线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:969
时间地点 hP,b-R9\  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ~| 4U@  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 a3b2nAIl  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 /5L'9e  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 x&Q+|b%  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
9;>@"e21R  
特邀专家介绍 y|&.v <  
!V$6+?2   
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 UrD=|-r`  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 U-wq- GT  
课程概要 $.suu^>^w  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 lBizC5t!o  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ~%cSckE  
课程大纲 UE}8Rkt  
1. Essential Macleod软件介绍 P5yJO97  
1.1 介绍软件 {[YqGv=fF  
1.2 创建一个简单的设计 BLl%D  
1.3 绘图和制表来表示性能 tdMP,0u  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Tx|SAa=V  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ]%cHm4#m3  
1.6 特定设计的公式技术 Fi?U)T+%+  
1.7 交互式绘图 yDu yMt#  
2. 光学薄膜理论基础 GFASF,+  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 kR`6s  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 | o;j0  
3. 材料管理 L@gQ L  
3.1 材料模型 D[>XwL  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 wHB Hkz  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 P%<aGb4  
3.4 基板光学常数的提取 *_2O*{V  
4. 光学薄膜设计优化方法 +l[Z2mW  
4.1 参考波长与g L V[66<T  
4.2 四分之一规则 I>YtWY|ed  
4.3 导纳与导纳图 ?34EJ !  
4.4 斜入射光学导纳 p[af[!  
4.5 光学薄膜设计的进展 >Rl0%!  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 CA~em_dC  
4.6.1 优化目标设置 v;N1'  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) O&rD4#  
4.6.3 膜层锁定和链接 kb>Vw<NtE  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 % +t  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 36x5q 1  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 0,"n-5Im  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 mCC:}n"#  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 QXIbFv  
5.5 如何在Function中编写脚本 "FLD%3l  
6. 光学薄膜系统案例 ]|((b/L3  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 @Le ^-v4  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 vJ'yz#tl9  
6.3 Stack应用范例说明 -Z/6;2Q  
7. 薄膜性能分析 Y7b,td1  
7.1 电场分布 s$DT.cvO  
7.2 公差与灵敏度分析 n}ZBU5_  
7.3 反演工程 ||*&g2Y  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真  OGE#wG"S  
8. 真空技术 8IT_mjj  
8.1 常用真空泵介绍 C,VqT6E<  
8.2 真空密封和检漏 v4,syd*3|V  
9. 薄膜制备技术 oC@"^>4  
9.1 常见薄膜制备技术 6/V{>MTZg  
10. 薄膜制备工艺 ~' Qpf 8)  
10.1 薄膜制备工艺因素 kERaY9L\  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ZhJ|ZvJ  
10.3 光学薄膜监控技术 "$,}|T?Y`  
11. 激光薄膜 om*tdG  
11.1 薄膜的损伤问题 KOAz-h@6   
11.2 激光薄膜的制备流程 "PDSqYA  
11.3 激光薄膜的制备技术 X"qbB4 (I  
12. 光学薄膜特性测量 S8W_$=4  
12.1 薄膜光谱测量 ]'  "^M  
12.2 薄膜光学常数测量 &]"_pc/>m  
12.3 薄膜应力测量 qu#@F\gX  
12.4 薄膜损伤测量 F|n$0vQ*  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 L F-+5`  
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
O+8ApicjTc  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
w'!}(Z5X?  
内容简介 NkjQyMF  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 6!Tf'#TV~!  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /O(;~1B  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~A:;?A'.  
h.s<0.  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
5x1jLPl'  
目录 \A~I>x  
Preface 1 8 *(W |J  
内容简介 2 D !D%.  
目录 i ~_l: b  
1  引言 1 WE Svkm;  
2  光学薄膜基础 2 dn.c#,Y  
2.1  一般规则 2 EK-bvZ  
2.2  正交入射规则 3 t&Y^W <  
2.3  斜入射规则 6 |)P;%Fy9  
2.4  精确计算 7 n.H`1@  
2.5  相干性 8 ow>[#.ua  
2.6 参考文献 10 8`LLHX1|  
3  Essential Macleod的快速预览 10 I +4qu|0lA  
4  Essential Macleod的特点 32 )V+Dqh,-g  
4.1  容量和局限性 33 .n|3A3:  
4.2  程序在哪里? 33 Rp@}9qijb  
4.3  数据文件 35 YWBP'Mo  
4.4  设计规则 35 0?4^.N n3  
4.5  材料数据库和资料库 37 !PP?2Ax  
4.5.1材料损失 38 bl=*3qB  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 MT#[ - M\  
4.5.2 材料库 41 s)&R W#:X  
4.5.3导出材料数据 43 NYV0<z@M2M  
4.6  常用单位 43 5A=xFj{  
4.7  插值和外推法 46 >8mW-p  
4.8  材料数据的平滑 50 ])ZJ1QL1  
4.9 更多光学常数模型 54 ^MWW,`  
4.10  文档的一般编辑规则 55 {Z~VO  
4.11 撤销和重做 56 QX~72X=(  
4.12  设计文档 57 MvjwP?J]  
4.10.1  公式 58 k3|9U'r!c  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 f.xSr!  
