线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1332
时间地点 '8Cg2v5&w  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 a[Nm< qV05  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 iGPrWe@.  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 {p.^E5&  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 cO$xT;kK  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
3xk_ZK82  
特邀专家介绍 J}NMF#w/;  
!9.k%B:  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 a,36FF~&  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 L{&>,ww  
课程概要 s"@}^ )*}  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 $DXO7;#  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 0K'{w]Q  
课程大纲 k%3)J"|/  
1. Essential Macleod软件介绍 6f2?)jOW^N  
1.1 介绍软件 Qs '_\|/-  
1.2 创建一个简单的设计 B(WmJ6e  
1.3 绘图和制表来表示性能 yAAV,?:o[  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4E2#krE%  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) o}DR p4;Ka  
1.6 特定设计的公式技术 mPU}]1*p  
1.7 交互式绘图 n }b{u@$  
2. 光学薄膜理论基础 Nw9@E R  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算  v%$l(  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 6cd!;Ca  
3. 材料管理 idB1%?<  
3.1 材料模型 i=L 86Ks  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 tm/=Oc1p  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 8 :WN@  
3.4 基板光学常数的提取 vf zC2  
4. 光学薄膜设计优化方法 Nyt*mbd5 {  
4.1 参考波长与g Qo :vAv  
4.2 四分之一规则 O:sqm n  
4.3 导纳与导纳图 _CPj] m{  
4.4 斜入射光学导纳 m.rV1#AI  
4.5 光学薄膜设计的进展 0$ON`Vsu|  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 L pq)TE#  
4.6.1 优化目标设置 dG7d}0Ou'  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ,ss"s3  
4.6.3 膜层锁定和链接 1d~d1Rd  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 A@Q6}ESD  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 BYu(a  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 r95 ,X!  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 JNY?] |=  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 *v%gNq  
5.5 如何在Function中编写脚本 <o9AjASv\,  
6. 光学薄膜系统案例 [ :)F-  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 TE;f*!  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 1$1>cuu  
6.3 Stack应用范例说明 >-\^)z  
7. 薄膜性能分析 etT9}RbQ  
7.1 电场分布 cpl Ny?UIC  
7.2 公差与灵敏度分析 k>F!S`a&m  
7.3 反演工程 *Lxt{z`9  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 [) 0JI6  
8. 真空技术 `y61Bz  
8.1 常用真空泵介绍 =dH=3iCG  
8.2 真空密封和检漏 uB^"A ;0v  
9. 薄膜制备技术 \#JXch  
9.1 常见薄膜制备技术 iZ>P>x\  
10. 薄膜制备工艺 n-2!<`UFX  
10.1 薄膜制备工艺因素 !@])Ut@tN  
10.2 薄膜均匀性修正技术 p:4-b"O  
10.3 光学薄膜监控技术 y{&%]Fq <5  
11. 激光薄膜 X $V_  
11.1 薄膜的损伤问题 4i.&geX A.  
11.2 激光薄膜的制备流程 fPHV]8Ft|  
11.3 激光薄膜的制备技术 w>\oz  
12. 光学薄膜特性测量 O'B3sy  
12.1 薄膜光谱测量 Y@:l!4DI  
12.2 薄膜光学常数测量 ;zze.kb&F  
12.3 薄膜应力测量 %TRJ  
12.4 薄膜损伤测量 N<@K(? '  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 /k ?l%AH  
7FkiT  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
VRgckh m  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
q+4dHS)x  
内容简介 7XT(n v  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 wl%ysM| x  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 eaNfCXHDN  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 P`O`Mw EAf  
:R=7dH~r  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ern\QAhXX  
目录 43y@9P0  
Preface 1 6w? GeJ  
内容简介 2 n^$Q^[:Z  
目录 i </ "Wh4>C  
1  引言 1 AcEz$wy  
2  光学薄膜基础 2 ^!C  
2.1  一般规则 2 _VjaTw8iM  
2.2  正交入射规则 3 88<d<)7t  
2.3  斜入射规则 6 !SE  
2.4  精确计算 7 5 (!FQ  
2.5  相干性 8 d&L  
2.6 参考文献 10 %).I &)i  
3  Essential Macleod的快速预览 10 hrD2 -S  
4  Essential Macleod的特点 32 w2V:x[  
4.1  容量和局限性 33 <,it<$f#  
4.2  程序在哪里? 33 ?./fVoA]V  
4.3  数据文件 35 `KLr!<i()  
4.4  设计规则 35 .b`8 +  
4.5  材料数据库和资料库 37 (w2lVL&   
4.5.1材料损失 38 T%9t8?I  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 1c @S[y  
