线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:983
时间地点 :>=,sLfJ  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 =0S7tNut  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 eYFCf;  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 _" n4SXhq  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 (@zn[ Nq  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
RN0Rk 8AC  
特邀专家介绍 -kO=pYP*O  
@)}U\=  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 `#hy'S:e  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 Tn|re Xc0e  
课程概要 <7XdT  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 pR $c<p  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 zI(Pti  
课程大纲 _v\QuI6  
1. Essential Macleod软件介绍 ^,3 >}PU  
1.1 介绍软件 Q]\x O/  
1.2 创建一个简单的设计 ;iEqa"gO  
1.3 绘图和制表来表示性能 =o {`vv  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 "3K0 wR5  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) F~ :5/-zs  
1.6 特定设计的公式技术 &8N\ 6K=  
1.7 交互式绘图 :?,& u,8  
2. 光学薄膜理论基础 ,F1$Of/'@\  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 aaBBI S  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 WJ%b9{<  
3. 材料管理 r=vE0;7  
3.1 材料模型 I^o^@C  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 <rkF2-K,  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 tC;D4i  
3.4 基板光学常数的提取 eu~;G H  
4. 光学薄膜设计优化方法 *ULXJZ%  
4.1 参考波长与g Sdn] f4  
4.2 四分之一规则 :=/DF  
4.3 导纳与导纳图 `f (!i mN  
4.4 斜入射光学导纳 @{bf]Oc  
4.5 光学薄膜设计的进展 E^  rN)  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 R75sK(oS  
4.6.1 优化目标设置 4B |f}7%\  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) XjV7Ew^7  
4.6.3 膜层锁定和链接 {*: C$"L  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 giPyo"SD  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 f"[C3o2P  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 /<n_X:[)  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 cD 1p5U  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 3[c54S+(U  
5.5 如何在Function中编写脚本 ?HW*qD#k  
6. 光学薄膜系统案例 -+z^{*\; N  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 (* p |Kzu  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 g}f@8;TY  
6.3 Stack应用范例说明 B%,0zb+-L  
7. 薄膜性能分析 V Bg\)r[  
7.1 电场分布 J9o ]$.e  
7.2 公差与灵敏度分析 a^CIJ.P2  
7.3 反演工程 C 9DRVkjj  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 (LnKaf8  
8. 真空技术 "Aynt_a.  
8.1 常用真空泵介绍 [[Z*n/tr  
8.2 真空密封和检漏 wy7f7zIa  
9. 薄膜制备技术 i6[Hu8  
9.1 常见薄膜制备技术 5nk]{ G> V  
10. 薄膜制备工艺 TG!sck4/-Q  
10.1 薄膜制备工艺因素 ec{pWzAe  
10.2 薄膜均匀性修正技术 $:>K-4X\}  
10.3 光学薄膜监控技术 rx%lL  
11. 激光薄膜 FN G]  
11.1 薄膜的损伤问题 Z/%>/  
11.2 激光薄膜的制备流程 V ] Z{0  
11.3 激光薄膜的制备技术 &Y\`FY\   
12. 光学薄膜特性测量 -&+[/  
12.1 薄膜光谱测量 ?8`b  
12.2 薄膜光学常数测量 l{kum2DT  
12.3 薄膜应力测量 %kF6y_h`  
12.4 薄膜损伤测量 aC;OFINK  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 0PZpE "$X  
xw`Pq6  
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Qv#]T,  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
h]I ^%7  
内容简介 :X+7}!Wlo  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Wq]^1g_  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 {>90d(j  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 j2V^1  
3~Ah8,  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
e~xN[Q\0]  
目录 6?r}bs6Msx  
Preface 1 &S/KR$^ %  
内容简介 2 h(ZZ7(ue  
目录 i yH irm|o  
1  引言 1 c1c8):o+V  
2  光学薄膜基础 2 l7\Bq+Q  
2.1  一般规则 2 L~>pSP^a  
2.2  正交入射规则 3 A3MVNz$wo"  
2.3  斜入射规则 6 jruwdm^  
2.4  精确计算 7 ca5Ir<mL  
2.5  相干性 8 !ouJ3Jn   
2.6 参考文献 10 Dz8)u:vRS  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ~~z} yCl  
4  Essential Macleod的特点 32 Db@$'  
4.1  容量和局限性 33 |BN^5m qP6  
4.2  程序在哪里? 33 eX>x +]l6  
4.3  数据文件 35 eqV;4dhm  
4.4  设计规则 35 lx(kbSxF  
4.5  材料数据库和资料库 37 ("?V|  
4.5.1材料损失 38 PCtf&U  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 cJ=0zEv  
4.5.2 材料库 41 4;=+qb  
4.5.3导出材料数据 43 qi!+ Ceo}  
4.6  常用单位 43 #L ffmS  
4.7  插值和外推法 46 0sIwU!=vm  
4.8  材料数据的平滑 50 h_n`E7&bG  
4.9 更多光学常数模型 54 >We4F2?  
