线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:473
时间地点 #H|j-RM2  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 d WB8  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 UB&S 2g  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 .z-^Ga*  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 3ciVjH>i  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
dnX`F5zd  
特邀专家介绍 2p3u6\y  
#`vGg9  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 +{Jf]"KD  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 >e$^# \D  
课程概要 h[`Op#^x3  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 .f92^lu9  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 R 6yvpH  
课程大纲 eZ.0,A*1B1  
1. Essential Macleod软件介绍 2`FsG/o\T~  
1.1 介绍软件 ANpY qV  
1.2 创建一个简单的设计 3Ibt'$dK  
1.3 绘图和制表来表示性能 xwH|ryfs,Z  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 B> " r-O  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) E-U;8cOMv  
1.6 特定设计的公式技术 dW^_tzfF7  
1.7 交互式绘图 !DX/^b  
2. 光学薄膜理论基础 c7nk~K[6  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 fkv{\zN  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Lq $4.l[j  
3. 材料管理 hA,rSq  
3.1 材料模型 SE}RP3dF!  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 \I,Dje/:w  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ;AL@<,8  
3.4 基板光学常数的提取 7si*%><X  
4. 光学薄膜设计优化方法 p4t!T=o/  
4.1 参考波长与g hzPB~obC  
4.2 四分之一规则 K<7T}XzU$  
4.3 导纳与导纳图 W Pp\sIP  
4.4 斜入射光学导纳 I`$I0  
4.5 光学薄膜设计的进展 iQ}sp64  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 7@y!R   
4.6.1 优化目标设置 sv{0XVn+^  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) :Ye#NPOI  
4.6.3 膜层锁定和链接 io?{ew  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 *sIG&  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Oi%~8J>  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 q(PT'z  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 K"6+X|yxE  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 h,6S$,UI  
5.5 如何在Function中编写脚本 u*-<5& X  
6. 光学薄膜系统案例 x< y[na  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 e}O-I  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 m6Cd^'J9^  
6.3 Stack应用范例说明 , a_{ Y+  
7. 薄膜性能分析 F']%q 0  
7.1 电场分布 =#")G1A  
7.2 公差与灵敏度分析 A&lgiR*ObT  
7.3 反演工程 -"dy z(  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 4k2c mM$  
8. 真空技术 K#C56k q&  
8.1 常用真空泵介绍 iN/!k.ybW}  
8.2 真空密封和检漏 HYYx*CJ)  
9. 薄膜制备技术 @?cXa: tX  
9.1 常见薄膜制备技术 ~Ow23N  
10. 薄膜制备工艺 AFB 7s z  
10.1 薄膜制备工艺因素 !#4HGjPI  
10.2 薄膜均匀性修正技术 E?h2e~ ,]  
10.3 光学薄膜监控技术 ,, #rv-*  
11. 激光薄膜 lGHu@(n<  
11.1 薄膜的损伤问题 V #\ZS{'J  
11.2 激光薄膜的制备流程 [W\atmd"  
11.3 激光薄膜的制备技术 RqjDMN:  
12. 光学薄膜特性测量 T0"0/{5-_  
12.1 薄膜光谱测量 1;~1U9V  
12.2 薄膜光学常数测量 . .je<   
12.3 薄膜应力测量 W]Tt8  
12.4 薄膜损伤测量 Ihq@|s8  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 j72] _G  
u.4vp]eU  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
^8*SCM_A  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
L.%~?T[F  
内容简介 M "P  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 oUKbzr/C  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 'CAukk|  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rxI&;F#  
Fl3r!a!P,  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
gsm^{jB  
目录 B|$13dHfa  
Preface 1 o@`E.4  
内容简介 2 C2|2XL'l(C  
目录 i z2q5f :d8  
1  引言 1 k:@Ls  
2  光学薄膜基础 2 @`8 B} C  
2.1  一般规则 2 pV|?dQ  
2.2  正交入射规则 3 !vp!\Zj7o  
2.3  斜入射规则 6 Fsj&/: q  
2.4  精确计算 7 "LIii1]k  
2.5  相干性 8 p#BvlS=D  
2.6 参考文献 10 lR2;g:&H  
3  Essential Macleod的快速预览 10 TdIFZ[<7  
4  Essential Macleod的特点 32 5Zm_^IS  
4.1  容量和局限性 33 4_0/]:~5  
4.2  程序在哪里? 33 n)!_HNc9  
4.3  数据文件 35 Y"rV[oe   
4.4  设计规则 35 g E+OQWu  
4.5  材料数据库和资料库 37 yB{o_1tc  
4.5.1材料损失 38 {,2_K6#  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 O36r ,/X  
4.5.2 材料库 41 B(Q.a&w45t  
4.5.3导出材料数据 43 mqT0^TNPcl  
4.6  常用单位 43 ,(W98}nB  
4.7  插值和外推法 46 ^&/&I9z  
4.8  材料数据的平滑 50 |(v=1#i  
4.9 更多光学常数模型 54 ?q}wl\"8  
4.10  文档的一般编辑规则 55 JwVC?m).  
