线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:886
时间地点 }Cq9{0by?a  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 )r6SGlE[Y  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 XpAq=p0;  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Zxxy1Fl#.[  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Eztz ~oFo  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
M@2Qn-I  
特邀专家介绍 k.%W8C<Pa  
+q_lYGTiO  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 6L6~IXL>  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 w<F;&' ;@h  
课程概要 cmGj0YUQ1  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 8hdAXWPn  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 5N3!!FFE  
课程大纲 SeJFZ0p  
1. Essential Macleod软件介绍 6`5 @E\"E  
1.1 介绍软件 feq6!k7  
1.2 创建一个简单的设计 : $52Ds!i  
1.3 绘图和制表来表示性能 ?o(X0  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ) }it,<  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Sp$x%p0  
1.6 特定设计的公式技术 1PTu3o&3  
1.7 交互式绘图 :mtw}H 'F8  
2. 光学薄膜理论基础 >LaL! PnZ  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Gv+Tg/  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 vyx\N{  
3. 材料管理 53+rpU_  
3.1 材料模型 ]E8<;t)#  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 $E_vCB _  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Lvj5<4h;  
3.4 基板光学常数的提取 .bBQhf.&"  
4. 光学薄膜设计优化方法 RWPd S  
4.1 参考波长与g dV=5_wXZ$  
4.2 四分之一规则 -S3+ h$Y8  
4.3 导纳与导纳图 wrb& ta  
4.4 斜入射光学导纳 |e[0Qo@  
4.5 光学薄膜设计的进展 *=0r>]  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 #M9D" <pn}  
4.6.1 优化目标设置 >=W#z  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) a&c#* 9t{  
4.6.3 膜层锁定和链接 Am?Hkh2  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ]3y5b9DuW  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估  nIDsCu=A  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 bq&S?! =s  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 0V,MDX}#_  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 }nY^T&?`  
5.5 如何在Function中编写脚本 |{LaZXU&  
6. 光学薄膜系统案例 &?Z)V-1H  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ?G>TaTiK#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 j}.J$RtW1f  
6.3 Stack应用范例说明 H!>oLui  
7. 薄膜性能分析 PXu<4VF  
7.1 电场分布 _,0!ZP-  
7.2 公差与灵敏度分析 C<@1H>S4_  
7.3 反演工程 Z#t)Z "  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Aag)c~D  
8. 真空技术 /\$|D&e  
8.1 常用真空泵介绍 ~_j%nJ &2  
8.2 真空密封和检漏 m"7R 4O  
9. 薄膜制备技术 YB1DL ^ :  
9.1 常见薄膜制备技术 t\bxd`,  
10. 薄膜制备工艺 s]8J+8 <uO  
10.1 薄膜制备工艺因素 O*/-I pM  
10.2 薄膜均匀性修正技术 z==}~|5  
10.3 光学薄膜监控技术 cBF%])!  
11. 激光薄膜 Wk6&TrWlY  
11.1 薄膜的损伤问题 x&/Syb  
11.2 激光薄膜的制备流程 +Y]*>afG  
11.3 激光薄膜的制备技术 |{IU<o x  
12. 光学薄膜特性测量 .-~% w  
12.1 薄膜光谱测量 Z*aU2Kr`;  
12.2 薄膜光学常数测量 BOQV X&g%  
12.3 薄膜应力测量 j~f 7WJ  
12.4 薄膜损伤测量 =LY^3TlDj  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 AbI*/ |sY  
rkc%S5we  
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L\b_,'I  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
x  Bw.M{  
内容简介 2LH;d`H[0  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 fvMhq:Bu  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 9l_?n@   
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 r_sl~^* :  
0Ilvr]1a4  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
oqHm:u ^2  
目录 ;~$ $WU  
Preface 1 \bA'Furp  
内容简介 2 cE>/iZc  
目录 i iSLf:  
1  引言 1 9QZwUQ  
2  光学薄膜基础 2 Y'*h_K  
2.1  一般规则 2 rWpfAE)!  
2.2  正交入射规则 3 w/W?/1P>q  
2.3  斜入射规则 6 7#. PMyK9  
2.4  精确计算 7 QGG(I7{-  
2.5  相干性 8 2#M:J gWV  
2.6 参考文献 10 K5rj!*x.o  
3  Essential Macleod的快速预览 10 I>~BkR+u%o  
4  Essential Macleod的特点 32 t U= b~  
4.1  容量和局限性 33 N%E2BJ?  
