线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:509
时间地点 o/$}  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 +eWQa`g  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 QuF:p  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 \}u Y'F  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 c)TPM/>(p  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
dUeN*Nq&(,  
特邀专家介绍 <ktrPlNuM  
dh`K`b4I  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ENl)Ts`y  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ]_mb7X>  
课程概要 ';w#w<yaI  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ;v)JnbsH}  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 (Y.k8";)`  
课程大纲 (^8Y|:Tz  
1. Essential Macleod软件介绍 F 5bj=mI  
1.1 介绍软件 b@gc{R}7  
1.2 创建一个简单的设计 Xk~D$~4<  
1.3 绘图和制表来表示性能 ?mwt~_s9  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 w=0(<s2  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ~9a<0Mc?  
1.6 特定设计的公式技术 75cW_t,g  
1.7 交互式绘图 :}L[sl\R  
2. 光学薄膜理论基础 \+oQd=K@  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ]}<}lI9  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 [i21FX  
3. 材料管理 GfxZ'VIn  
3.1 材料模型 $-OA'QwB]  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 >a!/QMh  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Thp[+KP>  
3.4 基板光学常数的提取 Q Uwd [  
4. 光学薄膜设计优化方法 #px+;k 5  
4.1 参考波长与g 9tU]`f  
4.2 四分之一规则 mDA:nx%5<  
4.3 导纳与导纳图 n$MO4s8)  
4.4 斜入射光学导纳 O%WIf__Q  
4.5 光学薄膜设计的进展 gD-d29pQ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 4M=]wR;  
4.6.1 优化目标设置 Fd%#78UEo}  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) |PvPAPy)uu  
4.6.3 膜层锁定和链接 g+8OekzB5  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 : Xda1S  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 j nkR}wAA  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 I13y6= d  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 J|W<;  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 2prU  
5.5 如何在Function中编写脚本 .Yamc#A-  
6. 光学薄膜系统案例 yJ[0WY8<kC  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 A]_7}<<N  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 a(m2n.0'>  
6.3 Stack应用范例说明 b <tNk]7  
7. 薄膜性能分析 N~nziY*C,*  
7.1 电场分布 NJ%P/\ C  
7.2 公差与灵敏度分析 KaLzg5is  
7.3 反演工程 vz@A;t  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 lB8-Z ow  
8. 真空技术 I {SjlN}d  
8.1 常用真空泵介绍 <.%4 ! }f8  
8.2 真空密封和检漏 3p$?,0ELH  
9. 薄膜制备技术 Oz75V|D  
9.1 常见薄膜制备技术 WqR&&gz  
10. 薄膜制备工艺 ,5P0S0*{  
10.1 薄膜制备工艺因素 s-NX o  
10.2 薄膜均匀性修正技术 >1X|^  
10.3 光学薄膜监控技术 <X#C)-.  
11. 激光薄膜 9sM!`Lz{  
11.1 薄膜的损伤问题 .y'>[  
11.2 激光薄膜的制备流程 dUD[e,?  
11.3 激光薄膜的制备技术 4V"E8rUL(  
12. 光学薄膜特性测量 ob!P ;]T  
12.1 薄膜光谱测量 x f'V{9*  
12.2 薄膜光学常数测量 ]E{NNHK%2N  
12.3 薄膜应力测量 m=1N>cq '  
12.4 薄膜损伤测量 nd`1m[7MNu  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 4XL^D~V  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
xW+6qtG`  
内容简介 ImA @}:  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `](e:be}  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 m%0p\Y-/  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~kV/!=  
~EW(Gs!=C  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
5G}?fSQ>  
目录 8u"U1  
Preface 1 l&[O  
内容简介 2 05|=`eJ  
目录 i {% 6}'  
1  引言 1 ]|#+zx|/D  
2  光学薄膜基础 2 @s*-%N^:[L  
2.1  一般规则 2 [=C6U_vU  
2.2  正交入射规则 3 g/4[N{Xf  
2.3  斜入射规则 6 O/^ %2mG  
2.4  精确计算 7 //B&k`u  
2.5  相干性 8 oE6tauQn  
2.6 参考文献 10 k``_EiV4t  
3  Essential Macleod的快速预览 10 REQ\>UO_  
4  Essential Macleod的特点 32 > [)7U _|p  
4.1  容量和局限性 33 L]7=?vN=8  
4.2  程序在哪里? 33 $Ph|e)p  
4.3  数据文件 35 ]IaMp788  
4.4  设计规则 35 K&u_R  
4.5  材料数据库和资料库 37 $+Z[K.2J  
4.5.1材料损失 38 ;J'LS  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 n>z9K')  
4.5.2 材料库 41 oueC  
4.5.3导出材料数据 43 KV91)U  
4.6  常用单位 43 'I|v[G$l  
4.7  插值和外推法 46 m5n #v  
4.8  材料数据的平滑 50 $L `d&$Vh  
4.9 更多光学常数模型 54 _=>He=v/  
4.10  文档的一般编辑规则 55 UhF-K#Z9  
4.11 撤销和重做 56 /*~EO{o  
4.12  设计文档 57 +SzU  
4.10.1  公式 58 AhN4mc@  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ME$[=?7XX  
4.10.3  沉积密度 59 IuDS*/Sx  
4.10.4 平行和楔形介质 60 NCXRevE  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 N>uRf0E>  
4.10.4  性能 61 h#I>M`|  
4.10.5  保存设计和性能 64 s3N'02G  
4.10.6  默认设计 64 8bGd} (  
4.11  图表 64 2g `o  
4.11.1  合并曲线图 67 !"e5h`/ADM  
4.11.2  自适应绘制 68 d2FswF$C  
4.11.3  动态绘图 68 {L971W_L  
4.11.4  3D绘图 69 :]K4KFM  
4.12  导入和导出 73 >-?f0 K  
4.12.1  剪贴板 73 1y &\5kB  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 D_2:k'4  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 L<c4kw  
4.13  背景 77 >tS'Q`R  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 |T /ZL!  