4.11 撤销和重做 56 SWd[iD  
4.12  设计文档 57 ^J~4~!  
4.10.1  公式 58 w} q@VVB%  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 U`_vF~el~  
4.10.3  沉积密度 59 ER0#$yFpM  
4.10.4 平行和楔形介质 60 J}KktD@!O  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 >Io7h#[u  
4.10.4  性能 61 .p~;U|h"  
4.10.5  保存设计和性能 64 H[k3)r2  
4.10.6  默认设计 64 "Am0.c/  
4.11  图表 64 j6(IF5MqP  
4.11.1  合并曲线图 67 H{zuIN/.1  
4.11.2  自适应绘制 68 rh&Eu qE%  
4.11.3  动态绘图 68 ;rAW3  
4.11.4  3D绘图 69 [F{a-i-  
4.12  导入和导出 73 kzpbs?<;  
4.12.1  剪贴板 73 -"K:ve(K  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 IqKXFORiNI  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 lG#&1  
4.13  背景 77 ;]x5;b9`  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 b/Q"j3  
4.15  生成Rugate 84 /O9EI'40)  
4.16  参考文献 91 (gB=!1/|G  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 $%8n,FJ[  
5.1  Jobs 92 K"$ky,tU  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 .3&OFM  
5.3  输入材料 94 x#mk[SV  
5.4  设计数据文件夹 95 q\Kdu5x{  
5.5  默认设计 95 H,` XCG  
6  细化和合成 97 Vn;] ''_  
6.1  优化介绍 97 0j MI)aY.  
6.2  细化 (Refinement) 98 F|{?GV%hF  
6.3  合成 (Synthesis) 100 )p9n|C  
6.4  目标和评价函数 101 08jQq#  
6.4.1  目标输入 102 &uW.V+3  
6.4.2  目标 103 .cog9H'  
6.4.3  特殊的评价函数 104 }"H900WE|  
6.5  层锁定和连接 104 *3($s_r>  
6.6  细化技术 104 RUh{^3;~  
6.6.1  单纯形 105 a Z, Wa-k  
6.6.1.1 单纯形参数 106 8}T3Fig,q  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 B*N8:u  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ~J:lC u  
6.6.3  模拟退火算法 109 (oEA)yc|  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ovFfTP<3V  
6.6.4  共轭梯度 111 Te#[+B?  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 yo6IY  
6.6.5  拟牛顿法 112 _'a4I;  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 \Da$bJ  
6.6.6  针合成 113 %&(\dt&R1h  
6.6.6.1 针合成参数 114 0M-AIQ5  
6.6.7 差分进化 114 R~-q! nC  
6.6.8非局部细化 115 IxR:a(  
6.6.8.1非局部细化参数 115 E#p6A5  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 7B`0mK3  
6.7.1  细化 116 - [j0B|cwG  
6.7.2  合成 117 <qx-%6  
6.8  参考文献 117 ,CF~UX% bU  
7  导纳图及其他工具 118 5UyK1e))  
7.1  简介 118 pl&GFf o  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 +?tNly`  
7.2.1  四分之一波长规则 119 gk%ye&:f  
7.2.2  导纳图 120 =&GV\ju  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 s:P-F0q!&  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 }clNXtN  
7.5  斜入射导纳图 141 )dcGV$4t[  
7.6  对称周期 141 R8*4E0\br  
7.7  参考文献 142 z[OEg HI  
8  典型的镀膜实例 143 q1Mk_(4oJ  
8.1  单层抗反射薄膜 145 '9XwUQx  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 9x< 8(]\  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ElxbHQj6  
8.4  W-膜层 148 2c]O Mtk  
8.5  V-膜层 149 PnvLXE}F  
8.6  V-膜层高折射基底 150 K)ib{V(50  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 "p\KePc;@  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 J( 60eTwQ  
8.9  四层抗反射薄膜 153 dtm@G|Ij  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 St<\qC  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 q9^r2OO  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 3kg+*]tLx  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 1|CO>)*D  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 qm@hD>W+  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 up6LO7drW/  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 s!Vtw p9  
8.17  1/4波长堆栈 162 9UX-)!  