4.10  文档的一般编辑规则 55 '| WY 2>/(  
4.11 撤销和重做 56 Dg W*Br8<  
4.12  设计文档 57 R `  
4.10.1  公式 58 v;1<K@UT  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 GUSEbIz):  
4.10.3  沉积密度 59 vq=nG]cE)  
4.10.4 平行和楔形介质 60 /6QwV->  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 H[S[ y  
4.10.4  性能 61 MfQ 9d9  
4.10.5  保存设计和性能 64 ](-zt9, N;  
4.10.6  默认设计 64 ~lib~Y'-  
4.11  图表 64 bi~1d"j  
4.11.1  合并曲线图 67 opqY@>Vh&  
4.11.2  自适应绘制 68 gaV>WF  
4.11.3  动态绘图 68 05hjC  
4.11.4  3D绘图 69 X;'H@GU0  
4.12  导入和导出 73 Ce_k&[AJF  
4.12.1  剪贴板 73 4MUN1/DId`  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 4j_\_:$w<  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 h9RL(Kq{  
4.13  背景 77 VH M&Y-G  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 j]P'xrWl]8  
4.15  生成Rugate 84 eCFMWFhC  
4.16  参考文献 91 ;8m)a  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 []OmztB  
5.1  Jobs 92 $Y`oqw?g+^  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 gv\WI4"n  
5.3  输入材料 94 bY&!d.  
5.4  设计数据文件夹 95 QNWGUg4*&  
5.5  默认设计 95 Q ?xA))0  
6  细化和合成 97 G{CKb{  
6.1  优化介绍 97 Cg_9V4h.C  
6.2  细化 (Refinement) 98 lWPh2k  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ~ kwS`  
6.4  目标和评价函数 101 AdD,94/  
6.4.1  目标输入 102 *\gYs{,  
6.4.2  目标 103 x4bmV@b  
6.4.3  特殊的评价函数 104 z_f^L %J0  
6.5  层锁定和连接 104 O#Ma Z.=  
6.6  细化技术 104 :_k5[KT.]9  
6.6.1  单纯形 105 L0.F }~S  
6.6.1.1 单纯形参数 106 qf T71o(  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 FRhHp(0}5  
6.6.2.1 Optimac参数 108 @B \$ me  
6.6.3  模拟退火算法 109 {'cm;V+  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 P"[\p|[U  
6.6.4  共轭梯度 111 +R"Y~ m{F  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Nnx dO0X  
6.6.5  拟牛顿法 112 #?"^:,Y  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 4v.{C"M  
6.6.6  针合成 113 xciwKIpS  
6.6.6.1 针合成参数 114 PCx:  
6.6.7 差分进化 114 TrPw*4h 9s  
6.6.8非局部细化 115 G ,e!!J  
6.6.8.1非局部细化参数 115 X6<Ds'I  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 <P~pn!F}  
6.7.1  细化 116 9CG&MvF c  
6.7.2  合成 117 = IJ}b=:  
6.8  参考文献 117 4OeH}@a  
7  导纳图及其他工具 118 :'2h0 5R  
7.1  简介 118 HSR,moI  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 IN_O!c0e  
7.2.1  四分之一波长规则 119 H S)$|m_  
7.2.2  导纳图 120 AO]k*N,N  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 smKp3_r  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 U4=m>Ty  
7.5  斜入射导纳图 141 A01PEVd@A  
7.6  对称周期 141 >N~orSw%  
7.7  参考文献 142 1>=%TIO)  
8  典型的镀膜实例 143 6L"b O'_5K  
8.1  单层抗反射薄膜 145 )=nB32~J"  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 'i <%kL@  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 m yy*rt  
8.4  W-膜层 148 v, |jmv+:  
8.5  V-膜层 149 \1sWmN6  
8.6  V-膜层高折射基底 150 XTJA"y  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 bgeJVI  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 v]\T&w%9  
8.9  四层抗反射薄膜 153 kho$At)V  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ` ZBOaN^if  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ivg W[]  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156  {b|V;/  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 O"}O~lZ[6T  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 :}-VLp4b  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 &o]fBdn  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 QtA@p  
8.17  1/4波长堆栈 162 ?)gc;K  
8.18  陷波滤波器 163 RR2M+vQ  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?$MO!  