4.10.3  沉积密度 59 u #QSa$P  
4.10.4 平行和楔形介质 60 wCEfR!i  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 0#[Nfe*  
4.10.4  性能 61 ~[X:twidkL  
4.10.5  保存设计和性能 64 x?k |i}Q  
4.10.6  默认设计 64 WaO;hy~us  
4.11  图表 64 6I.+c  
4.11.1  合并曲线图 67 l=OC?d*m  
4.11.2  自适应绘制 68 %$-3fj7  
4.11.3  动态绘图 68 k}a!lI:  
4.11.4  3D绘图 69 Q]koj!mMl  
4.12  导入和导出 73 9lwo/(s  
4.12.1  剪贴板 73 HBkQ`T  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 sAAIyPJts  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 %RF   
4.13  背景 77 !m.')\4<  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 WRyv >Y  
4.15  生成Rugate 84 KB-#):'  
4.16  参考文献 91 =|t1eSzc  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Vblf6qaBs  
5.1  Jobs 92 |P?B AWYeQ  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 # 2t\>7]  
5.3  输入材料 94 ]$k m  
5.4  设计数据文件夹 95 p.7p,CyB  
5.5  默认设计 95 oM7-1O  
6  细化和合成 97 O pX  
6.1  优化介绍 97 y&|{x "  
6.2  细化 (Refinement) 98 Yy:sZJ  
6.3  合成 (Synthesis) 100 -kS5mR  
6.4  目标和评价函数 101 CMf~Yv  
6.4.1  目标输入 102 :r+ 1>F$o  
6.4.2  目标 103 |vE#unA  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Xpz-@fqKdf  
6.5  层锁定和连接 104 8k}CR)3@C  
6.6  细化技术 104 IaqN@IlWb  
6.6.1  单纯形 105 p+1B6j  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ~x#-#nuh"  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 <^$b1<@  
6.6.2.1 Optimac参数 108 {.'g!{SHp  
6.6.3  模拟退火算法 109 c^UM(bW  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 xg!\C@$  
6.6.4  共轭梯度 111 ?4dd|n  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Z?[J_[ZtR3  
6.6.5  拟牛顿法 112 6h"? 3w  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 os+wTUR^  
6.6.6  针合成 113 <1K: G/!  
6.6.6.1 针合成参数 114 ( {62GWnn_  
6.6.7 差分进化 114 `l@t3/  
6.6.8非局部细化 115 u"3cSuqy  
6.6.8.1非局部细化参数 115 eh=bClk  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ::t !W7W  
6.7.1  细化 116 vx,6::%]  
6.7.2  合成 117 438> )=  
6.8  参考文献 117 a.ME{:a%  
7  导纳图及其他工具 118 Cf 8 - %  
7.1  简介 118 ?AH<y/i<Y  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118  +PD5pr  
7.2.1  四分之一波长规则 119 P=i |{vv(  
7.2.2  导纳图 120 JIkmtZv  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 N1t:i? q&  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 xpo}YF'5  
7.5  斜入射导纳图 141  5Ww\h  
7.6  对称周期 141 'Pn`V{a  
7.7  参考文献 142 <AXYqH7%A  
8  典型的镀膜实例 143 hkm3\wg  
8.1  单层抗反射薄膜 145 7~g0{W>Zm  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 x@x@0k`A2  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 t)ry)[Dxv  
8.4  W-膜层 148 r F - yD1  
8.5  V-膜层 149 {=Y&q~:8v  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ;<Q_4 V  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Z ISd0hV  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 =sJHnWL[  
8.9  四层抗反射薄膜 153 BF#e=p  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 DA\O,^49h  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 AY]nc# zz  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 >.A:6  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157  vpMv  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 L~zet-3UNf  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 vDL/PXNC  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 247>+:7z  
8.17  1/4波长堆栈 162 (\_d'Js(;  
8.18  陷波滤波器 163 G 3x1w/L  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ]+S QS^4  
8.20  褶皱 165 <;K/Yv'{r  
8.21  消偏振分光器1 169 ]YKWa"  
8.22  消偏振分光器2 171 `_ L|I s=n  
8.23  消偏振立体分光器 172 !Hg#c!eOg  
8.24  消偏振截止滤光片 173 p*,mwKN:  
8.25  立体偏振分束器1 174 R["7%|RV  
8.26  立方偏振分束器2 177 &c !-C_L 2  
8.27  相位延迟器 178 n40Z  
8.28  红外截止器 179 <WmCH+>?r  
8.29  21层长波带通滤波器 180 /+7L`KPD  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ^6n]@4P  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Sy55w={  