8.18  陷波滤波器 163 $2 0*&4y^  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 UPsh Y  
8.20  褶皱 165 ?##GY;#  
8.21  消偏振分光器1 169 [gDvAtTZ5  
8.22  消偏振分光器2 171 2J$Uz,@  
8.23  消偏振立体分光器 172 X.Kxio $o  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ( ;q$cKy  
8.25  立体偏振分束器1 174 1Mqz+@~11  
8.26  立方偏振分束器2 177 1Cthi[ B  
8.27  相位延迟器 178 "]% L{a P  
8.28  红外截止器 179 =n!8>8d  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ~QXNOtVsN  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Bvwk6NBN  
8.31  55层短波带通滤波器 182 O;r8l+  
8.32  47 红外截止器 183 (RF6K6~  
8.33  宽带通滤波器 184 }T6jQ:?@  
8.34  诱导透射滤波器 186 .KV?;{~q@  
8.35  诱导透射滤波器2 188 <JlKtR&nSo  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 X$<?:f-  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 $xqphhBg  
8.35  增益平坦滤波器 193 Cv3H%g+as  
8.38  啁啾反射镜 1 196 :iJ= 9  
8.39  啁啾反射镜2 198 4CqZvd C  
8.40  啁啾反射镜3 199 71eD~fNdx  
8.41  带保护层的铝膜层 200 mtp[]  
8.42  增加铝反射率膜 201 rmhB!Lo  
8.43  参考文献 202 \AG ,dMS  
9  多层膜 204 5m/r,d^H  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 &'Ch[Wo]H  
9.2  内部透过率 204 K>-m8.~\E  
9.3 内部透射率数据 205 7~ 2X/  
9.4  实例 206 {=kA8U  
9.5  实例2 210 =+u$ZZ0+]o  
9.6  圆锥和带宽计算 212 6YN4]  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 CUoMB r  
10  光学薄膜的颜色 216 w% M0Mu  
10.1  导言 216 ^#%[  
10.2  色彩 216 )pJzw-m"  
10.3  主波长和纯度 220 SU:Cm: $  
10.4  色相和纯度 221 |h;MA,qva  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 F4@h} T5)  
10.6 色差 226 umj7-fh  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Yq.Omr!  
10.8  颜色渲染指数 234 nBQG.3  
10.9  色差计算 235 ~ohW9Z1  
10.10  参考文献 236 A ="h}9ok  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 >q}EZC  
11.1  短脉冲 238 <I} k%q'  
11.2  群速度 239 St?vd+(>  
11.3  群速度色散 241 6oC(09  
11.4  啁啾(chirped) 245 UJQ!~g.y]  
11.5  光学薄膜—相变 245 P5Fm<f8\  
11.6  群延迟和延迟色散 246 45# `R%3  
11.7  色度色散 246 PR Y)hb;1  
11.8  色散补偿 249 g{&ux k);  
11.9  空间光线偏移 256 K[sfsWQ.  
11.10  参考文献 258 h><;TAp  
12  公差与误差 260 \KG{ 11  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Qf"gH <vT  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 R+5x:mpHy  
12.2.1  误差工具 267 =U?"#   
12.2.2  灵敏度工具 271 5}1cNp6@  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 o rEo$e<  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 H>VuUH|  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276  N3E=t#n  
12.3  参考文献 276 hhwV)Z  
13  Runsheet 与Simulator 277 H4)){\  
13.1  原理介绍 277 #T+%$q [:  
13.2  截止滤光片设计 277 hD;[}8qN{  
14  光学常数提取 289 m]V5}-?al  
14.1  介绍 289 *.20YruU;j  
14.2  电介质薄膜 289 B4I|"5G2y  
14.3  n 和k 的提取工具 295 x3]es"4Q  
14.4  基底的参数提取 302 7Rq;V=2YV  
14.5  金属的参数提取 306 BK,= (;d3  
14.6  不正确的模型 306 )t =Cj?5  
14.7  参考文献 311 A|jaWZM-  
15  反演工程 313 4e9mN~  
15.1  随机性和系统性 313 H!,#Z7s  
15.2  常见的系统性问题 314 r..\(r  
15.3  单层膜 314 ^;N +"oq!y  
15.4  多层膜 314 *V>Iv/(  
15.5  含义 319 m7fmQUk  
15.6  反演工程实例 319 7\5;;23N4  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 n pBpYtG  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Uq7 y4zJ  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 t(^c]*r~  
16.1  光学性质的热致偏移 329 MAhcwmZNy  
16.2  应力工具 335 EI]NOG 0  
16.3  均匀性误差 339 jg#%h`  
16.3.1  圆锥工具 339 #R@{Bu=C  
16.3.2  波前问题 341 _"=Yj3?G%  
16.4  参考文献 343 ^b'|`R+~}  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ]7Tjt A.\q  
17.1  引言 345 ]V?\Qv/.=  
17.2  操作数 345 rk{DrbRx  
18  如何在Function中编写脚本 351 YX,y7Uhn  
18.1  简介 351 rm<(6zY  
18.2  什么是脚本? 351 AW1691Q  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 //Ck1cI#h  
18.4  基础 352 h`,dg%J*B  
18.4.1  Classes(类别) 352 a6fMx~  
18.4.2  对象 352 +U% = w8b  
18.4.3  信息(Messages) 352 $Ic: c  
18.4.4  属性 352 8NWvi%g  
18.4.5  方法 353 \-gZ_>)  
18.4.6  变量声明 353 EJ"[{AV  
18.5  创建对象 354 noV]+1#"V  
18.5.1  创建对象函数 355 zaf%%  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 I HgYgn  
18.5.3 丢弃对象 356 Y[#i(5w  
18.5.4  总结 356 LS*^TA(I[  
18.6  脚本中的表格 357  k/ls!e?  