4.5.2 材料库 41 RTvOaZ  
4.5.3导出材料数据 43 bC"h7$3  
4.6  常用单位 43 pg!oi?Jn  
4.7  插值和外推法 46 }eA ) m  
4.8  材料数据的平滑 50 z>0$SBQ-  
4.9 更多光学常数模型 54 tS\Db'C7  
4.10  文档的一般编辑规则 55 82+2 PE{  
4.11 撤销和重做 56 ">_|!B&wb^  
4.12  设计文档 57 "[k>pzl6  
4.10.1  公式 58 op2Zf?Bx{+  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 kG9aH Ww  
4.10.3  沉积密度 59 T`j {2  
4.10.4 平行和楔形介质 60 wj0_X;L  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 6< -Cpc  
4.10.4  性能 61 yK9EHJ$  
4.10.5  保存设计和性能 64 0~_I9|FN  
4.10.6  默认设计 64 RTbV!I  
4.11  图表 64 >ySO.S  
4.11.1  合并曲线图 67 <Piq?&VX[  
4.11.2  自适应绘制 68 AB0}6g^O  
4.11.3  动态绘图 68 6{udNv X  
4.11.4  3D绘图 69 |;(P+Q4lB  
4.12  导入和导出 73 <h+@;/v:  
4.12.1  剪贴板 73 {/N8[?zML  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 -Jv3D$f]a  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 dT&u}o3X  
4.13  背景 77 "Xwsu8~  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ^x/D8 M  
4.15  生成Rugate 84 5]CaWFSmT  
4.16  参考文献 91 .X(qs1  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 c;(Fz^&_  
5.1  Jobs 92 F4"bMN  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 0|K<$e6IH  
5.3  输入材料 94 \ kY:|T  
5.4  设计数据文件夹 95 b{ A/M#=  
5.5  默认设计 95 ?li/mc.XG  
6  细化和合成 97 U|.r -$|5P  
6.1  优化介绍 97 i4WHjeo\  
6.2  细化 (Refinement) 98 9vW]HOK  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ^.g-}r8,  
6.4  目标和评价函数 101 50A\Y)i_mZ  
6.4.1  目标输入 102 s:_j,/H0A}  
6.4.2  目标 103 t5i58@{~  
6.4.3  特殊的评价函数 104 2!CL8hG5:  
6.5  层锁定和连接 104 %|:j=/_  
6.6  细化技术 104 kEAF1RP:  
6.6.1  单纯形 105 ~@QAa (P.  
6.6.1.1 单纯形参数 106 mea} 9]c  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Wlq3r#  
6.6.2.1 Optimac参数 108 MT)q?NcG  
6.6.3  模拟退火算法 109 So~QZ%YA  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 _akjgwu  
6.6.4  共轭梯度 111 z?VjlA(X  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Z 5P4 H  
6.6.5  拟牛顿法 112 j"pyK@v2B  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 E;'{qp  
6.6.6  针合成 113 <"3${'$k`  
6.6.6.1 针合成参数 114 ,!,M'<?"  
6.6.7 差分进化 114 u#y)+A2&!  
6.6.8非局部细化 115 r}Gku0Hu_E  
6.6.8.1非局部细化参数 115 m J$[X  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 {%P 2.:  
6.7.1  细化 116 *wd=&Z^19  
6.7.2  合成 117 e0ni  
6.8  参考文献 117 *:un+k  
7  导纳图及其他工具 118 31#jLWY'0  
7.1  简介 118 =b1 y*?  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 <s|.2~  
7.2.1  四分之一波长规则 119 R-,L"Vv  
7.2.2  导纳图 120 7)2Q  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 *> Be w  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 XN?my@_HpM  
7.5  斜入射导纳图 141 tu{paQ  
7.6  对称周期 141 ;.=0""-IF  
7.7  参考文献 142 c(b`eUOO  
8  典型的镀膜实例 143 >o& %via}  
8.1  单层抗反射薄膜 145 GiK,+M"d  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 8I#^qr5  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 W >}T$a}\  
8.4  W-膜层 148 }vgM$o  
8.5  V-膜层 149 xb9^WvV  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Lc]hwMGR*  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ;p <BiC$b  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 oOubqx  
8.9  四层抗反射薄膜 153 JX&%5sn(  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ;Oq>c=9%  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 3A~<|<}t  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 55] MRv  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9PG{>W$M  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 H.]<f vP  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 /|h+,]< >  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 qx*b\6Rt  
8.17  1/4波长堆栈 162 BNr%Q:Q  
8.18  陷波滤波器 163 @;{ZnRv14  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 SJ;{  Hg  
8.20  褶皱 165 $$Ibr]$5  
8.21  消偏振分光器1 169 Ky8,HdAq  
8.22  消偏振分光器2 171 -!M>;M@  
8.23  消偏振立体分光器 172 W>&*.3{v  
8.24  消偏振截止滤光片 173 O ]-8 %  
8.25  立体偏振分束器1 174 0HbCT3g.  
