线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1037
时间地点 vW*Mf}=  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 p7`9 d1n  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 dS 4/spNq  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ,WOCG 2h  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 P8dMfD*"E  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
zFO0l).  
特邀专家介绍 } #e=*8F7  
7lwI]/ZH*  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Y iuV\al  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ]Bf1p  
课程概要 DPW^OgL;  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 2Q@n a @s  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 [O_5`X9|  
课程大纲 6<S-o|Xw  
1. Essential Macleod软件介绍 6q>iPK Jt  
1.1 介绍软件 420K6[  
1.2 创建一个简单的设计 oP56f"BE(  
1.3 绘图和制表来表示性能 Y_y!$jd(N  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 By7lSbj  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) (NR( )2  
1.6 特定设计的公式技术 *.wj3' wV  
1.7 交互式绘图 LNk :PD0m  
2. 光学薄膜理论基础 DUu:et&c1  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 =2GKv7q$x,  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 <`vXyPA6  
3. 材料管理 5,f`5'$  
3.1 材料模型 Wkk(6gS,  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 A ?V-Sz#  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 F^Jz   
3.4 基板光学常数的提取 Q Rr9|p{  
4. 光学薄膜设计优化方法 S#p_Y^A  
4.1 参考波长与g @YaI5>,/  
4.2 四分之一规则 0~$9z+S  
4.3 导纳与导纳图 7#UJ444b~  
4.4 斜入射光学导纳 RLQ*&[A}  
4.5 光学薄膜设计的进展 9 $X" D  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 KV;q}EyG  
4.6.1 优化目标设置 =eW4?9Uq  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) h2mHbe43  
4.6.3 膜层锁定和链接 /K!f3o+  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 R1Rk00Ow:  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 CfrO1iF  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 R'B_YKHBY  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 0k\,z(e  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 S\I+UeFkf  
5.5 如何在Function中编写脚本 Gb[J3:.  
6. 光学薄膜系统案例 FYC]^D  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 q*4@d)_&  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 7vPG b:y  
6.3 Stack应用范例说明 NF |[j=?  
7. 薄膜性能分析 %|JL=E}%|  
7.1 电场分布 7],y(:[=v  
7.2 公差与灵敏度分析 e&ZTRgYdi  
7.3 反演工程 jc:=Pe!E  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 A-myY30  
8. 真空技术 s-SFu  
8.1 常用真空泵介绍 xgNV0;g,  
8.2 真空密封和检漏 6A>bm{`c:  
9. 薄膜制备技术 ' cS| BT  
9.1 常见薄膜制备技术 %UooZO  
10. 薄膜制备工艺 A\7sP =  
10.1 薄膜制备工艺因素 @Bkg<  
10.2 薄膜均匀性修正技术 @0H0!9'  
10.3 光学薄膜监控技术 sL TQm*jL  
11. 激光薄膜 e9:pS WA-n  
11.1 薄膜的损伤问题 GYJ j$'  
11.2 激光薄膜的制备流程 YT[=o}jS  
11.3 激光薄膜的制备技术 M54czo=l  
12. 光学薄膜特性测量 [\Aws^fD_  
12.1 薄膜光谱测量 vYLspZ;S  
12.2 薄膜光学常数测量 +B+cN[d  
12.3 薄膜应力测量 jc>B^mqx  
12.4 薄膜损伤测量 l&W:t9o  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 XD!}uDZ^  
rWO#h{  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
Jz&dC  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
"k"+qR`fH  
内容简介 4V]xVma  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 cyjgi /Z  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 v=dN$B5y3  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,_7m<(/f  
'_K`1&#U  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
_m a;b<I/<  
目录 g?j^d:  
