crb  
0-U%R)Q  
目  录 Zor Q2>  
?&.Eg^a"  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 46c0;E\9  
第1章 介绍 ..........................................................1 0O?!fd n  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 e\]CZ5hs3  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 "3NE%1T  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 mmEe@-lE  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 bw[K^/  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 diF2:80o  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ybgw#jv=  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 }h\]0'S~J~  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 T'VKZ5W  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 !p4FK]B/u  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Z`@< O%  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 O,7*dniH  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 &4Y@-;REt  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 kL%o9=R1  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 $ ?YSAD1  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 HQ3kxOT  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 b_oUG_B3]  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 m?<5-"hz  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 4i Z7BD  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ZRoOdo94  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 {>>Gc2UT  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 X FvPc  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 @!Q\| <  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 u_ym=N57`  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 `z`"0;,7S  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 <ApzcyC  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Dad*6;+N  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 QgW4jIbx  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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