8.26  立方偏振分束器2 177 Ro<5c_k  
8.27  相位延迟器 178 Hl{ul'o  
8.28  红外截止器 179 X2,v'`U5&  
8.29  21层长波带通滤波器 180 3|)cT1ej  
8.30  49层长波带通滤波器 181 0lOan  
8.31  55层短波带通滤波器 182 )u]=^  
8.32  47 红外截止器 183 w_~tY*IwB  
8.33  宽带通滤波器 184 !B9 Yw/Ba  
8.34  诱导透射滤波器 186 \FCPD.2s+  
8.35  诱导透射滤波器2 188 meThjCC  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ~% `hh9]  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 e~,+rM  
8.35  增益平坦滤波器 193 P+_1*lOG  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Wap\J7NY  
8.39  啁啾反射镜2 198 XMxm2-%olP  
8.40  啁啾反射镜3 199 T0b/txS  
8.41  带保护层的铝膜层 200 P9S)7&+DL  
8.42  增加铝反射率膜 201 A%&lW9z7  
8.43  参考文献 202 Zm6jF  
9  多层膜 204 od,,2pwK+  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 .+u r+" i  
9.2  内部透过率 204 auY?Cj'"fs  
9.3 内部透射率数据 205 =W"T=p*j  
9.4  实例 206 j9/iBK\Y  
9.5  实例2 210 z`u$C+Ov  
9.6  圆锥和带宽计算 212 DM\pi9<m  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 8W7ET@`  
10  光学薄膜的颜色 216 h{jm  
10.1  导言 216 ALInJ{X  
10.2  色彩 216 %Br1b6 V  
10.3  主波长和纯度 220 KxFA@3  
10.4  色相和纯度 221 Ia{t/IX\[  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 *lheF>^  
10.6 色差 226 rCA0c8  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 zpNt[F?~1  
10.8  颜色渲染指数 234 5;XU6Rz!  
10.9  色差计算 235 c7tO'`q$e  
10.10  参考文献 236 $0~1;@`rQ6  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 &a\G,Ma  
11.1  短脉冲 238 ;uZeYY?   
11.2  群速度 239 }<'ki ;  
11.3  群速度色散 241 lX 50JJwk  
11.4  啁啾(chirped) 245 IkGM~3e  
11.5  光学薄膜—相变 245 oIE3`\xS  
11.6  群延迟和延迟色散 246 1n.F`%YG  
11.7  色度色散 246 ^0I"  
11.8  色散补偿 249 g]?>6 %#rA  
11.9  空间光线偏移 256 !9V; 8g  
11.10  参考文献 258 G%}k_vi&q  
12  公差与误差 260 XN3'k[  
12.1  蒙特卡罗模型 260 XF@34b5(  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 0juP"v$C>  
12.2.1  误差工具 267 |a'$v4dCF  
12.2.2  灵敏度工具 271 Fd%JF#Hk  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~eiD(04^r*  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 H>-{.E1bG  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 E429<LQI/  
12.3  参考文献 276 #B_H/9f(  
13  Runsheet 与Simulator 277 mK^E@uxN  
13.1  原理介绍 277 }%y5<n*v\  
13.2  截止滤光片设计 277 nLrCy5R:  
14  光学常数提取 289 &C?4'e  
14.1  介绍 289 a:1$idj  
14.2  电介质薄膜 289 :j32 :/u  
14.3  n 和k 的提取工具 295 DTdqwe6pi  
14.4  基底的参数提取 302 <e@4;Z(h04  
14.5  金属的参数提取 306 .rlLt5b%  
14.6  不正确的模型 306 "837b/>/  
14.7  参考文献 311 YYe=E,q  
15  反演工程 313 8>I4e5Ym  
15.1  随机性和系统性 313 ^i@0P}K<  
15.2  常见的系统性问题 314 , $cpm=1  
15.3  单层膜 314 6_;n bqY&  
15.4  多层膜 314 m1sV~"v;  
15.5  含义 319 {~'Iu8TvZ  
15.6  反演工程实例 319 | `?J2WGe  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 xd4~[n\hm  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 wS|hc+1  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 2LCOB&-Ww  
16.1  光学性质的热致偏移 329 `j 4>  
16.2  应力工具 335 ;2gO(  
16.3  均匀性误差 339 q5) K  
16.3.1  圆锥工具 339 L3*HgkQQ  
16.3.2  波前问题 341 -x!JTx[K  
16.4  参考文献 343 tU.~7f#+A  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 m:9|5W  
17.1  引言 345 Y7')~C`up^  
17.2  操作数 345 4S* X=1  
18  如何在Function中编写脚本 351 8 9maN  
18.1  简介 351 ]r\!Z <<(  
18.2  什么是脚本? 351 PJ<9T3Fa  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 "9NWsy}<c  
18.4  基础 352 {=MRJg!U  
18.4.1  Classes(类别) 352 \[A JWyP  
18.4.2  对象 352 7GJcg7s*T  
18.4.3  信息(Messages) 352 mPo.Z"uy7  
18.4.4  属性 352 e0]%ko"  
18.4.5  方法 353 {WTy/$ Qk  
18.4.6  变量声明 353 6|4ID"  
18.5  创建对象 354 (7"CYAe:;  
18.5.1  创建对象函数 355 T^#d\2  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 DyUS^iz~o  
18.5.3 丢弃对象 356 \9R=fA18  
18.5.4  总结 356 _C,9c7K4  
18.6  脚本中的表格 357 l,UOP[j  
18.6.1  方法1 357 E<@N4%K_Q  
18.6.2  方法2 357 Q5Epq sKyC  