4.2  程序在哪里? 33 <U`Nb) &  
4.3  数据文件 35 \#7%%>p=O'  
4.4  设计规则 35 A?KKZ{Pl  
4.5  材料数据库和资料库 37 1V$B^/_  
4.5.1材料损失 38 q ? TI,  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 6v)eM=   
4.5.2 材料库 41 >Mw =}g@P  
4.5.3导出材料数据 43 ! -nm7Q  
4.6  常用单位 43 b+apNph  
4.7  插值和外推法 46 0MGK3o)  
4.8  材料数据的平滑 50 O[B_7  
4.9 更多光学常数模型 54 I19F\ L`4  
4.10  文档的一般编辑规则 55 1U9N8{xg9  
4.11 撤销和重做 56  HcS^3^Y  
4.12  设计文档 57 ([o:_5/8I  
4.10.1  公式 58 5{aQ4H>~tx  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 _'dy$.g  
4.10.3  沉积密度 59 CGl+!t{  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;K-t  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 uxiX"0)g>  
4.10.4  性能 61 %t.IxMY  
4.10.5  保存设计和性能 64 ?+o7Y1 k,  
4.10.6  默认设计 64 RW8u0 ?b  
4.11  图表 64 ?|yJ #j1=  
4.11.1  合并曲线图 67 $:Z xb  
4.11.2  自适应绘制 68 o;C)!  
4.11.3  动态绘图 68 1 K',Vw_  
4.11.4  3D绘图 69 ED&KJnquWJ  
4.12  导入和导出 73 RVy87_J1  
4.12.1  剪贴板 73 &`W,'qD$  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 X]%4QIeS  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Gfch|Q^INy  
4.13  背景 77 7O :Gi*MA  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Ggjb86v\  
4.15  生成Rugate 84 fltc dA  
4.16  参考文献 91 ,{t!->K  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 k5CIU}H"  
5.1  Jobs 92 IWnW(>V  
5.2  创建一个新Job(工作) 93  :Xr3 3  
5.3  输入材料 94 -bQvJ`iF  
5.4  设计数据文件夹 95 0_izTke  
5.5  默认设计 95 sOenR6J<$  
6  细化和合成 97 `o'sp9_3  
6.1  优化介绍 97 HXo'^^}q;  
6.2  细化 (Refinement) 98 @},k\Is  
6.3  合成 (Synthesis) 100 f 2f $aZ  
6.4  目标和评价函数 101 13 p0w  
6.4.1  目标输入 102 NPabM(<`  
6.4.2  目标 103 oD`BX  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ]xs\,}I%  
6.5  层锁定和连接 104 ?"Q6;np*  
6.6  细化技术 104 ` XY[ HK  
6.6.1  单纯形 105 ]TN}` ]  
6.6.1.1 单纯形参数 106 l]cQ7g5  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 "<b84?V5  
6.6.2.1 Optimac参数 108 JDlIf  
6.6.3  模拟退火算法 109 e#{L ~3  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 {+}Lc$O#C  
6.6.4  共轭梯度 111 Os+ =}  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %)]RM/e8  
6.6.5  拟牛顿法 112 a)b@en;v  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |V]E8Qt  
6.6.6  针合成 113  $nWmoe)  
6.6.6.1 针合成参数 114 ]B[Qdn  
6.6.7 差分进化 114 _: x$"i  
6.6.8非局部细化 115 _bsfM;u.%  
6.6.8.1非局部细化参数 115 2YQ$hL~  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 >48Y-w  
6.7.1  细化 116 VtFh1FDI\  
6.7.2  合成 117 j+seJg<_  
6.8  参考文献 117 p%'((!a2  
7  导纳图及其他工具 118 g`8|jg0]`I  
7.1  简介 118 G&-h,"yo^  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 A+&Va\|x  
7.2.1  四分之一波长规则 119 "zc!QHpSd  
7.2.2  导纳图 120 q ~lW  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 dRmTE  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 )vzT\dQ|  
7.5  斜入射导纳图 141 rKxk?}  
7.6  对称周期 141 C:cu1Y9  
7.7  参考文献 142 z /=v@@tj  
8  典型的镀膜实例 143 cj)~7 WF  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ;2}Gqh)Yr  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 TB\CSXb  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >LSA?dy!?  
