线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:442
时间地点 yDW$v/j.|  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 N]6M4j!  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 J}UG{RttI  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Ot#O];3  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 k9pOY]_Y  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 w0i v\yIRQ  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 }^ np  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 <Fa]k'<^)  
课程概要 YYc.e T<  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 %t:pG}A>:C  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ``p( )^zT  
课程大纲 5VG[FY6Pl  
1. Essential Macleod软件介绍 RiX~YL eM  
1.1 介绍软件 8 aHs I(  
1.2 创建一个简单的设计 bEJz>oyW"  
1.3 绘图和制表来表示性能 05cyWg9a  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 J<4 egk4  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) QXcSDJ  
1.6 特定设计的公式技术 #gL$~.1  
1.7 交互式绘图 &>m# "A\^  
2. 光学薄膜理论基础 |*+f N8  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 N5%zbfKM  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 RN3-:Zd_X  
3. 材料管理 W+C@(}pt  
3.1 材料模型 `Y~EL?  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 lnk`D(>W  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 vxRy7:G"  
3.4 基板光学常数的提取 Uz`K#Bz   
4. 光学薄膜设计优化方法 z!r-g(^G  
4.1 参考波长与g Gx]J6Z8  
4.2 四分之一规则 i,Q{Z@,  
4.3 导纳与导纳图 jeM/8~^4-  
4.4 斜入射光学导纳 1j7sJ" *  
4.5 光学薄膜设计的进展 ^gK8 u]>  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 e /4{pe+,  
4.6.1 优化目标设置 eXqS9`zKr  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) cCoa3U/  
4.6.3 膜层锁定和链接 $]Vvu{  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 w,t>M_( N  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 zIyMq3  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 <{"]&bl  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 8U5L |Ny.q  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 RvQl{aL  
5.5 如何在Function中编写脚本 ;;9W/m~]  
6. 光学薄膜系统案例 %6vf~oG  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Uo!#p'<w)p  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 &{Zt(%\ '  
6.3 Stack应用范例说明 YB^[HE\#y  
7. 薄膜性能分析 f<`is+"  
7.1 电场分布 j}2,|9ne  
7.2 公差与灵敏度分析 {q[l4_  
7.3 反演工程 /=5YHq>  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 q^e4  
8. 真空技术 &3SQVOW ~T  
8.1 常用真空泵介绍 u7oHqo`  
8.2 真空密封和检漏 gRk%ObJGqm  
9. 薄膜制备技术 l 4zl|6%  
9.1 常见薄膜制备技术 $R'  
10. 薄膜制备工艺 F3aOKV^  
10.1 薄膜制备工艺因素 _\9|acFT2O  
10.2 薄膜均匀性修正技术 uz(3ml^S  
10.3 光学薄膜监控技术 -gWqq7O  
11. 激光薄膜 -\b$5oa(  
11.1 薄膜的损伤问题 c Bl F  
11.2 激光薄膜的制备流程 PfaBzi9?f  
11.3 激光薄膜的制备技术 SxHj3,`#C  
12. 光学薄膜特性测量 GvL)SVv?  
12.1 薄膜光谱测量 \BV$p2m5-  
12.2 薄膜光学常数测量 NDJIaX:]  
12.3 薄膜应力测量 z"b}V01F#  
12.4 薄膜损伤测量 S}/?L m}  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 y&HfF~  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
(8(7:aE $  
内容简介 8E m X  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `h>a2   
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 9!u=q5+E  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 9 a ED6  
E|(T(4;  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
>IL[eiiPG  
目录 U4J9b p|  
Preface 1 /kl41gx  
内容简介 2 tSr.0'CE  
目录 i ewNzRH,b  
1  引言 1 'l%b5:  
2  光学薄膜基础 2 7X h'VOljB  
2.1  一般规则 2 x<m{B@3T  
2.2  正交入射规则 3 xQ[~ c1  
2.3  斜入射规则 6 Hh_Yd)  
2.4  精确计算 7 )jM' x&Vg  
2.5  相干性 8  As&=Pb9  
2.6 参考文献 10 I Xm}WTgF!  
3  Essential Macleod的快速预览 10 GOT@  
4  Essential Macleod的特点 32 [jPUAr}  
4.1  容量和局限性 33 0Q81$% @<  
4.2  程序在哪里? 33 dM%#DN8 l  
4.3  数据文件 35 4z^ ?3@:K  
4.4  设计规则 35 VJK?"mX  
4.5  材料数据库和资料库 37 K3uNR w  
4.5.1材料损失 38 P}] xz Vy  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 1:7 uS.  
