线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:597
时间地点 *R&77 o7  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 E]Cm#B  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 #;2kN &  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 jJ>I*'w  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 AfW:'>2  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
RZvRV?<bR  
特邀专家介绍 * se),CP!s  
ud(w0eX  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ]:6IW:  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 i .?l\  
课程概要 ]xJ2;{JWsO  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 r^d:Po  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 3k+46Wp  
课程大纲 &'5 j!  
1. Essential Macleod软件介绍 M/6q ^*  
1.1 介绍软件 -A8CW9|mk  
1.2 创建一个简单的设计 X{5(i3?S  
1.3 绘图和制表来表示性能 C It@xi#I  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 7baQ4QY?n  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) CwzDkr&QC_  
1.6 特定设计的公式技术 @}e5T/{X}T  
1.7 交互式绘图 ID=^497  
2. 光学薄膜理论基础 sU?%"q  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Y&b JKX  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 wtro'r3  
3. 材料管理 lGN{1djT  
3.1 材料模型 >]8H@. \  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 8<g9 ~L  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 .{#J2}+[_}  
3.4 基板光学常数的提取 t'Pn*  
4. 光学薄膜设计优化方法 TzY[- YlvF  
4.1 参考波长与g [,ns/*f3R  
4.2 四分之一规则 h.h\)>DM@  
4.3 导纳与导纳图 U> 1voc  
4.4 斜入射光学导纳 KP]{=~(  
4.5 光学薄膜设计的进展 }EWPLJA  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 0)-yLfTn  
4.6.1 优化目标设置 3At%TA:  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) <-m[0zg q  
4.6.3 膜层锁定和链接 ;V\l, u  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 q*4=sf,>  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 3]g|Cwu  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 x\R 8W8M  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $Q< >M B7  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 jpek=4E  
5.5 如何在Function中编写脚本 $4a;R I  
6. 光学薄膜系统案例 6#/v:;bF  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 K _sHZ  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 S 7 *LV;  
6.3 Stack应用范例说明 \bPSy0  
7. 薄膜性能分析 Dm 0Ts~  
7.1 电场分布 -3On^Wj]  
7.2 公差与灵敏度分析 -kz9KGkPb+  
7.3 反演工程 { vOr'j@  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 9( "<NB0y  
8. 真空技术 Xe7/  
8.1 常用真空泵介绍 #.^A5`k  
8.2 真空密封和检漏 ic(`Ev  
9. 薄膜制备技术 8\ { 1y:|  
9.1 常见薄膜制备技术 {WoS&eL  
10. 薄膜制备工艺 p,K]`pt=  
10.1 薄膜制备工艺因素 dF<GuS;l5  
10.2 薄膜均匀性修正技术 5.3=2/  
10.3 光学薄膜监控技术 +XP9=U*g  
11. 激光薄膜 $"[5]{'J  
11.1 薄膜的损伤问题 &<RK=e'*x  
11.2 激光薄膜的制备流程 |`,AA a  
11.3 激光薄膜的制备技术 7U, [Ruu  
12. 光学薄膜特性测量 MGU%"7i'}  
12.1 薄膜光谱测量 iVe"iH  
12.2 薄膜光学常数测量 N0_@=uE  
12.3 薄膜应力测量 *H({q`j33k  
12.4 薄膜损伤测量 -b`O"Ck*  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 =)mA.j}E2  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 VkJBqRzBOa  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 RR9G$}WS(  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 0wnC"2GUX  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )N'rYS' 9  
uoi~JF  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
%  db  
目录 >%1mx\y^  
Preface 1 uP NZ^lM  
内容简介 2 *aaK_=w  
目录 i Bb9/nsbE  
1  引言 1 oj%(@6L  
2  光学薄膜基础 2 1}ER+;If  
2.1  一般规则 2 ~U$ioQy<  
2.2  正交入射规则 3 o/4U`U)Q0v  
2.3  斜入射规则 6 ={[9kR i  
2.4  精确计算 7 @aY>pr5!  