Preface 1  ++8 Xi1  
内容简介 2  8QKu  
目录 i m\ qR myO  
1  引言 1 f<<$!]\  
2  光学薄膜基础 2 ~_ovQ4@  
2.1  一般规则 2 kwS[,Qy\  
2.2  正交入射规则 3 Ew{N 2  
2.3  斜入射规则 6 67Tu8I/r  
2.4  精确计算 7 0&&P+adk  
2.5  相干性 8 l.}gWN9-  
2.6 参考文献 10 Fo ,8"m  
3  Essential Macleod的快速预览 10 d|UH AX  
4  Essential Macleod的特点 32 U&$I!80.  
4.1  容量和局限性 33 .OW5R*  
4.2  程序在哪里? 33 \j we  
4.3  数据文件 35 kY4h-oZ  
4.4  设计规则 35 GV9pet89yu  
4.5  材料数据库和资料库 37 RdpOj >fT  
4.5.1材料损失 38 .rDao]K  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 )kKeA  
4.5.2 材料库 41 j6 _w2  
4.5.3导出材料数据 43 rg%m   
4.6  常用单位 43 ~g~`,:Qc  
4.7  插值和外推法 46 ;gRPTk$X3  
4.8  材料数据的平滑 50 4dSAGLpp  
4.9 更多光学常数模型 54 \IR $~  
4.10  文档的一般编辑规则 55 lL'K1%{+ \  
4.11 撤销和重做 56 aH500  
4.12  设计文档 57 t3Iij0b~  
4.10.1  公式 58 zFwO(  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 sJg3WN  
4.10.3  沉积密度 59 IeIv k55  
4.10.4 平行和楔形介质 60 "(+aWvb  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 !) d  
4.10.4  性能 61 7:.!R^5H  
4.10.5  保存设计和性能 64 Z3Xgi~c  
4.10.6  默认设计 64 G6"4JTWO  
4.11  图表 64 %+ MYg^  
4.11.1  合并曲线图 67 FQMA0"(G$  
4.11.2  自适应绘制 68 fX&g. fH  
4.11.3  动态绘图 68 M|$A)D1  
4.11.4  3D绘图 69 <&t[E0mU  
4.12  导入和导出 73 yN}<l%  
4.12.1  剪贴板 73 =G rg  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 xtXK3[s  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 z7*mT}Q  
4.13  背景 77 D6FG$SV  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6SSrkj}U  
4.15  生成Rugate 84 rN {5^+w  
4.16  参考文献 91 xz/G$7q7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ,=}+.ax  
5.1  Jobs 92 C[JPohm  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 @d[)i,d:G  
5.3  输入材料 94 @y# u!}  
5.4  设计数据文件夹 95 \'nE{  
5.5  默认设计 95 ~^eC?F(  
6  细化和合成 97 IS!]!s'EI  
6.1  优化介绍 97 >PygUY d  
6.2  细化 (Refinement) 98 bgmOX&`G  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Cz4l  
6.4  目标和评价函数 101 8 A#\V  
6.4.1  目标输入 102 w6k^|."  
6.4.2  目标 103 /9C>{29x!  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Fz_8m4  
6.5  层锁定和连接 104 ?vP }#N!=d  
6.6  细化技术 104 V ;M'd@  
6.6.1  单纯形 105 &)Iue<&2  
6.6.1.1 单纯形参数 106 E>}3MfL  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 N8]d0  
6.6.2.1 Optimac参数 108 8DlRD$_:&  
6.6.3  模拟退火算法 109 RYX=;n  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 (Yc}V  
6.6.4  共轭梯度 111 /vFdhh  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 mz .uK2l{  
6.6.5  拟牛顿法 112 n11eJEtm  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 xTdh/}  
6.6.6  针合成 113 3ry0.  
6.6.6.1 针合成参数 114 zeHs5P8}r  
6.6.7 差分进化 114 |Iq\ZX%q  
6.6.8非局部细化 115 zDA;FKZPp  
6.6.8.1非局部细化参数 115 WAh{*$Rpl  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 "V7&@3  
6.7.1  细化 116  qr7_3  
6.7.2  合成 117 ;KW}F|  
6.8  参考文献 117 -B#>Jn#F  
7  导纳图及其他工具 118 +P 9h%/Yk  
7.1  简介 118 *ps")?tlC  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Y !nE65  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Sc$]ar]S  
7.2.2  导纳图 120 W6uz G  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \RyW#[(  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Z6r_T  
7.5  斜入射导纳图 141 &r !*Y&  
7.6  对称周期 141 Zo36jSrCL  
7.7  参考文献 142 9.$k^|~  
8  典型的镀膜实例 143 -*C+z!?BP  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ^0&   
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?e!mv}B_  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ukRbSJ5a5  
8.4  W-膜层 148 #a"gW,/K  
8.5  V-膜层 149 *H%Jgz,  
8.6  V-膜层高折射基底 150 th(<S  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Ny)!uqul*  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +}0/ %5 =1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 [CJr8Qn  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 M2e_)f:  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 _kT$/k  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 |\/Y<_)JD  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 =;^#5dpt$  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ^iaG>rvA  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 r5N.Qt8  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 u >o2lvy8  