4.5.2 材料库 41 3ErW3Ac Ou  
4.5.3导出材料数据 43 ~uF%*  
4.6  常用单位 43 ,_STt)  
4.7  插值和外推法 46 'W!N1W@  
4.8  材料数据的平滑 50 T6gugDQ~.  
4.9 更多光学常数模型 54 0y>]6 8D  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ^BDM'  
4.11 撤销和重做 56 G~SgI>Q  
4.12  设计文档 57 g_kR5Wxpt  
4.10.1  公式 58 n"[VM=YGI  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [D8u.8q  
4.10.3  沉积密度 59 gnW]5#c@  
4.10.4 平行和楔形介质 60 0q|.]:][Eo  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 E\3fL"lM  
4.10.4  性能 61 [(Z sQK  
4.10.5  保存设计和性能 64 *Y4h26  
4.10.6  默认设计 64 ^ :%"Z&  
4.11  图表 64 s:_M+_7_  
4.11.1  合并曲线图 67 Q_ zGs6  
4.11.2  自适应绘制 68 +(v<_#wR-  
4.11.3  动态绘图 68 8db J'  
4.11.4  3D绘图 69 c4]/{!4 Q  
4.12  导入和导出 73 O}4(v#  
4.12.1  剪贴板 73 <78]OZ] Z  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 28 h3Ayw4  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 KC+C?]~M  
4.13  背景 77 D}n&`^1X+  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 u/`jb2eEU:  
4.15  生成Rugate 84 c$X0C&m  
4.16  参考文献 91 mcbr3P  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 m!{}Y]FZn  
5.1  Jobs 92 ls5s}X  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 AJ0qq  
5.3  输入材料 94 ?\_N*NEtK  
5.4  设计数据文件夹 95 OYcf+p"<\  
5.5  默认设计 95 3Uzb]D~u  
6  细化和合成 97 n5nV4 61U  
6.1  优化介绍 97 G~,K$z/-l  
6.2  细化 (Refinement) 98 2h<{~;  
6.3  合成 (Synthesis) 100 4nC`DJ;V  
6.4  目标和评价函数 101 ( K5w0  
6.4.1  目标输入 102 t;[L-|^  
6.4.2  目标 103 %+PWcCmn  
6.4.3  特殊的评价函数 104 0_Gi1)  
6.5  层锁定和连接 104 Mx ?{[zT"  
6.6  细化技术 104 ('!{kVLT-  
6.6.1  单纯形 105 'qGKS:8  
6.6.1.1 单纯形参数 106 I y?_2m  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Au+SCj  
6.6.2.1 Optimac参数 108 8.Q;o+NU  
6.6.3  模拟退火算法 109 E0K'|*  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 P4"Pb\o*  
6.6.4  共轭梯度 111 )` nX~_'p  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 YkRv~bc1]  
6.6.5  拟牛顿法 112 =@#[@Ia  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 l,FK\  
6.6.6  针合成 113 (TufvHC  
6.6.6.1 针合成参数 114 d/Q}I[J.u  
6.6.7 差分进化 114 ]+1?T)<!  
6.6.8非局部细化 115 @"BvyS,p  
6.6.8.1非局部细化参数 115 *?/9lAm  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 2o0.ttBAqZ  
6.7.1  细化 116 F_8nxQ-  
6.7.2  合成 117 EJ$-  
6.8  参考文献 117 ;^5d^-T  
7  导纳图及其他工具 118 l0c ws`V  
7.1  简介 118 4"$K66yk@  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 +\SNaq~&  
7.2.1  四分之一波长规则 119 [4)q6N5`f  
7.2.2  导纳图 120 AJ'YkSg  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 't2dP,u<-  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 IUX~dO  
7.5  斜入射导纳图 141 mZ;W$y SO  
7.6  对称周期 141 "=l<%em  
7.7  参考文献 142 \;0J6LBc  
8  典型的镀膜实例 143 :e-&,K  
8.1  单层抗反射薄膜 145 eySV -f{  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 hZ0p /Bdv  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 lO482l_t  
8.4  W-膜层 148 yZf+*j/a7  
8.5  V-膜层 149 xrbDqA.b  
8.6  V-膜层高折射基底 150 qXPT1%+)y  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 auOYi<<>W  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 GO@pwq<  