18.7 2D Plots in Scripts 358 BxaGBK<k  
18.8 3D Plots in Scripts 359 UsdMCJ&G  
18.9  注释 360 [|\#cVWs  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 x+[ATZ([  
18.11  一个更高级的脚本 362 >Udq{<]#r  
18.12  <esc>键 364 {"|la;*I  
18.13 包含文件 365 m;ju@5X  
18.14  脚本被优化调用 366 $s"-r9@q  
18.15  脚本中的对话框 368 nx%eq ,Pq  
18.15.1  介绍 368 TQQh:y  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Fx:4d$>;  
18.15.3  输入框函数 370 6A ptq  
18.15.4  自定义对话框 371 2dDhO  
18.15.5  对话框编辑器 371 D/wJF[_  
18.15.6  控制对话框 377 b&RsxW7  
18.15.7  更高级的对话框 380 02-% B~oP  
18.16 Types语句 384 vTC{  
18.17 打开文件 385 k+hl6$:Qj%  
18.18 Bags 387 }-Jo9dNs  
18.13  进一步研究 388 t~":'le`zr  
19  vStack 389 C)QKodI  
19.1  vStack基本原理 389 ;(Az   
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 $v5 >6+-n  
19.3  五棱镜 393 A.~wgJDO  
19.4 光束距离 396 apnpy\in  
19.5 误差 399 f*VXg[&\\F  
19.6  二向分色棱镜 399 (B03f$8}*_  
19.7  偏振泄漏 404 G9@5 !-  
19.8  波前误差—相位 405 Q /t_% vb  
19.9  其它计算参数 405 QvJ29  
20  报表生成器 406 &}\{qFD;  
20.1  入门 406 +x<OyjY5?]  
20.2  指令(Instructions) 406 pwV~[+SS_  
20.3  页面布局指令 406 ? ?("0U  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Q% ^_<u  
20.5  表格中的常见参数 408 hDc2T  
20.6  迭代指令 408 CZ =]0zB  
20.7  报表模版 408 \C{Zqo,  
20.8  开始设计一个报表模版 409 =)a %,H  
21  一个新的project 413 G"".;}AV  
21.1  创建一个新Job 414 lwIxn1n  
21.2  默认设计 415 [ u ^/3N  
21.3  薄膜设计 416 _joW%`T8  
21.4  误差的灵敏度计算 420 \S{ihS@J  
21.5  显色指数计算 422 T&}KUX~Q/  
21.6  电场分布 424 XV,ce~ro[  
后记 426 XJk~bgO*  
,k(B>O~o  
pimI)1 !$'  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 {aUv>T"c  
b`f6(6  
《Essential Macleod中文手册》
md|I?vk  
P ,rLyx   
目  录 XXeDOrb  
A$L:,b(  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :Y4Sdj  
第1章 介绍 ..........................................................1 5'%O]~  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 {\|XuCF#  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 '2rSX[$ tf  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 n#B}p*G  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ;alt%:$n  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 3} C-Hg+gt  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 %/ :&L+q  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 -lXQQ#V -  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 T7l,}G  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 LvU/,.$  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 7e D` is  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 E,ooD3$h  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 `S4G+j>u6  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 @gQ?cU7  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 %=V" }P[  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ad=7FhnIa3  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 "Nz"|-3Irv  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 XXQC`%-]<i  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 4`7~~:W!M5  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 B%o%%A8*g  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 D%=&euB  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 v[?gM.SF  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 )0Vj\>  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 $jBi~QqOf  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301  }"q#"s  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 0/cgOP!^  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 !A14\  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Dhk$e  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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