线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:623
时间地点 ?ByM[E$  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 |`;54_f  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 r/*=%~*  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 (#;`"Yu  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 :f$xQr4Qz  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
B^^r\L9  
特邀专家介绍 P bQk<"J1  
_@R0x#p5M  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 >,DbNmi  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 B7z -7&TE  
课程概要 (xq%  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 B7"PIkk;  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 _ A 0w[n  
课程大纲 J "FC%\|  
1. Essential Macleod软件介绍 [= |jZVhT  
1.1 介绍软件 !`7B^RZ  
1.2 创建一个简单的设计 CXCpqcC  
1.3 绘图和制表来表示性能 TFcT3]R[rL  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 D0N9Ksq  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) {f{ZHi|  
1.6 特定设计的公式技术 K x~|jq  
1.7 交互式绘图 J sEa23  
2. 光学薄膜理论基础 Ig5L$bAM~  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 )P|[r  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 |$7vI&m  
3. 材料管理 r4,VTy2Qe  
3.1 材料模型 gI8Bx]  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 z.rh]Zq  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ci+tdMA  
3.4 基板光学常数的提取 LF0sH)e]  
4. 光学薄膜设计优化方法 Zec <m8~  
4.1 参考波长与g eW>3XD4  
4.2 四分之一规则 R-:fd!3oQ  
4.3 导纳与导纳图 "4%"&2L  
4.4 斜入射光学导纳 AL5Vu$V~n}  
4.5 光学薄膜设计的进展  RD tU43  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 |A8/FU2{  
4.6.1 优化目标设置 lHV[Ln`\x  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) )3(;tT,$}^  
4.6.3 膜层锁定和链接 [2|kl l  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 1[ ]&(Pa  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 LbtX0^  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 |] Qg7m,O  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 =f(cH152T  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 aAy'\T$x.  
5.5 如何在Function中编写脚本 iS?42CV  
6. 光学薄膜系统案例 >s`J5I!  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 cv/_ r#vN  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 q%5eVG  
6.3 Stack应用范例说明 .] `f,^v<c  
7. 薄膜性能分析 rS1fK1dy s  
7.1 电场分布 *:O.97q@h  
7.2 公差与灵敏度分析 ltFq/M  
7.3 反演工程 D/=5tOy  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 &gI~LP  
8. 真空技术 3z ]+uv+2J  
8.1 常用真空泵介绍 A_;8IlW  
8.2 真空密封和检漏 [ 4;Ii  
9. 薄膜制备技术 )(7&X45,k  
9.1 常见薄膜制备技术 \a+(=s(;  
10. 薄膜制备工艺 TO-$B8*nq  
10.1 薄膜制备工艺因素 ^GBe)~MT  
10.2 薄膜均匀性修正技术 /cZ-tSC)o  
10.3 光学薄膜监控技术 7u[j/l,  
11. 激光薄膜 eh[_~>w  
11.1 薄膜的损伤问题 XW?b\!@ $  
11.2 激光薄膜的制备流程 pMs AyCAk  
11.3 激光薄膜的制备技术 $#|gLVOQ  
12. 光学薄膜特性测量 4^<6r*  
12.1 薄膜光谱测量 r",]Voibd  
12.2 薄膜光学常数测量 6DZ),F,M  
12.3 薄膜应力测量 ;}z\i  
12.4 薄膜损伤测量 -LM;}<  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ?:Y#Tbi3  
45&8weXO:'  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
n8hRaNHl2  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
*H[Iq!@  
内容简介 QKE9R-K TE  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 R<x'l=,D(  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -TZ p FT"  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2Dd|~{%  
*UW=Mdt  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
Ix|~f1*%  
目录 8J)xzp`*)  
Preface 1 \Ofw8=N-2  
内容简介 2 @/&b;s73  
目录 i % },Pe  
1  引言 1 }CxvT`/  
2  光学薄膜基础 2 ?RzDQy D  
2.1  一般规则 2 M.td^l0  
2.2  正交入射规则 3 oQ=>'w  
2.3  斜入射规则 6 -{ u*qtp  
2.4  精确计算 7 1.q_f<U  
2.5  相干性 8 ,^8MB.  