4.15  生成Rugate 84 r wL`Czs  
4.16  参考文献 91 'ycJMYP8  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 b)#hSjWO#  
5.1  Jobs 92 sfH_5 #w  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 W.jGGt\<\  
5.3  输入材料 94 \<h0Q,e  
5.4  设计数据文件夹 95 &<g|gsG`  
5.5  默认设计 95 <\ y@*fg+  
6  细化和合成 97 yqs4[C  
6.1  优化介绍 97 `cn#B BV  
6.2  细化 (Refinement) 98 x^qVw5{n  
6.3  合成 (Synthesis) 100 nUr5Qn?  
6.4  目标和评价函数 101 Ufj`euY  
6.4.1  目标输入 102 1.JK3 3  
6.4.2  目标 103 ;1W6G=m  
6.4.3  特殊的评价函数 104  'c&Ed  
6.5  层锁定和连接 104 \&:nFb%=  
6.6  细化技术 104 g9pZ\$J&  
6.6.1  单纯形 105 .<?GS{6 N  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ? V1*cVD6i  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 iozt&~o  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Rh2+=N<X  
6.6.3  模拟退火算法 109 ]]![EHi(\  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 g'f@H-KCD  
6.6.4  共轭梯度 111 @u+]aI!`-  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 E =67e=h  
6.6.5  拟牛顿法 112 68|E9^`l  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ;V_e>TyG  
6.6.6  针合成 113 ]EbM9Fo-U  
6.6.6.1 针合成参数 114 M t|zyXyzX  
6.6.7 差分进化 114 YMyfL8bO  
6.6.8非局部细化 115 ;O5zUl-`  
6.6.8.1非局部细化参数 115 S72+d%$  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Y Uc+0  
6.7.1  细化 116 ,pfG  
6.7.2  合成 117 S}3fr^{.  
6.8  参考文献 117 bP#:Oi0v`  
7  导纳图及其他工具 118 A  'be8  
7.1  简介 118 g/_5unI}u  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 XW H5d-  
7.2.1  四分之一波长规则 119 2"Q|+-Io  
7.2.2  导纳图 120 /62!cp/F/D  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Gu,wF(x7A  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 =?* !"&h  
7.5  斜入射导纳图 141 s[*rzoA  
7.6  对称周期 141 ztY}5A2`  
7.7  参考文献 142 s) t@ol  
8  典型的镀膜实例 143 nAato\mM  
8.1  单层抗反射薄膜 145 +E+p"7  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 2s8a $3  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 FGJ1dBLr  
8.4  W-膜层 148 3%|&I:tI  
8.5  V-膜层 149 CW K7wZM  
8.6  V-膜层高折射基底 150 {z|)Njhg  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 :kV#y  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 <=&`ZH   
8.9  四层抗反射薄膜 153 I{&[[7H  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 QL/(72K  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 bWS&Yk(  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 L{\8!51L  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 T Z@]:e:"b  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 .43'HV  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 *a^(vo   
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 #z%fx   
8.17  1/4波长堆栈 162 =I5>$}q_&,  
8.18  陷波滤波器 163 ~=LE0.3[  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3M`M  
8.20  褶皱 165 Lb-OsKU  
8.21  消偏振分光器1 169 #%2rP'He  
8.22  消偏振分光器2 171 Uc>lGo1j  
8.23  消偏振立体分光器 172 $wa{~'  
8.24  消偏振截止滤光片 173 {Mk6T1Bkq  
8.25  立体偏振分束器1 174 SulY1,  
8.26  立方偏振分束器2 177 6|=f$a  
8.27  相位延迟器 178 QIEJ6`  
8.28  红外截止器 179 Q{>k1$fkV  
8.29  21层长波带通滤波器 180 RP|`HkP-2  
8.30  49层长波带通滤波器 181 MN>b7O \.?  