18.6.1  方法1 357 ?dY}xE  
18.6.2  方法2 357 ]G#og)z4  
18.7 2D Plots in Scripts 358 22)2o lU  
18.8 3D Plots in Scripts 359 UF3WpA  
18.9  注释 360 $d'GCzYvZ  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 T]Pp\6ff  
18.11  一个更高级的脚本 362 ;JFy 8Rj  
18.12  <esc>键 364 f =B)jYI  
18.13 包含文件 365 !O~EIz  
18.14  脚本被优化调用 366 p eQD]v  
18.15  脚本中的对话框 368 -$!`8[fM  
18.15.1  介绍 368 Ni7~ Mjjt  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 UB|f{7~&  
18.15.3  输入框函数 370 ppP7jiGo  
18.15.4  自定义对话框 371 icOh/G=N;  
18.15.5  对话框编辑器 371 VnAJOR7lrx  
18.15.6  控制对话框 377 80U07tJ  
18.15.7  更高级的对话框 380 >LRt,.hy6  
18.16 Types语句 384 :''^a  
18.17 打开文件 385 2&S*> (  
18.18 Bags 387 # XE`8$  
18.13  进一步研究 388 *W~+Nho.A  
19  vStack 389 wM8Gz.9,  
19.1  vStack基本原理 389 c$ya{]a  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Ii_X^)IL(  
19.3  五棱镜 393 x >hnH{~w  
19.4 光束距离 396 I"eXoqh  
19.5 误差 399 icLf; @  
19.6  二向分色棱镜 399 ,#@B3~giC  
19.7  偏振泄漏 404 sN.h>bd  
19.8  波前误差—相位 405 )o-rg  
19.9  其它计算参数 405 I'%vN^e^  
20  报表生成器 406  Gqvj  
20.1  入门 406 481J=8H  
20.2  指令(Instructions) 406 t&MJSFkiA  
20.3  页面布局指令 406 |}P4Gr}6  
20.4  常见的参数图和三维图 407 `uo'w:Q  
20.5  表格中的常见参数 408 Lwm2:_\_b  
20.6  迭代指令 408 ?]+{2&&$  
20.7  报表模版 408 H48`z'o  
20.8  开始设计一个报表模版 409 LT']3w  
21  一个新的project 413 {P ZN J 2~  
21.1  创建一个新Job 414 ="hh=x.5J  
21.2  默认设计 415 xcz[w}{eEq  
21.3  薄膜设计 416 D^V0kC p!F  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Pi7vuOJr8  
21.5  显色指数计算 422 ?4vf 2n@  
21.6  电场分布 424 J-yj&2  
后记 426 gI a/sD2m>  
Exd$v"s Y  
g(){wCI  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 oju)8H1o#  
/<,LM8n  
《Essential Macleod中文手册》
x@/ N9*  
7.@$D;L9  
目  录 0EiURVX  
c]3% wL  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 DdJ>1504  
第1章 介绍 ..........................................................1 X=$WsfN.h  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 2~<N  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Jv(9w[  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 +s?0yH-%p  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 _EMq"\ND  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ,[fn? s r  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 NGZEUtj  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ti$d.Kc(  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 0Yk@O) x  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 :KY920/,  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ernZfd{H  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 jzCSxuZ7O  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 I{#&!h>]U  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 r,F~Vwa}  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 1haNca_6,  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 T 1'8<pJ^  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ZuF"GNUC  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 HRP4"#9R  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 )9LlM2+y  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 P>q"P1&{  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 "A\.`*6  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 IoUQ~JviA  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 "o" ujQ(v  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 <k'JhMwN  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 A0Z<1|6r*  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 9gFb=&1k  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 LS1r}cl  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 hF`e>?bN  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2024 光行天下 蜀ICP备06003254号-1