8.9  四层抗反射薄膜 153 :Jp$_T&E  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 5#~ARk*?a  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 5t6!K?}  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 #J AU5d  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 NB]T~_?]*  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 v:s.V>{"S  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 m?;aTSa  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 \tc`Aj%K  
8.17  1/4波长堆栈 162 nQ\ +Za==  
8.18  陷波滤波器 163 fM jn8.  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 k0|*8  
8.20  褶皱 165 6&(gp(F  
8.21  消偏振分光器1 169 H \ $04vkR  
8.22  消偏振分光器2 171 &I8,<(`  
8.23  消偏振立体分光器 172 MpbH!2J  
8.24  消偏振截止滤光片 173 &*TwEN^h  
8.25  立体偏振分束器1 174 *wW/nr=\;  
8.26  立方偏振分束器2 177 u@SE)qg  
8.27  相位延迟器 178 $M\[^g(q  
8.28  红外截止器 179 5TlPs_o  
8.29  21层长波带通滤波器 180 846j<fE  
8.30  49层长波带通滤波器 181 pm<zw-  
8.31  55层短波带通滤波器 182 $KL5Z#K  
8.32  47 红外截止器 183 XcJ'w  
8.33  宽带通滤波器 184 ,RFcR[ak  
8.34  诱导透射滤波器 186 [3`T/Wm  
8.35  诱导透射滤波器2 188 1nh2()QI[  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 tN|sHgs  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 -Z&6PT7  
8.35  增益平坦滤波器 193 \LB =_W$  
8.38  啁啾反射镜 1 196 H27J kZ&  
8.39  啁啾反射镜2 198 x1)G!i  
8.40  啁啾反射镜3 199 ZOl =zn  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ]}Hcb)'j@  
8.42  增加铝反射率膜 201 ua(y! Im  
8.43  参考文献 202 h tbN7B(  
9  多层膜 204 i][7S mN  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 fRo_rj _  
9.2  内部透过率 204 h'wOslyFa  
9.3 内部透射率数据 205 />fy@nPl|  
9.4  实例 206 B\&;eZY'G  
9.5  实例2 210 +r)'?zU  
9.6  圆锥和带宽计算 212  N7j  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 -A}*Aa'\  
10  光学薄膜的颜色 216 ~o`I[-g)  
10.1  导言 216 q#B^yk|Y  
10.2  色彩 216 &F" Mkyf  
10.3  主波长和纯度 220 <Gzy*1 Q&  
10.4  色相和纯度 221 +~J?/  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 .)^@[yrkz  
10.6 色差 226 jh.W$.Oq  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 7G}vQO  
10.8  颜色渲染指数 234 :u#Ls,OZz  
10.9  色差计算 235 H<|I&nV  
10.10  参考文献 236 BDY@&vF  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 l)E \mo 8  
11.1  短脉冲 238 -!(  
11.2  群速度 239 N$J)Ow  
11.3  群速度色散 241 o[*</A }  
11.4  啁啾(chirped) 245 -bSe=09;S|  
11.5  光学薄膜—相变 245 fAWjk&9  
11.6  群延迟和延迟色散 246 s}A)sBsaP3  
11.7  色度色散 246 \s Fdp!M}2  
11.8  色散补偿 249 Nd/iMV6V;  
11.9  空间光线偏移 256 l|-1H76  
11.10  参考文献 258 ]B0 >r^  
12  公差与误差 260 W5?F?Dp!v  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Y4`MgP8t  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 C,C%1  
12.2.1  误差工具 267 jzc/Olb  
12.2.2  灵敏度工具 271 'X{cDdS^  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 "/hM&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 J=6 7As  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /_E:sI9(  
12.3  参考文献 276 0B)l"$W[)/  
13  Runsheet 与Simulator 277 f&t]O$  
13.1  原理介绍 277 VtF^; f  
13.2  截止滤光片设计 277 xI'<4lo7Z  
14  光学常数提取 289 ,s0E]](  
14.1  介绍 289 35Nwx<  
14.2  电介质薄膜 289 5gW`;Cdbyc  
14.3  n 和k 的提取工具 295 xEaRuH c  
14.4  基底的参数提取 302 ~u1ox_v`%(  
14.5  金属的参数提取 306 8Q^yh6z  
14.6  不正确的模型 306 ';??0M  
14.7  参考文献 311 12Qcjj%F*  
15  反演工程 313 boo,KhW'Y  
15.1  随机性和系统性 313 !cw<C*  
15.2  常见的系统性问题 314 _Jj/"?  