8.4  W-膜层 148 -TWo-iu^  
8.5  V-膜层 149 5`Z#m:+u  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ;MD{p1w  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 #.RI9B  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *lSIT]1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 WMg^W(  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ~ln,Cm} 4  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 1GxYuTZ{  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 oR }  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 &ReIe>L  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 E}u\{uY  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 %/y/,yd  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 K||85l?<  
8.17  1/4波长堆栈 162 WUWQcJj  
8.18  陷波滤波器 163 ) AIZE?oX  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 |r%P.f:y{X  
8.20  褶皱 165 '*:YC  
8.21  消偏振分光器1 169 0=iJT4IEJ  
8.22  消偏振分光器2 171 1/HZY0em  
8.23  消偏振立体分光器 172 &!=3Fbn  
8.24  消偏振截止滤光片 173 X}Lp!.i9o  
8.25  立体偏振分束器1 174 w_ m  
8.26  立方偏振分束器2 177 LY MfoXp  
8.27  相位延迟器 178 ;L7<mU  
8.28  红外截止器 179 P\R3/g  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $H}Q"^rs  
8.30  49层长波带通滤波器 181 h4C B1K  
8.31  55层短波带通滤波器 182 d=pq+  
8.32  47 红外截止器 183 =Ev } v  
8.33  宽带通滤波器 184 %rsW:nl  
8.34  诱导透射滤波器 186 K67x.PZ  
8.35  诱导透射滤波器2 188 wU3Q  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 wJ}8y4O!N  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 8c#*T%Vf  
8.35  增益平坦滤波器 193 n| %{R|s  
8.38  啁啾反射镜 1 196 [T|~K h%#  
8.39  啁啾反射镜2 198 _Z%C{~,7)x  
8.40  啁啾反射镜3 199 -4;u|0_  
8.41  带保护层的铝膜层 200 !O\r[c  
8.42  增加铝反射率膜 201 *KM CU m  
8.43  参考文献 202 R] dB Uu  
9  多层膜 204 vDemY"wz  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 _LK(j;6K}  
9.2  内部透过率 204 wo/H:3^N  
9.3 内部透射率数据 205 ,[x'S>N  
9.4  实例 206 B:l(`G  
9.5  实例2 210 1\BECP+  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ' ySWf,Q^  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 5VI'hxU4Qg  
10  光学薄膜的颜色 216 p|Ln;aYc  
10.1  导言 216 JS4pJe\q  
10.2  色彩 216 6^ ~& sA  
10.3  主波长和纯度 220 tY7u\Y;^  
10.4  色相和纯度 221 vi'K|[!?  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ]}9EBf  
10.6 色差 226 ve$P=ZuM  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ? in&/ZrB  
10.8  颜色渲染指数 234 =I?p(MqW  
10.9  色差计算 235 6>l-jTM  
10.10  参考文献 236 #2pgh?  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 2oN lQiE_  
11.1  短脉冲 238 ukN#>e+L1  
11.2  群速度 239 P<bA~%<7"[  
11.3  群速度色散 241 Yz,*Q<t  
11.4  啁啾(chirped) 245  9TeDLp  
11.5  光学薄膜—相变 245 *e^ ZH  
11.6  群延迟和延迟色散 246 % R'eV<  
11.7  色度色散 246 re<"%D  
11.8  色散补偿 249 Y }0-&  
11.9  空间光线偏移 256 ALFw[1X  
11.10  参考文献 258 fx*Swv%r  
12  公差与误差 260 U-k6ZV3&8  
12.1  蒙特卡罗模型 260 xH92=t-w  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ioZ2J"s  
12.2.1  误差工具 267 <-$4?}  
12.2.2  灵敏度工具 271 $XJe)  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 p 0-\G6  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 R^D~ic N  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 }!2|*Y  
12.3  参考文献 276 zj8;ENhEI  
13  Runsheet 与Simulator 277 sR5dC_  
13.1  原理介绍 277 _ yU e2Gd  
13.2  截止滤光片设计 277 )xi|BqQz  
14  光学常数提取 289 thS#fO4]d  
14.1  介绍 289 w=OT^d 9n  
14.2  电介质薄膜 289 ~ejHA~QC  
14.3  n 和k 的提取工具 295 hj-M #a  
14.4  基底的参数提取 302 uu(.,11`  
14.5  金属的参数提取 306 py)V7*CgH  
14.6  不正确的模型 306 Am- JB  
14.7  参考文献 311 'A4Lr  
15  反演工程 313 \&SP7~-eq  
15.1  随机性和系统性 313 vq x;FAqZ  
15.2  常见的系统性问题 314 SMnbI .0  
15.3  单层膜 314 Hd4&"oeY  
15.4  多层膜 314 4H{L>e  
15.5  含义 319 x *(pr5k  
15.6  反演工程实例 319 Dtn|$g,  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 u'}DG#@-  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 .NZ_dz$c  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 D`Fl*Wc4H  
16.1  光学性质的热致偏移 329 #U'n=@U@(  
16.2  应力工具 335 e=YvM g  
16.3  均匀性误差 339 P[^!Uq[0n7  
16.3.1  圆锥工具 339 >/Slk {  
16.3.2  波前问题 341 T?Gi;ld7  
16.4  参考文献 343 |rsu+0Mtz  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 pp/Cn4"w  
17.1  引言 345 D*heYh  
17.2  操作数 345 aY6]NpT  
18  如何在Function中编写脚本 351 VYvHpsI  
18.1  简介 351 Yr"G)i~"Y  
18.2  什么是脚本? 351 Rg+V;C C~  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 'j>Q7M7q{  
18.4  基础 352 GT`:3L  
18.4.1  Classes(类别) 352 4 uD!-1LT@  
18.4.2  对象 352 XYf;72*  
18.4.3  信息(Messages) 352 Ktg6*L/  
18.4.4  属性 352 J/=b1{d"n  
18.4.5  方法 353 u6|P)8?`  
18.4.6  变量声明 353 ASPfzW2  
18.5  创建对象 354 !i0:1{.  