2.6 参考文献 10 VGqa)ri"  
3  Essential Macleod的快速预览 10 yFhB>i  
4  Essential Macleod的特点 32 _owjTo}  
4.1  容量和局限性 33 *1@:'rJ  
4.2  程序在哪里? 33 j6(?D*x  
4.3  数据文件 35 ~ 7)A"t  
4.4  设计规则 35 HMY@F_qY`u  
4.5  材料数据库和资料库 37 E VQ0l@K  
4.5.1材料损失 38 L_em')  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 1b9hE9a{j  
4.5.2 材料库 41 =:+0)t=ao  
4.5.3导出材料数据 43  _ q(Q  
4.6  常用单位 43 US{3pkr;I]  
4.7  插值和外推法 46 iqW1#)3'R  
4.8  材料数据的平滑 50 vs6,  
4.9 更多光学常数模型 54 F\ctuaLC  
4.10  文档的一般编辑规则 55 AnZclqtb  
4.11 撤销和重做 56 AOrHU M[I  
4.12  设计文档 57 0J~Qq]g  
4.10.1  公式 58 m+ itno  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 S=3^Q;V/1  
4.10.3  沉积密度 59 ):EBgg4-N  
4.10.4 平行和楔形介质 60 0|D&"/.R#!  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 TCvSc\Q[:1  
4.10.4  性能 61 /XS&d%y  
4.10.5  保存设计和性能 64 &Np9kIMCB  
4.10.6  默认设计 64 A"Q@W<.  
4.11  图表 64 =l<iI*J. M  
4.11.1  合并曲线图 67 <Q<+4Y{R  
4.11.2  自适应绘制 68 B pLEPuu30  
4.11.3  动态绘图 68 ji+{ :D  
4.11.4  3D绘图 69 d77r9  
4.12  导入和导出 73 ,)~E>[=+  
4.12.1  剪贴板 73 6aOp[-Le  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 N]5m(@h  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 r+<{S\ Q  
4.13  背景 77 rsa&Oo D>  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 #t!}K_  
4.15  生成Rugate 84 .]Mn^2#j  
4.16  参考文献 91 xn}BB}s{t  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ep(g`e  
5.1  Jobs 92 VF0dE  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 !NKmx=I]  
5.3  输入材料 94 em2_pq9q  
5.4  设计数据文件夹 95 Y|0ow_oH  
5.5  默认设计 95 *Zd84wRSj  
6  细化和合成 97 > 7`&0?  
6.1  优化介绍 97 I_ "Z:v{  
6.2  细化 (Refinement) 98 b~7drf  
6.3  合成 (Synthesis) 100 N<z`yV  
6.4  目标和评价函数 101 DlE_W+F  
6.4.1  目标输入 102 -T/W:-M(  
6.4.2  目标 103 8(X0 :  
6.4.3  特殊的评价函数 104 K^%-NyV  
6.5  层锁定和连接 104 h[XGC =%  
6.6  细化技术 104 wX1ig  
6.6.1  单纯形 105 '4;6u]d)2  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Gk~l,wV>  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Sav`%0q?7a  
6.6.2.1 Optimac参数 108 +_HdX w#  
6.6.3  模拟退火算法 109 nq`q[KV:  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 =?0QqCjK)  
6.6.4  共轭梯度 111 +lO'wa7|3  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \Rk$t7ZH  
6.6.5  拟牛顿法 112 F@YV]u>N  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -.vDF?@G  
6.6.6  针合成 113 F}ukZ DB  
6.6.6.1 针合成参数 114 xQt 3[(Z  
6.6.7 差分进化 114 >R,?hWT  
6.6.8非局部细化 115 ACBQ3   
6.6.8.1非局部细化参数 115 {w`:KR6o7  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 #A <1aQ  
6.7.1  细化 116 I6OSC&A`  
6.7.2  合成 117 9]_GNk-D  
6.8  参考文献 117 nbvkP  
7  导纳图及其他工具 118 p4/$EPt)lY  
7.1  简介 118 .?#uxd~>  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 WO%h"'iJ  
7.2.1  四分之一波长规则 119 !eD+GDgE]  
7.2.2  导纳图 120 Nh)[r x  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !jh%}JJ  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Ex($  
7.5  斜入射导纳图 141 >BqCkyM9Kf  
7.6  对称周期 141 -Fwh3F 4g  
7.7  参考文献 142 Qd8b-hg  
8  典型的镀膜实例 143 ~LE[, I:q  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Z6=~1'<X  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 _C+DBA  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 a20w,  
8.4  W-膜层 148 IbdM9qo7  
8.5  V-膜层 149 T+TF-] J  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Ob&W_D^=N  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 >,g5Hkmqr  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 A_r<QYq0|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 0U&d q#  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 I5pp "*u  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]O@"\_}  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 -l.pA(O  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 5t'Fv<g  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 <%,'$^'DS  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 {^&k!H2  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 +J40wFI:y  