2.5  相干性 8 8'|_O  
2.6 参考文献 10 :[d *  
3  Essential Macleod的快速预览 10 n}L Jt  
4  Essential Macleod的特点 32 S2<evs1d  
4.1  容量和局限性 33 ESi'3mbeC  
4.2  程序在哪里? 33  4"~F  
4.3  数据文件 35 *iiyU}x  
4.4  设计规则 35 p,K!'\  
4.5  材料数据库和资料库 37 #M@Ki1  
4.5.1材料损失 38 :878q TB  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 OKV/=]GS  
4.5.2 材料库 41 hp3 <HUU  
4.5.3导出材料数据 43 lcfX(~/m^  
4.6  常用单位 43 t~_bquGk  
4.7  插值和外推法 46 J. $U_k  
4.8  材料数据的平滑 50 ;i-<dAV8B  
4.9 更多光学常数模型 54 Ex -?[Hq  
4.10  文档的一般编辑规则 55 D]'/5]~z<  
4.11 撤销和重做 56 h[>Puoz  
4.12  设计文档 57 ?5j}&Y3  
4.10.1  公式 58 TxP8&!d  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 g]Z@_  
4.10.3  沉积密度 59 e N^6gub  
4.10.4 平行和楔形介质 60 "@(Sw>*o  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 w)Z-, J  
4.10.4  性能 61 Wxa</n8S[n  
4.10.5  保存设计和性能 64 A@ZsL  
4.10.6  默认设计 64 @M!nAQ8hY  
4.11  图表 64 0S#T}ITm4Z  
4.11.1  合并曲线图 67 o:PdPuZVR  
4.11.2  自适应绘制 68 tJII-\3"  
4.11.3  动态绘图 68 &Y jUoe  
4.11.4  3D绘图 69 o}e]W,  
4.12  导入和导出 73 +o|I@7f  
4.12.1  剪贴板 73 a[ yyEgm2  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 (y5 ]]l  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 UO4z~  
4.13  背景 77 5%]O'h  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?wpl 88z  
4.15  生成Rugate 84 @+yjt'B  
4.16  参考文献 91 #L+ZHs~  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ,:xses*7  
5.1  Jobs 92 -=GmI1:=$4  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 WZ N0`Od  
5.3  输入材料 94 l0lvca=;  
5.4  设计数据文件夹 95 t#2szr+  
5.5  默认设计 95 ?0?+~0sI  
6  细化和合成 97 Cuc+9  
6.1  优化介绍 97 juEH$7N !  
6.2  细化 (Refinement) 98 I]Ws   
6.3  合成 (Synthesis) 100 OjsMT]  
6.4  目标和评价函数 101 "c*#ZP  
6.4.1  目标输入 102 #Yx /ubg6  
6.4.2  目标 103 Ws:+P~8  
6.4.3  特殊的评价函数 104 '5\?l:z  
6.5  层锁定和连接 104 m%U$37A 1  
6.6  细化技术 104 zO((FQ  
6.6.1  单纯形 105 ntn ~=oL  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ~;@\9oPpz%  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 D 4<,YBvV  
6.6.2.1 Optimac参数 108 3XhLn/@  
6.6.3  模拟退火算法 109 =xr2-K)e  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 B3Ws)nF"  
6.6.4  共轭梯度 111 3+8{Y  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 h y"=)n(  
6.6.5  拟牛顿法 112 lh-zE5;  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 8*EqG5OP  
6.6.6  针合成 113 UQq Qim  
6.6.6.1 针合成参数 114 $u, ~183  
6.6.7 差分进化 114 ,EH^3ODD  
6.6.8非局部细化 115 =~'y'K]  
6.6.8.1非局部细化参数 115 *a'I  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 vlPViHF.  
6.7.1  细化 116 J )UCy;Y  
6.7.2  合成 117 m 3Do+!M[  
6.8  参考文献 117 y|(?>\jBl  
7  导纳图及其他工具 118 >(F y6m  
7.1  简介 118 n8o(>?Kw  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 gt!t Du  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ( #rhD}  
7.2.2  导纳图 120 Nx<fj=VJ  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >Dq&[9,8  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 zZiga q"  
7.5  斜入射导纳图 141 ;& zBNj  
7.6  对称周期 141 ZQ[s/  
7.7  参考文献 142 RH "EO4  
8  典型的镀膜实例 143 &J,&>CFc  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ML7qrc;Rx  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 y>& s;  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8xYeaK  
8.4  W-膜层 148 [ip}f4K  
8.5  V-膜层 149 ,ZvlK N  
8.6  V-膜层高折射基底 150 A3Y}|7QA  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 =HHb ]JE  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 **F-#",  