8.32  47 红外截止器 183 q fe#kF9  
8.33  宽带通滤波器 184 r~t7Z+PXF  
8.34  诱导透射滤波器 186 R&p53n  
8.35  诱导透射滤波器2 188 :4TcCWG  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 <k1gc,*  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 >oNs_{  
8.35  增益平坦滤波器 193 ZvJx01F{  
8.38  啁啾反射镜 1 196 D%btlw ?{  
8.39  啁啾反射镜2 198 SfR_#"Uu  
8.40  啁啾反射镜3 199 pcG q  
8.41  带保护层的铝膜层 200 R& A.F+Zgt  
8.42  增加铝反射率膜 201 8a {gEZT,  
8.43  参考文献 202 cPSpPx  
9  多层膜 204 G_@H:4$3  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 u8QX2|  
9.2  内部透过率 204 }"v "^5  
9.3 内部透射率数据 205 5=\b+<pE  
9.4  实例 206 I`l< }M  
9.5  实例2 210 &iivSc;#  
9.6  圆锥和带宽计算 212 i\b2P2 `B  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ~Gza$ K  
10  光学薄膜的颜色 216 b7/4~_s  
10.1  导言 216 <T>f@Dn,  
10.2  色彩 216 e$Ej7_.#;  
10.3  主波长和纯度 220 uNjy&I:  
10.4  色相和纯度 221 c"r( l~fc  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Ym 6[~=~EK  
10.6 色差 226 MtljI6  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 YDJc@*D  
10.8  颜色渲染指数 234 u/:@+rTV_  
10.9  色差计算 235 d!cx%[  
10.10  参考文献 236 TaH9Nu  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ,==lgM2V>  
11.1  短脉冲 238 lK0coj1+  
11.2  群速度 239 T^ -RP  
11.3  群速度色散 241 b~-9u5.L1  
11.4  啁啾(chirped) 245 |ONOF  
11.5  光学薄膜—相变 245 ~rD* Y&#.  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Z3Y%VHB_F(  
11.7  色度色散 246 Z q)A"'Y  
11.8  色散补偿 249 xfilxd  
11.9  空间光线偏移 256 tfO _b5g  
11.10  参考文献 258 SrxX-Hir  
12  公差与误差 260 6aL`^^  
12.1  蒙特卡罗模型 260 0T*jv! q>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 b1+Nm  
12.2.1  误差工具 267 LF8B5<[O  
12.2.2  灵敏度工具 271 Y (Q8P{@(  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 gyIPG2d  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 #*fB~Os:  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ufmFeeg  
12.3  参考文献 276 6xwC1V?:0t  
13  Runsheet 与Simulator 277 v?}/WKe+0  
13.1  原理介绍 277 Z(#a-_ g  
13.2  截止滤光片设计 277 \|kU{d0  
14  光学常数提取 289 SRMy#j-  
14.1  介绍 289 / wEr>[8S  
14.2  电介质薄膜 289 fE >FT9c  
14.3  n 和k 的提取工具 295 !|SawT5t   
14.4  基底的参数提取 302 RSy1 wp4W  
14.5  金属的参数提取 306 C]}0h!_V  
14.6  不正确的模型 306 X@B+{IFC  
14.7  参考文献 311 }wn GOr  
15  反演工程 313 NoI=t  
15.1  随机性和系统性 313 qzq>C"z\Y$  
15.2  常见的系统性问题 314 ,MdCeA%`  
15.3  单层膜 314 U7O2.y+  
15.4  多层膜 314 0=~Ji_5mB  
15.5  含义 319 w1.~N`g$  
15.6  反演工程实例 319 zk?lNs  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Zscmc;G  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 '8Yx  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Gz`Zp "i%0  
16.1  光学性质的热致偏移 329 $OmtN"  
16.2  应力工具 335 ^#;2 Pd>  
16.3  均匀性误差 339 Da.vyp  
16.3.1  圆锥工具 339 p!=/a)4X  
16.3.2  波前问题 341 a XwFQ,  
16.4  参考文献 343 h)sc-e  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 % 30&6"  
17.1  引言 345 .iw+ #  
17.2  操作数 345 ?k/Uw'J4u/  
18  如何在Function中编写脚本 351 } pA0mW9  
18.1  简介 351 T2k5\r8  
18.2  什么是脚本? 351 ${ e{#  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 /Z-|E  
18.4  基础 352 Uj_%U2S$  
18.4.1  Classes(类别) 352 97Whn*  
18.4.2  对象 352 V<1dA\I"  
18.4.3  信息(Messages) 352 +3VY0J  
18.4.4  属性 352 vAX %i(4  
18.4.5  方法 353 o;}o"-s  
18.4.6  变量声明 353 a93Aj  
18.5  创建对象 354 &}6=V+J;  
18.5.1  创建对象函数 355 zvE]4}VL?  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 V;9.7v  
18.5.3 丢弃对象 356 2: fSn&*/>  
18.5.4  总结 356 Xq9%{'9  
18.6  脚本中的表格 357 hX8;G!/  
18.6.1  方法1 357 .7{,u1N'  
18.6.2  方法2 357 ~|riFp=J  
18.7 2D Plots in Scripts 358 a&9+<  
18.8 3D Plots in Scripts 359 *r=6bpi  
18.9  注释 360 Y'58.8hl  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ^dRB(E}|)  
18.11  一个更高级的脚本 362 UkeX">  
18.12  <esc>键 364 T2GJoJ!  