8.17  1/4波长堆栈 162 $ @cg+Xrg1  
8.18  陷波滤波器 163 F&x9.  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 WfE,U=e*  
8.20  褶皱 165 8yV?l7  
8.21  消偏振分光器1 169 k~ZE4^dM  
8.22  消偏振分光器2 171 StJ&YYdD  
8.23  消偏振立体分光器 172 q}mQm'  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Fv"jKZPgzz  
8.25  立体偏振分束器1 174 H"A|Z6y$^  
8.26  立方偏振分束器2 177 &c)n\x*  
8.27  相位延迟器 178 Dy_Za.N2  
8.28  红外截止器 179 VCZ.{MD  
8.29  21层长波带通滤波器 180 }<hyW9  
8.30  49层长波带通滤波器 181 c>%+y+b{  
8.31  55层短波带通滤波器 182 TS{ycGY  
8.32  47 红外截止器 183 SiyZq"  
8.33  宽带通滤波器 184 CPCjY|w7   
8.34  诱导透射滤波器 186 ki[Yu+';}  
8.35  诱导透射滤波器2 188 4 u!)QG  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Hjm  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 >F~]r$G  
8.35  增益平坦滤波器 193 {@c)!% 2$  
8.38  啁啾反射镜 1 196 \]eB(&nq  
8.39  啁啾反射镜2 198 QK3j.Ss  
8.40  啁啾反射镜3 199 $($26g  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ErNL^Se1  
8.42  增加铝反射率膜 201 eS/4gM7%  
8.43  参考文献 202 S-\;f jh  
9  多层膜 204 AF}6O(C~  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 2.zx  
9.2  内部透过率 204  X)^kJ`  
9.3 内部透射率数据 205 Z2,[-8,Kx  
9.4  实例 206 MwN.Ll  
9.5  实例2 210 ny:4L{)  
9.6  圆锥和带宽计算 212 O%.c%)4Xo  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ~a^"VQ5]ac  
10  光学薄膜的颜色 216 JC6Bs`=s~  
10.1  导言 216 Qyr^\a;k'  
10.2  色彩 216 W9ZfD~(3-  
10.3  主波长和纯度 220 i+)9ItZr  
10.4  色相和纯度 221  1 U|IN=  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 V uqJ&U.-  
10.6 色差 226 !vB8Pk"  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 +p:#$R)MW  
10.8  颜色渲染指数 234 T(E$0a)#  
10.9  色差计算 235 G:HPd.ay  
10.10  参考文献 236 478gl o  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 #&A)%Qbg  
11.1  短脉冲 238 vnT'.cBB:^  
11.2  群速度 239 ]D@_cxud3  
11.3  群速度色散 241 ([y2x.kd  
11.4  啁啾(chirped) 245 $y\\ ?  
11.5  光学薄膜—相变 245 Dl2`b">u  
11.6  群延迟和延迟色散 246 9 -\.|5;:  
11.7  色度色散 246 GS %ACk  
11.8  色散补偿 249 l cHqg  
11.9  空间光线偏移 256 >8$]g  
11.10  参考文献 258 .]_ (>^6  
12  公差与误差 260 h7iI=[_V  
12.1  蒙特卡罗模型 260 "Cz8nG  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 XN@F6Gj  
12.2.1  误差工具 267 ^{3,ok*Nf  
12.2.2  灵敏度工具 271 DdY89R 6  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Z Sj[GI  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 &\Es\qVSf  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 qHT_,\l2  
12.3  参考文献 276 dD Qx[  
13  Runsheet 与Simulator 277 =.Tc l"O[  
13.1  原理介绍 277 :`~;~gW<  
13.2  截止滤光片设计 277 0=3Av8  
14  光学常数提取 289 |;XkU`G  
14.1  介绍 289 i/j DwA  
14.2  电介质薄膜 289 .Du-~N4\  
14.3  n 和k 的提取工具 295 3dlL?+Y#  
14.4  基底的参数提取 302 Q Q3a&  
14.5  金属的参数提取 306 Z%]s+V)st  
14.6  不正确的模型 306 9ZbT41  
14.7  参考文献 311 r2WW}W  
15  反演工程 313 gVM&wo |  
15.1  随机性和系统性 313 5C}1iZEJ  
15.2  常见的系统性问题 314 #bz#&vt$  
15.3  单层膜 314 O_yk<  
15.4  多层膜 314 j06q3N"  
15.5  含义 319 q2o`.f+I  
15.6  反演工程实例 319 N,F mu  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ^EK]z8;|  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 jea{BhdUr  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 lr>P/W\  
16.1  光学性质的热致偏移 329 8.9Z0  
16.2  应力工具 335 ;7jszs.6%  
16.3  均匀性误差 339 yfq Vx$YL  
16.3.1  圆锥工具 339 zGDLF`  
16.3.2  波前问题 341 u0&QStI  
16.4  参考文献 343 8F?6Aq1B  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 O] T'\6w  
17.1  引言 345 7rF )fKW  
17.2  操作数 345 eXN\w]GE  
18  如何在Function中编写脚本 351 k[{h$  
18.1  简介 351 =UGyZV:z5  
18.2  什么是脚本? 351 rD"$,-h  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 2pKkg>/S  
18.4  基础 352 Bu[sSoA  
18.4.1  Classes(类别) 352 avJ%J"j8z  
18.4.2  对象 352 it Byw1/  
18.4.3  信息(Messages) 352 g4Y1*`}2f  
18.4.4  属性 352 nY]5pOF:  
18.4.5  方法 353 ~F gxhK2+  