8.31  55层短波带通滤波器 182 =svN#q5s  
8.32  47 红外截止器 183 Ix}sK"}[n  
8.33  宽带通滤波器 184 `}\ "Aw c  
8.34  诱导透射滤波器 186 JR|ck=tq  
8.35  诱导透射滤波器2 188 _LnpnL:  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 TX/Xt7#R:  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 >:!5*E5?  
8.35  增益平坦滤波器 193 ~ Iuf}D;  
8.38  啁啾反射镜 1 196 T!{w~'=F  
8.39  啁啾反射镜2 198 FV!q!D  
8.40  啁啾反射镜3 199 :-Z2:/P  
8.41  带保护层的铝膜层 200 gJ{)-\  
8.42  增加铝反射率膜 201 6MW{,N  
8.43  参考文献 202 ajT*/L!0_  
9  多层膜 204 kTB 0b*V  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 }8z?t:|S  
9.2  内部透过率 204 UkC!1Jy  
9.3 内部透射率数据 205 $PPi5f}HD  
9.4  实例 206 >=>2m2z=  
9.5  实例2 210 l)\! .X  
9.6  圆锥和带宽计算 212 00y!K m_D  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ,0sm  
10  光学薄膜的颜色 216 BO&bmfp7,  
10.1  导言 216 ^ @5QP$.  
10.2  色彩 216 _H%c;z+  
10.3  主波长和纯度 220 J8(lIk:e  
10.4  色相和纯度 221 '<<t]kK[N  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 {P./==^0  
10.6 色差 226  (ZizuHC  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 'H!Uh]!  
10.8  颜色渲染指数 234 EVSX.'&f  
10.9  色差计算 235 T^KKy0ZGM  
10.10  参考文献 236 p6@)-2^  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 dn3y\  
11.1  短脉冲 238 7}>EJ  
11.2  群速度 239 %$L{R  
11.3  群速度色散 241 )10+@d  
11.4  啁啾(chirped) 245 " 8MF_Gu):  
11.5  光学薄膜—相变 245 Sm|6 %3  
11.6  群延迟和延迟色散 246 *)Zdz9E'1(  
11.7  色度色散 246 vE?G7%,  
11.8  色散补偿 249 >GRxHK@G  
11.9  空间光线偏移 256 6{b >p+U  
11.10  参考文献 258 n>YKa)|W`  
12  公差与误差 260 )t#W{Gzfmh  
12.1  蒙特卡罗模型 260 eauF ~md,  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 4[e X e$  
12.2.1  误差工具 267 +<C!U'  
12.2.2  灵敏度工具 271 =H8;iS2R  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 L4HI0Mx  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 bG#>uE J-  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 :I#V.  
12.3  参考文献 276 :F?C)F  
13  Runsheet 与Simulator 277 %h@EP[\  
13.1  原理介绍 277 :o3N;*o>)0  
13.2  截止滤光片设计 277 8ib:FF(= u  
14  光学常数提取 289 K0>zxqY  
14.1  介绍 289 .k !{*  
14.2  电介质薄膜 289 w?[upn:K  
14.3  n 和k 的提取工具 295 sgFEK[w.y  
14.4  基底的参数提取 302 [W&T(%(W-  
14.5  金属的参数提取 306 k(HUUH_z  
14.6  不正确的模型 306 WsB?C&>x  
14.7  参考文献 311 0=YI@@n)  
15  反演工程 313 XL ^GZ  
15.1  随机性和系统性 313 M= (u]%\  
15.2  常见的系统性问题 314 9'B `]/L  
15.3  单层膜 314 @VEb{ w[H  
15.4  多层膜 314 upmx $H>  
15.5  含义 319 AK4t\D)K1  
15.6  反演工程实例 319 x%B%f`]8  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 75lA%| *X  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 z24q3 3O  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 > (<f 0  
16.1  光学性质的热致偏移 329  ob]w;"  
16.2  应力工具 335 z$sT !QL~  
16.3  均匀性误差 339 tw@X> G1z  
16.3.1  圆锥工具 339 ih3n<gXF  
16.3.2  波前问题 341 ? r4>"[  
16.4  参考文献 343 ^\m![T\bX  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 !N^@4*  
17.1  引言 345 }SZd  
17.2  操作数 345 i%?*@uj  
18  如何在Function中编写脚本 351 +}AI@+  
18.1  简介 351 Kg]J/|0\  
18.2  什么是脚本? 351 ~xTt204S  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Ewz!O`  
18.4  基础 352 HoAy_7-5  
18.4.1  Classes(类别) 352 A#,ZUOPGH  
18.4.2  对象 352 4xj4=C~i  
18.4.3  信息(Messages) 352 ueNS='+m  
18.4.4  属性 352 %BODkc Zh  
18.4.5  方法 353 DlJo^|5  
18.4.6  变量声明 353 :`sUt1Fw.  