15.3  单层膜 314 [8.ufpZ  
15.4  多层膜 314 zvL&V .>  
15.5  含义 319 =25q Y"Mf  
15.6  反演工程实例 319 vP&dvAUF  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 gs 8w/  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ]CH@ T9d5V  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 {rGq|Bj  
16.1  光学性质的热致偏移 329 > ZkcL7t9  
16.2  应力工具 335 XETY)<g  
16.3  均匀性误差 339 H ~1laV  
16.3.1  圆锥工具 339 N+l~r]: &  
16.3.2  波前问题 341 k(o[T),_%0  
16.4  参考文献 343 dv-yZRU:  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 B{a:cz>0<  
17.1  引言 345 FQB)rxP  
17.2  操作数 345 ,T"pUeVJ  
18  如何在Function中编写脚本 351 -2|D( sO  
18.1  简介 351 nWN~G  
18.2  什么是脚本? 351 b$[_(QUw  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351  m3 ;  
18.4  基础 352 QRdNi 1&M  
18.4.1  Classes(类别) 352 l9 )iLOj  
18.4.2  对象 352 YS,kjL/  
18.4.3  信息(Messages) 352 #h ;j2  
18.4.4  属性 352 hxx,E>k  
18.4.5  方法 353 |8&AsQd  
18.4.6  变量声明 353 Km]N scq1  
18.5  创建对象 354 )V JAs|  
18.5.1  创建对象函数 355 %cO;{og M  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 # j*$ `W;  
18.5.3 丢弃对象 356 mc|T}B  
18.5.4  总结 356 vX)6N#D!  
18.6  脚本中的表格 357 yk#yrxM  
18.6.1  方法1 357 +@]1!|@(  
18.6.2  方法2 357 l7aGo1TcIh  
18.7 2D Plots in Scripts 358 mW1Sd#0  
18.8 3D Plots in Scripts 359 M ^ ZoBsZ  
18.9  注释 360 [ar:zl V8  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 *)ed(+b  
18.11  一个更高级的脚本 362 K%qunjv  
18.12  <esc>键 364 riZFcVsB  
18.13 包含文件 365 @iUzRsl  
18.14  脚本被优化调用 366 cZ|D!1%  
18.15  脚本中的对话框 368 >?'q P ]  
18.15.1  介绍 368 `NXyzT`:K  
18.15.2  消息框-MsgBox 368  -6~*:zg,  
18.15.3  输入框函数 370 0-0 )E&2  
18.15.4  自定义对话框 371 _4o2AS:j  
18.15.5  对话框编辑器 371 \bQ|O7s  
18.15.6  控制对话框 377 yZK1bnYG|I  
18.15.7  更高级的对话框 380 pW:h\}%`n  
18.16 Types语句 384 0o At=S  
18.17 打开文件 385 Yp 6;Y7^  
18.18 Bags 387 =G}_PRn  
18.13  进一步研究 388 ; VK;_d  
19  vStack 389 W euV+}\b  
19.1  vStack基本原理 389 "x9xJ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ="@W)"r  
19.3  五棱镜 393 =d~]*[8  
19.4 光束距离 396 BGOI$,  
19.5 误差 399 ;07!^#:L=Q  
19.6  二向分色棱镜 399 {,IWjt &>  
19.7  偏振泄漏 404 ol!o8M%Q  
19.8  波前误差—相位 405 huvg'Y t  
19.9  其它计算参数 405 GOJi/R.{  
20  报表生成器 406 6xdu}l=%  
20.1  入门 406 {N)\It  
20.2  指令(Instructions) 406 )@eBe^  
20.3  页面布局指令 406 PC\Xm,,  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Ep5lm zg  
20.5  表格中的常见参数 408 6i.'S5.  
20.6  迭代指令 408 E|97zc  
20.7  报表模版 408 mI9h| n  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ]~?k%Mpw  
21  一个新的project 413 L!S-f4^5  
21.1  创建一个新Job 414 Pdf_{8 r  
21.2  默认设计 415 n/$BdFH  
21.3  薄膜设计 416 b cM#KA  
21.4  误差的灵敏度计算 420 FVY,CeA.  
21.5  显色指数计算 422 1Dt"Rcn"4  
21.6  电场分布 424 {6 #3`  
后记 426 4c2P%X( C  
&=HM}h  
15yIPv+5  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 0p2 0Rt  
V2g$"W?3  
《Essential Macleod中文手册》
!ox&`  
30DpIkf  
目  录 GGJ_,S*  
L+I[yJY:!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 m9L+|r  
第1章 介绍 ..........................................................1 z7<^aS  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 GC4$9q}C4Z  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 YvYavd  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 WZm^:,  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 n|,Es!8:o  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 7PQedZ<\  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 2Cr+Z(f  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100  fx;5j;  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 8U;!1!+ 7)  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Ev^Xs6 }"  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ZzKn,+  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 qL'3MY.!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 &Mc mA  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 c<H4rB  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 I* bjE '  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 'R'>`?Nh  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 \6lXsu;I.X  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vaQ,l6z .h  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 /ZzlC#`  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 .s!:p pwl  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 AoR`/tr,  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 qnA:[H;F  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ,88Y1|:X  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 @?1%*/  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 zu^ AkMc  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 >N,G@{FR  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 t%TZu>(1O  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 TgUQD(d^  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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