18.4.6  变量声明 353 d) i:-#Q  
18.5  创建对象 354 #qx$ p  
18.5.1  创建对象函数 355 zEHX:-f8  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 6ol*$Q"z  
18.5.3 丢弃对象 356 _h?hFs,N]  
18.5.4  总结 356 TBAF_$  
18.6  脚本中的表格 357 J>@T'#  
18.6.1  方法1 357 zWN<"[agc  
18.6.2  方法2 357 <_o).hE{  
18.7 2D Plots in Scripts 358 sbeS9vE  
18.8 3D Plots in Scripts 359 >-%tvrS%  
18.9  注释 360 2.,4b-^  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 A_:CGtv:  
18.11  一个更高级的脚本 362 pTQ70V3  
18.12  <esc>键 364 $N;Nvp2  
18.13 包含文件 365 ?pBQaUl&  
18.14  脚本被优化调用 366 v(|Arm?  
18.15  脚本中的对话框 368 No|T#=BZ[  
18.15.1  介绍 368 I34|<3t$  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 !HV<2q()  
18.15.3  输入框函数 370 ^x BQ#p  
18.15.4  自定义对话框 371 +D3w2C  
18.15.5  对话框编辑器 371 |\# ~  
18.15.6  控制对话框 377 \LN!k-c  
18.15.7  更高级的对话框 380 _l{`lQ}  
18.16 Types语句 384 &U.U<  
18.17 打开文件 385 ?RP&XrD  
18.18 Bags 387 -Lo3@:2i  
18.13  进一步研究 388 !_yWe  
19  vStack 389 |~+i=y  
19.1  vStack基本原理 389 R [qfG! "  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 uK6'TJ  
19.3  五棱镜 393 43'!<[?x  
19.4 光束距离 396 3Fu5,H EJ  
19.5 误差 399 fTq/9=Rq4  
19.6  二向分色棱镜 399 )z" .lw  
19.7  偏振泄漏 404 rf ?\s/#OY  
19.8  波前误差—相位 405 4#^E$N:  
19.9  其它计算参数 405 y#B4m`9  
20  报表生成器 406 3J3Yt`  
20.1  入门 406 Ha)Vf+W  
20.2  指令(Instructions) 406 /WxCsQn  
20.3  页面布局指令 406 :{g;J  
20.4  常见的参数图和三维图 407 '{ $7Dbo  
20.5  表格中的常见参数 408 b] 5i`  
20.6  迭代指令 408 N6>ert1  
20.7  报表模版 408 I2&R+~ktR  
20.8  开始设计一个报表模版 409 z]49dCN  
21  一个新的project 413 k#oe:u`<  
21.1  创建一个新Job 414 {%&!x;%  
21.2  默认设计 415 B - 1Kfc  
21.3  薄膜设计 416 _{ Np _ (g  
21.4  误差的灵敏度计算 420 2]UwIxzR  
21.5  显色指数计算 422 \ cr)O^&  
21.6  电场分布 424 ?niv}/'%O  
后记 426 u6t%*''  
znkc@8_4  
.rcXxV@f  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 >53Hqzm&  
fi tsu"G  
《Essential Macleod中文手册》
EK%J%NY  
{hH8+4c7  
目  录 yt4sg/] :  
N hY`_?)  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 HOr.(gL!  
第1章 介绍 ..........................................................1 <1pRAN0  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ^&z3zFTp  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 v[b|J7k  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 j9 d^8)O,  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 e#<A\?  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 sPP(>y( \  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 J5zKwt  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ev[!:*6P  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 sDZ<X A  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 C9j3|]nyL  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Njmb{L]Cps  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 wZsjbNf`K  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 <*@!>6mS  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Htm;N2$d  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 X EL~y  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 .P(A x:g  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 wlEmy.)H  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ( d1ho=  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 n.b_fkZNr  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 XE`u  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 9TU B3x^  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 m5%E1k$=  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 A5IW[Gu!  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 _x]q`[Dih  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 [2.;gZj  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 [+wLy3_  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ,KaO8^PB  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 7Ml OBPh  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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