8.9  四层抗反射薄膜 153 PGA `R  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 %=5m!"F  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #<yKG\X?  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 K4^mG  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 e.]k4K  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 0yL%Pjn6  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 j\2q2_f  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 qIk( ei  
8.17  1/4波长堆栈 162 w s7LDY&(  
8.18  陷波滤波器 163 "\"sM{x  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 g>-u9%aa  
8.20  褶皱 165 ^'$P[  
8.21  消偏振分光器1 169 DaqpveKa  
8.22  消偏振分光器2 171 `,)%<}  
8.23  消偏振立体分光器 172 ]gmkajCzD  
8.24  消偏振截止滤光片 173 N@R?<a  
8.25  立体偏振分束器1 174 ~s>Ud<l%r  
8.26  立方偏振分束器2 177 J;Veza  
8.27  相位延迟器 178 w'<"5F`  
8.28  红外截止器 179 MO_;8v~0  
8.29  21层长波带通滤波器 180 nrCr9#  
8.30  49层长波带通滤波器 181 P]`m5 N  
8.31  55层短波带通滤波器 182 N@\`DO  
8.32  47 红外截止器 183 =yLJGNK[  
8.33  宽带通滤波器 184 @fI 2ZWN|  
8.34  诱导透射滤波器 186 %#@5(_'  
8.35  诱导透射滤波器2 188 i>z {QE  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Mtq^6`JJ'  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 `r*bG=  
8.35  增益平坦滤波器 193 I=K|1  
8.38  啁啾反射镜 1 196 F'^?s= QX  
8.39  啁啾反射镜2 198 }vt>}%%  
8.40  啁啾反射镜3 199 >d$Sh`a6  
8.41  带保护层的铝膜层 200 i3o;G"IcD  
8.42  增加铝反射率膜 201 @JpkG%eK  
8.43  参考文献 202 Un\ T} c  
9  多层膜 204 )H- y  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 utBKl' `  
9.2  内部透过率 204 &HJ'//bv  
9.3 内部透射率数据 205 5DnX8t+d  
9.4  实例 206 lIgAc!q(  
9.5  实例2 210 31~Rs?~f(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 D:Fi/JY~  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 s?_H<u  
10  光学薄膜的颜色 216 vlh$NK+F  
10.1  导言 216 K)9+3(?  
10.2  色彩 216 _4~q&? }V  
10.3  主波长和纯度 220 s)j3+@:#  
10.4  色相和纯度 221 s:Io5C(  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ::8c pUc`f  
10.6 色差 226 -9^A,vX  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 +~eybm;  
10.8  颜色渲染指数 234 =JfSg'7  
10.9  色差计算 235 CC.ri3+.  
10.10  参考文献 236 Geyj`t  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238  @t<KS&  
11.1  短脉冲 238 fm&pxQjg  
11.2  群速度 239 B dKD%CJ[  
11.3  群速度色散 241 rxQ&N[r2  
11.4  啁啾(chirped) 245 2~RG\JWTA  
11.5  光学薄膜—相变 245 *W$bhC'w  
11.6  群延迟和延迟色散 246 )jHH-=JM  
11.7  色度色散 246 >j_N6B!  
11.8  色散补偿 249 QBL|n+  
11.9  空间光线偏移 256 Ym$=^f]-  
11.10  参考文献 258 3jDAj!_ea  
12  公差与误差 260 )l[bu6bM  
12.1  蒙特卡罗模型 260 g~]?6;uu  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 [LDY;k~5+  
12.2.1  误差工具 267 ~9DD=5\  
12.2.2  灵敏度工具 271 6"<q{K  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 -&JQdrs  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 5Sz}gP('  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 *5d6Q   
12.3  参考文献 276 xvTz|Y  
13  Runsheet 与Simulator 277 MeW?z|x`'  
13.1  原理介绍 277 ,f^ ICM  
13.2  截止滤光片设计 277 9s&Tv&%VN  
14  光学常数提取 289 *:V+whBY  
14.1  介绍 289 F P>.@ Y  
14.2  电介质薄膜 289 G- eSHv  
14.3  n 和k 的提取工具 295 TeNPuY~WP  
14.4  基底的参数提取 302 "WZ|   
14.5  金属的参数提取 306 O#?@' 1  
14.6  不正确的模型 306 i6)HC  
14.7  参考文献 311 Sjo7NR^#e  
15  反演工程 313 y7| 3]>Z  
15.1  随机性和系统性 313 6|Xe ],u  
15.2  常见的系统性问题 314 Kjt\A]R%  
15.3  单层膜 314 ?}"39n  
15.4  多层膜 314 -Pc6W9$  
15.5  含义 319 I`;SA~5  
15.6  反演工程实例 319 $rm/{i_7  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .FC|~Z1T<F  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 bXk(wXX  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 8p_6RvG  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Y&-% N  
16.2  应力工具 335 %S/?Ci  
16.3  均匀性误差 339 nXw98;  
16.3.1  圆锥工具 339 _{/[&vJ  
16.3.2  波前问题 341 Ug\$Ob5=q  
16.4  参考文献 343 hlmeT9v{  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345  zPN:)  
17.1  引言 345 %~L"TK`?  