18.13 包含文件 365 zGA#7W2?0  
18.14  脚本被优化调用 366 pf[bOjtR  
18.15  脚本中的对话框 368 t '* L,  
18.15.1  介绍 368 `N;JM3 ck  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 E<Efxb' p  
18.15.3  输入框函数 370 *IfLoKS'  
18.15.4  自定义对话框 371 y3 kXfSe  
18.15.5  对话框编辑器 371 bvi Y.G3  
18.15.6  控制对话框 377 \vsfY   
18.15.7  更高级的对话框 380 bt"*@NJ$  
18.16 Types语句 384 5!-'~W  
18.17 打开文件 385 Dhv ^}m@  
18.18 Bags 387 C,&r7  
18.13  进一步研究 388 fn;`Vit#  
19  vStack 389  K<6)SL4  
19.1  vStack基本原理 389 V-IXtQR  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 gM&XVhQJ\  
19.3  五棱镜 393 s&TPG0W  
19.4 光束距离 396 m?0caLw<  
19.5 误差 399 l*^c?lp)  
19.6  二向分色棱镜 399 a/ ^ojn  
19.7  偏振泄漏 404 |L,_QXA2  
19.8  波前误差—相位 405 /{|JQ'gqX  
19.9  其它计算参数 405 y38x^fuYJ~  
20  报表生成器 406 ) 7w%\i{M  
20.1  入门 406 IN~Q(A]Z%  
20.2  指令(Instructions) 406 Z7J8%ywQ  
20.3  页面布局指令 406 '9.L5*wh]  
20.4  常见的参数图和三维图 407 xim'TVwvC  
20.5  表格中的常见参数 408 LR%]4$ /M  
20.6  迭代指令 408 bdbTK8-  
20.7  报表模版 408 rv ouE:  
20.8  开始设计一个报表模版 409 NU"Ld+gw  
21  一个新的project 413 |ZC@l^a7  
21.1  创建一个新Job 414 Wa.y7S0(@  
21.2  默认设计 415 D?A3p6%  
21.3  薄膜设计 416 7wKT:~~oS3  
21.4  误差的灵敏度计算 420 3qggdi  
21.5  显色指数计算 422 ';'gKX!9V  
21.6  电场分布 424 SI\ O>a 9{  
后记 426 UXgeL2`;  
>sGIpER7  
J;wDvt]]1  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :< X&y  
*QH~ z2:[  
《Essential Macleod中文手册》
K-<<s  
.|UIZwW0  
目  录 3'2>3Y/7Bb  
+@G#Z3;l!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 \ ]v>#VXr_  
第1章 介绍 ..........................................................1 [+;>u|  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 djmd @{Djt  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 E/OfkL*\  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 W<Ri(g-  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 r?7tI0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44  |pgrR7G'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 uidoz f2}  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 *{<46 0`!q  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 vb.}SG>  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 gUGMoXSTI|  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ,)?!p_*@:  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 yd|ao\'=  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 <~z@G MQCf  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 L5DeLF+  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 N||a0&&  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 jEMnre3/  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 2,'~'  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 me@k~!e"z  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 1 EL#T&  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 pd dumbp  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 %1\~OnT  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 U5:5$T,C  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 {&TP&_|H  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 YgV"*~  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 hm, H3pN  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 __%){j6  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 XcFu:B  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =I8^E\O("  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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