18.5  创建对象 354 -{vD: Il=6  
18.5.1  创建对象函数 355 lOp`m8_=  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 (9)Q ' 'S  
18.5.3 丢弃对象 356 6S #Cl>v  
18.5.4  总结 356 <_+X 88  
18.6  脚本中的表格 357 zt%Mx>V@  
18.6.1  方法1 357 zbiLP83  
18.6.2  方法2 357 zQ PQ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 1Y,Z %d  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ,esmV-  
18.9  注释 360 !,PWb3S  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 5h*p\cl!Y  
18.11  一个更高级的脚本 362 W,u:gzmhw  
18.12  <esc>键 364 b.938#3,  
18.13 包含文件 365 k?}Zg*  
18.14  脚本被优化调用 366 ,!9zrYi}  
18.15  脚本中的对话框 368 `D9$v(Ztr  
18.15.1  介绍 368 j<$2hiI/?&  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 jEwIn1  
18.15.3  输入框函数 370 <VE@DBWyl~  
18.15.4  自定义对话框 371 xSu >  
18.15.5  对话框编辑器 371 []T8k9g/-  
18.15.6  控制对话框 377 \2z>?i)  
18.15.7  更高级的对话框 380 Bw.i}3UT6  
18.16 Types语句 384 :6dxtl/{b:  
18.17 打开文件 385 ?7A>+EY  
18.18 Bags 387 d(K +);!  
18.13  进一步研究 388 "N#Y gSr  
19  vStack 389 9YGY,s x  
19.1  vStack基本原理 389 ;VK.2^jW!  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 wC*X4 '  
19.3  五棱镜 393 UxBpdm%dvP  
19.4 光束距离 396 '%;m?t% q  
19.5 误差 399 05R@7[GWq  
19.6  二向分色棱镜 399 (<lhn  
19.7  偏振泄漏 404 gM]:Ma  
19.8  波前误差—相位 405 !x)R=Z/C  
19.9  其它计算参数 405 $~kA B8z  
20  报表生成器 406 TqQ[_RKg2  
20.1  入门 406 +`15le`R  
20.2  指令(Instructions) 406 OrW  
20.3  页面布局指令 406 \7_y%HR  
20.4  常见的参数图和三维图 407 E{@[k%,_  
20.5  表格中的常见参数 408 EX"yxZ~  
20.6  迭代指令 408 4Tc~b3\!Y  
20.7  报表模版 408 -g<oS9   
20.8  开始设计一个报表模版 409 >mkFV@`  
21  一个新的project 413 )5H?Vh>36  
21.1  创建一个新Job 414 {{1G`;|v 9  
21.2  默认设计 415 ?A0)L27UE&  
21.3  薄膜设计 416 8XaQAy%d]  
21.4  误差的灵敏度计算 420 _v:SP LU  
21.5  显色指数计算 422 QWU-m{@~&  
21.6  电场分布 424 7$#u  
后记 426 L50n8s  
(At$3b6  
8,|kao:  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 l"]V6!-U  
F[MFx^sT{  
《Essential Macleod中文手册》
1H9!5=Ff  
_dU\JD  
目  录 62u4-}JzF  
ABkl%m6xf  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 sRfcF`7  
第1章 介绍 ..........................................................1 _Ey5n!0:  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 [B3RfCV{  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ^sZ,2,^  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 hGrdtsH?  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 )}v l\7=  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 /Kbl%u  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 !m$jk2<  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 8k79&|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Z:gyz$9w  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 *ui</+  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 W l4%GB  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 h];I{crh  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 8Y?;x}  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ^@]3R QB  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 >dT*rH3w  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ce(#2o&`  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 P;*(hY5&  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 E"0>yl)  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 QW"! (`K  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Gh$^{  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 .V*^|UXbHi  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ?Ob3tUz2  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 g&.=2uP  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 0IpmRH/  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 s`U J1eJ  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 |hQ;l|SWg  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Js;h%  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 j!ch5A  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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