17.2  操作数 345 wSi$.C2  
18  如何在Function中编写脚本 351 rFaG-R  
18.1  简介 351 'qJ0338d#U  
18.2  什么是脚本? 351 ~*x 2IPi H  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 3S" /l  
18.4  基础 352 ")<5 VtV  
18.4.1  Classes(类别) 352 I-#7Oq:Np  
18.4.2  对象 352 nc6PSj X  
18.4.3  信息(Messages) 352 W/g_XQ   
18.4.4  属性 352 )qe rA  
18.4.5  方法 353 $ ^@fV=e  
18.4.6  变量声明 353 G"w [>m  
18.5  创建对象 354 B<i(Y1n[  
18.5.1  创建对象函数 355 FbRGfHL[  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 '$),i>6gJ  
18.5.3 丢弃对象 356 5RAhm0Op~.  
18.5.4  总结 356 7hTpjox2  
18.6  脚本中的表格 357 h ,n}=g+?  
18.6.1  方法1 357 *jvP4Nz)k  
18.6.2  方法2 357 i&?\Pp;5-j  
18.7 2D Plots in Scripts 358 {xeJO:M3/  
18.8 3D Plots in Scripts 359 zXD/hM  
18.9  注释 360 1\~I "$}  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 h3-^RE5\`S  
18.11  一个更高级的脚本 362 * V7mM?  
18.12  <esc>键 364 _QEw=*.<  
18.13 包含文件 365 qoOwR[NDcq  
18.14  脚本被优化调用 366 +80bG(I_  
18.15  脚本中的对话框 368 k1oJ<$ Q  
18.15.1  介绍 368 z~3GgR"1d  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 W@ &a  
18.15.3  输入框函数 370 zyhM*eM.7  
18.15.4  自定义对话框 371 Wy}^5]R0E  
18.15.5  对话框编辑器 371 W=3#oX.GsU  
18.15.6  控制对话框 377 _ xTpW  
18.15.7  更高级的对话框 380 lg8@^Pm$r;  
18.16 Types语句 384 "w%:5~u 9  
18.17 打开文件 385 :L@n(bu RN  
18.18 Bags 387 EQ ee5}  
18.13  进一步研究 388 rhcax%Cd  
19  vStack 389 G{]RC^Zo  
19.1  vStack基本原理 389 8toOdh  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 u*): D~A  
19.3  五棱镜 393 YLi6G Y  
19.4 光束距离 396 n@xQ-v  
19.5 误差 399 }x\#ul)  
19.6  二向分色棱镜 399 51b%uz  
19.7  偏振泄漏 404 z?.9)T9_  
19.8  波前误差—相位 405 IycZ\^5*-  
19.9  其它计算参数 405 S4`X^a}pY  
20  报表生成器 406 l=p_  
20.1  入门 406 \ c4jGJ  
20.2  指令(Instructions) 406 9D+k71"+  
20.3  页面布局指令 406 'I&0$<  
20.4  常见的参数图和三维图 407 O*GF/ R8B  
20.5  表格中的常见参数 408 e)n ,Y  
20.6  迭代指令 408 mf$YsvPq*+  
20.7  报表模版 408 +1YEOOfVY  
20.8  开始设计一个报表模版 409 #jW-&a  
21  一个新的project 413 'z5jnI  
21.1  创建一个新Job 414 =~hb&  
21.2  默认设计 415 G9^`cTvv'8  
21.3  薄膜设计 416 _\X ,a5Un  
21.4  误差的灵敏度计算 420 K~vJ/9"|R  
21.5  显色指数计算 422 HTT&T9]  
21.6  电场分布 424 }W8A1-UF  
后记 426 3 R+e  
kEnGr6e  
;6P>S4`w  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 r[i^tIv6As  
I?}jf?!oM  
《Essential Macleod中文手册》
GNMOHqg4  
bh1$ A  
目  录 `^SRg_rH=`  
]6^<VC`5D  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 g77M5(ME  
第1章 介绍 ..........................................................1 6]b"n'G  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ud `- w  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 _GG\SWm  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 sWo`dZ\6WB  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 t|>zke!'  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ~r.R|f]IQ  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ?"9h-g3`x}  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 losqc *|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 g4h{dFb|_  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 (NvjX})eh  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 B[@q.n  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 Wn=sF,c  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 [j0[c9.p [  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Qjfgxy]  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 fwz:k]vk  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 jjV'`Vy)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 /9R0}4i7  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 d^}p#7mB\  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 3 ,>M-F  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 >)ekb7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 _&/`-"3y  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 oFU:]+.+D  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 P5<9;PPbZ  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 TRm#H $  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 =-si| 1Z  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 6j|Ncv  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 "u^Erj# /  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ~b~Tq  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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