18.5.1  创建对象函数 355 pl'n 0L<l  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 e>X&[\T  
18.5.3 丢弃对象 356 J/WPffqD  
18.5.4  总结 356 qJUu9[3'm  
18.6  脚本中的表格 357 ,253'53W)  
18.6.1  方法1 357 `nn;E% n  
18.6.2  方法2 357 !y `wAm>n  
18.7 2D Plots in Scripts 358 cl)%qIXj}H  
18.8 3D Plots in Scripts 359 s:,BcVLx^  
18.9  注释 360 "m(HQ5e)*  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 nTp?  
18.11  一个更高级的脚本 362 R 8?Xz5  
18.12  <esc>键 364 rWAJL9M  
18.13 包含文件 365 >4b-NS/}0  
18.14  脚本被优化调用 366 `TBau:ElI  
18.15  脚本中的对话框 368 [iB`- dE,  
18.15.1  介绍 368 Qgf\gTF$r+  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 P]1`=-  
18.15.3  输入框函数 370 PG+ICg  
18.15.4  自定义对话框 371 "=N[g  
18.15.5  对话框编辑器 371 mQ:lj$Gf  
18.15.6  控制对话框 377 !Zlvz%X  
18.15.7  更高级的对话框 380 /a(xUm@.  
18.16 Types语句 384  NDm3kMa  
18.17 打开文件 385 FlgK:=Fmj  
18.18 Bags 387 =;`+^  
18.13  进一步研究 388 9g|o17  
19  vStack 389 K9 :I8E<  
19.1  vStack基本原理 389 c"H*9u:  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 +'x|VPY.PG  
19.3  五棱镜 393 IEmtt^C  
19.4 光束距离 396 #iJ+}EW _  
19.5 误差 399 f@]4udc e  
19.6  二向分色棱镜 399 $x)C_WZj?  
19.7  偏振泄漏 404 s: ~3|D][  
19.8  波前误差—相位 405 now\-XrS  
19.9  其它计算参数 405 E0o=  
20  报表生成器 406 L?23Av0W  
20.1  入门 406 %n SLe~b  
20.2  指令(Instructions) 406 YP5V~-O/  
20.3  页面布局指令 406 gR )xw)!  
20.4  常见的参数图和三维图 407 37Q9goMov  
20.5  表格中的常见参数 408 %lF}!  
20.6  迭代指令 408 ^`!5!|  
20.7  报表模版 408 /n"Ib )M  
20.8  开始设计一个报表模版 409 aq@/sMn  
21  一个新的project 413 q$Gf9&ZO  
21.1  创建一个新Job 414 6av]L YK  
21.2  默认设计 415 |W[BqQIf  
21.3  薄膜设计 416 lb{<}1YR0o  
21.4  误差的灵敏度计算 420 H<92tP4M  
21.5  显色指数计算 422 82O#Fe q  
21.6  电场分布 424 0Rz'#O32V  
后记 426 sL[&y'+  
_VFl.U,   
dj3}Tjt  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :7 Ro9z8  
8!(4;fN$j.  
《Essential Macleod中文手册》
EZ15  
]>M{Q n*  
目  录 fRS)YE@a:  
XT~!dq5  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 'Y Bz?l9  
第1章 介绍 ..........................................................1 h&|q>M3  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 N|WZk2 "  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 8+5 z-vd  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Q ;V `  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 EZlcpCS  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ?fr -5&,  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 !$ItBn/_  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ? BtWM4Id8  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 J$JXY@mBSC  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 zGjf7VV2a  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ,<!_MNw[  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 5v<X-8"  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 mltG4R ?  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ,Wtod|vx\U  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 (\S/  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200  ;j|T#-.  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ?nN3K   
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 A2.[P==  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 x=7hOI5u  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 -b'93_ZTu:  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 A14}  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ~Y]*TP  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 sz4)xJgF (  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 "N\>v#>C  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 }g6:9%ZMu  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Hry*.s -  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ;[9WB<t  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 aMI\gCB/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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