8.17  1/4波长堆栈 162  ~u/@rqF  
8.18  陷波滤波器 163 H%.zXQ4}n  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 TU%"jb5  
8.20  褶皱 165 p5SX1PPQ  
8.21  消偏振分光器1 169 tyXl}$)y  
8.22  消偏振分光器2 171 Dt {')  
8.23  消偏振立体分光器 172 2YIF=YWO},  
8.24  消偏振截止滤光片 173 F X 1C e  
8.25  立体偏振分束器1 174  <qn,  
8.26  立方偏振分束器2 177 mmN|F$;r  
8.27  相位延迟器 178 G `Izf1B`I  
8.28  红外截止器 179 +2O=s<fp  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ta! V=U  
8.30  49层长波带通滤波器 181 }1rvM4{/+f  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Qu_EfmN|  
8.32  47 红外截止器 183 @DCJ}h ud  
8.33  宽带通滤波器 184 IgA.%}II}  
8.34  诱导透射滤波器 186 {W'8T}q  
8.35  诱导透射滤波器2 188 |LFUzq>j  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190  oWrE2U;  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 D{svR-~T  
8.35  增益平坦滤波器 193 ,|x\MHd?t_  
8.38  啁啾反射镜 1 196 #J~Xv:LgD  
8.39  啁啾反射镜2 198 QE6El'S  
8.40  啁啾反射镜3 199 ,Qo}J@e(  
8.41  带保护层的铝膜层 200 C "9"{  
8.42  增加铝反射率膜 201 rys<-i(  
8.43  参考文献 202 C*j9Iaj  
9  多层膜 204 HwW6tQ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 8}K"IW  
9.2  内部透过率 204 !Ud:?U  
9.3 内部透射率数据 205 w@-b  
9.4  实例 206 @$ftG  
9.5  实例2 210 5h(jeT8"  
9.6  圆锥和带宽计算 212 fn?VNZ`J  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 _jDS"  
10  光学薄膜的颜色 216 W2n*bNI  
10.1  导言 216 ULTNhq R*n  
10.2  色彩 216 GMT or  
10.3  主波长和纯度 220 c'~[!,[b<  
10.4  色相和纯度 221 RK;;b~  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 xtsL8-u f  
10.6 色差 226 0k.v0a7%  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 mLULd}g/o  
10.8  颜色渲染指数 234 2mLUdx~c  
10.9  色差计算 235 DOT=U _  
10.10  参考文献 236 v<+4BjV!J}  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 . o"<N  
11.1  短脉冲 238 %2zas(b9j  
11.2  群速度 239 }Qb';-+;d  
11.3  群速度色散 241 Np)ho8zU  
11.4  啁啾(chirped) 245 @bY?$fj_u  
11.5  光学薄膜—相变 245 # hZQ>zcF  
11.6  群延迟和延迟色散 246 .5^a;`-+  
11.7  色度色散 246 3~:0?Zuq  
11.8  色散补偿 249 4y1>  
11.9  空间光线偏移 256 kI<Wvgo L  
11.10  参考文献 258 (`F|nG=X  
12  公差与误差 260 ?Oqzd$-  
12.1  蒙特卡罗模型 260 1ThwvF%Qo  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 a0{[P$$  
12.2.1  误差工具 267 $(XgKq&xWZ  
12.2.2  灵敏度工具 271 #_{0Ndp2  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 jwq\stjD  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 DQMPAj.  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _2#zeT5  
12.3  参考文献 276 ;Na^]32  
13  Runsheet 与Simulator 277 2Gm-\o&Td"  
13.1  原理介绍 277 b h*^{  
13.2  截止滤光片设计 277 @~s~/[  
14  光学常数提取 289 z'T=]- D  
14.1  介绍 289 (Hl8U  
14.2  电介质薄膜 289 8H7O/n  
14.3  n 和k 的提取工具 295 k06xz#pL  
14.4  基底的参数提取 302 =MCNCV/<  
14.5  金属的参数提取 306 %N>\:8 5?  
14.6  不正确的模型 306 64h_1,U  
14.7  参考文献 311 5St`@  
15  反演工程 313 =?HzNA$yh  
15.1  随机性和系统性 313 ,TEuM|  
15.2  常见的系统性问题 314 -}E)M}W  
15.3  单层膜 314 |.Em_*VG  
15.4  多层膜 314 m$,cH>E  
15.5  含义 319 Ut]2`8-  
15.6  反演工程实例 319 sRi?]9JIl  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 TF%3uH  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 oPCrD.s  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 -% >8.#~G  
16.1  光学性质的热致偏移 329 E2kW=6VO>|  
16.2  应力工具 335 `bzr_fJ  
16.3  均匀性误差 339 {>wI8  
16.3.1  圆锥工具 339 5dqQws-,?1  
16.3.2  波前问题 341 ;i.I&*t  
16.4  参考文献 343 <{E;s)hD?  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 |MR%{ZC^i  
17.1  引言 345 *wV iH  
17.2  操作数 345 zIP[R):3&U  
18  如何在Function中编写脚本 351 Cy<T Vk8  
18.1  简介 351 TH<fbd  
18.2  什么是脚本? 351 `b#/[3  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 I$+%~4  
18.4  基础 352  dhZ Zb  
18.4.1  Classes(类别) 352 *e%Dg{_  
18.4.2  对象 352 3T" #T&eL  
18.4.3  信息(Messages) 352 1$);V,DK!  
18.4.4  属性 352 'BqrJfv  
18.4.5  方法 353 f( ]R/'o  
18.4.6  变量声明 353 2dXU0095  
18.5  创建对象 354 ,>&?ty9o  
18.5.1  创建对象函数 355 1po"gVot  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 (~=Qufy  
18.5.3 丢弃对象 356 |^Y*~d<H  
18.5.4  总结 356 Hr /W6C  
18.6  脚本中的表格 357 hN& yc  
18.6.1  方法1 357 *4-r`k|@>/  
18.6.2  方法2 357   YfTd  
18.7 2D Plots in Scripts 358 4xv9a;fP  
18.8 3D Plots in Scripts 359 EfFj!)fz  
18.9  注释 360 ]#vWKNv:;  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 \nC5 ,Rz  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^a086n  
18.12  <esc>键 364 V/`#B$6  
18.13 包含文件 365 |)28=Z|Z  
18.14  脚本被优化调用 366 A,3@j@bdy  
18.15  脚本中的对话框 368 ^?E^']H)5u  
18.15.1  介绍 368 -zPm{a  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 BXT 80a\  
18.15.3  输入框函数 370 RcY6V_Qx  
18.15.4  自定义对话框 371 L.SDMz  
18.15.5  对话框编辑器 371 (hpTJsZ  
18.15.6  控制对话框 377 F"-S~I7'L  
18.15.7  更高级的对话框 380 NnJ>0|74g  
18.16 Types语句 384 WH{cJ7wCL  
18.17 打开文件 385 'wCS6_K  
18.18 Bags 387 "B3iX@C  
18.13  进一步研究 388 u86J.K1Q  
19  vStack 389 /Lq;w'|I  
19.1  vStack基本原理 389 +`Q PBj^  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 H%*~l  
19.3  五棱镜 393 +<'uw  
19.4 光束距离 396 g|tNa/  
19.5 误差 399 +i:  E  
19.6  二向分色棱镜 399 {KW&wsI  
19.7  偏振泄漏 404 r0~7v1rG  
19.8  波前误差—相位 405 $ 1ak I  
19.9  其它计算参数 405  rE/}hHU  
20  报表生成器 406 mJwv&E  
20.1  入门 406 2A dX)iF@  
20.2  指令(Instructions) 406 @#bBs9@gv  
20.3  页面布局指令 406 1h#w"4  
20.4  常见的参数图和三维图 407 7yY1dR<Y  
20.5  表格中的常见参数 408 {Uik|  
20.6  迭代指令 408 {%]NpFg#b  
20.7  报表模版 408 Wwn5LlJ^  
20.8  开始设计一个报表模版 409 G/x3wR  
21  一个新的project 413 |usnY  
21.1  创建一个新Job 414 ~0VwF  
21.2  默认设计 415 /V#MLPA  
21.3  薄膜设计 416 0!3!?E <  
21.4  误差的灵敏度计算 420 wo,""=l  
21.5  显色指数计算 422 [VfL v.8w  
21.6  电场分布 424 sq8tv]  
后记 426 7VEt4  
/ChJ~g"  
t9KH|y  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 0hH Iz4(  
}0k"Sw X  
《Essential Macleod中文手册》
J,dG4.ht  
')5jllxv  
目  录 v :'P"uU;4  
')C _An>X6  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 S&4w`hdD>~  
第1章 介绍 ..........................................................1 &%_y6}xIw  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 Q1N,^71  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 9*G L@_c  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 pl1EJ <  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Vp- n(Z  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 uAPLT~  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 EvGUj$  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 e3HF"v]2!  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 18[?dV  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 dK=D=5r,  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 j`LT`p"9S  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ve64-D  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 `Cb<KAaCH  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ; @[.$Q@I  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 0{{p.n8a~  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 8KtF<`A)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 o'= [<  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 erAZG)  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 &9jUf:gJ0  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 0qaG#&!  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 tyG nG0GK  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 *aSRKY  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 _If@#WnoyA  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ]aL  [  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 3'gd'`Hn/  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 4`^TC[  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 '3Lx!pMhN  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 JydQA_   
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1