8.20  褶皱 165 + B<7]\\M  
8.21  消偏振分光器1 169 YpgO]\/w  
8.22  消偏振分光器2 171 (%'`t(<  
8.23  消偏振立体分光器 172 NIAji3  
8.24  消偏振截止滤光片 173 1HLU &  
8.25  立体偏振分束器1 174 Bk] `n'W  
8.26  立方偏振分束器2 177 9* P-k.Bl  
8.27  相位延迟器 178 5Y 7 %Z  
8.28  红外截止器 179 W=y9mW|p/  
8.29  21层长波带通滤波器 180 M?5voV*  
8.30  49层长波带通滤波器 181 X4L@|"ZI  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Gd`s01GKQ  
8.32  47 红外截止器 183 &14xYpD<  
8.33  宽带通滤波器 184 GL _hRu  
8.34  诱导透射滤波器 186 wlQ @3RN>  
8.35  诱导透射滤波器2 188 85q!FpuH  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 3:<[;yo  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 >`^;h]Q  
8.35  增益平坦滤波器 193 ]@m`bs_6  
8.38  啁啾反射镜 1 196 g'Wr+( A_  
8.39  啁啾反射镜2 198 r?9".H  
8.40  啁啾反射镜3 199 0+K<;5"63d  
8.41  带保护层的铝膜层 200 y Ni3@f  
8.42  增加铝反射率膜 201 v|dt[>G  
8.43  参考文献 202 *TrpW?]Y&  
9  多层膜 204 >U.7>K V&  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 : )y3 &I  
9.2  内部透过率 204 P'<j<h6  
9.3 内部透射率数据 205 0KZ$v/m  
9.4  实例 206 PzT@q\O  
9.5  实例2 210 a^Z=xlJ/uZ  
9.6  圆锥和带宽计算 212 e:K'e2  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 V+zn` \a  
10  光学薄膜的颜色 216 WpOH1[ 8v  
10.1  导言 216 \TLfLqA  
10.2  色彩 216 a]J>2A@-I  
10.3  主波长和纯度 220 5~$WSL?O)  
10.4  色相和纯度 221 Y-,S_59  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3[@:I^q  
10.6 色差 226 m {&lU@uL  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 zcuz @  
10.8  颜色渲染指数 234 TEbIU8{Y  
10.9  色差计算 235 `<#O8,7`  
10.10  参考文献 236 |WNI[49  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 P`S'F_IN  
11.1  短脉冲 238 C`uL 4r  
11.2  群速度 239 FxT]*mo  
11.3  群速度色散 241 k@pEs# a  
11.4  啁啾(chirped) 245 IR?nH`V  
11.5  光学薄膜—相变 245 og_ylCh:  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Nrq/Pkmy  
11.7  色度色散 246 ti3S'K0t  
11.8  色散补偿 249 7q{yLcC"  
11.9  空间光线偏移 256 ,Xg^rV~]  
11.10  参考文献 258 \9~Q+~@{G  
12  公差与误差 260 o?+?@Xb'  
12.1  蒙特卡罗模型 260 1@}<CWE9  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ;2[OI  
12.2.1  误差工具 267 1r5Z$3t\  
12.2.2  灵敏度工具 271 (!?%"e  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 /8u}VYE  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 O]?\<&y  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 b&]z^_m)  
12.3  参考文献 276 :;IZ|hU  
13  Runsheet 与Simulator 277 7<(kvE*x  
13.1  原理介绍 277 LoOw]@>  
13.2  截止滤光片设计 277 QIdml*Np?H  
14  光学常数提取 289 [q/eRIS_  
14.1  介绍 289 =$T[  
14.2  电介质薄膜 289 @:@5BCs<  
14.3  n 和k 的提取工具 295 )TBm?VMe  
14.4  基底的参数提取 302 xZ* B}O{{H  
14.5  金属的参数提取 306 Rl_1g`84  
14.6  不正确的模型 306 0g Hd{H=  
14.7  参考文献 311 ,s 6lB0  
15  反演工程 313 #TV #*  
15.1  随机性和系统性 313 9yu#G7  
15.2  常见的系统性问题 314 -FrK'!\  
15.3  单层膜 314 of >  
15.4  多层膜 314 o)Px d  
15.5  含义 319 rl2(DA{  
15.6  反演工程实例 319 vst;G-ys  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 4^9qs%&  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 |oQhtk8.  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Pj*]%V  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ezhfKt]j  
16.2  应力工具 335 l\2"u M#7  
16.3  均匀性误差 339 <e wcWr  
16.3.1  圆锥工具 339 7\H_9o0$  
16.3.2  波前问题 341 7#*`7 K'P!  
16.4  参考文献 343 O7od2fV(i7  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 uLfk>&hc  
17.1  引言 345 &V%faa1  
17.2  操作数 345 1_8@yO  
18  如何在Function中编写脚本 351 Gz--C(  
18.1  简介 351 aU$8 0  
18.2  什么是脚本? 351 Tt_QAIl  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 .3SP# mI  
18.4  基础 352 bU}l*"  
18.4.1  Classes(类别) 352 +x?8\  
18.4.2  对象 352 ] pv!Ll  
18.4.3  信息(Messages) 352 bn=7$Ax  
18.4.4  属性 352 0Ag2zx  
18.4.5  方法 353 8hMy$  
18.4.6  变量声明 353 %6&c3,?U\n  
18.5  创建对象 354 qZlL6  
18.5.1  创建对象函数 355 &#9HV  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 DD6K[\  
18.5.3 丢弃对象 356 /N")uuv  
18.5.4  总结 356 \_)mWK,h  
18.6  脚本中的表格 357 q AsTiT6r  
18.6.1  方法1 357 n<eK\ w  
18.6.2  方法2 357 T:!H^  
18.7 2D Plots in Scripts 358 er@.<Dc  
18.8 3D Plots in Scripts 359 <d[GGkY]=  
18.9  注释 360 jS|jPk|I.  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 &x@N5j5Q  
18.11  一个更高级的脚本 362 <! *O[0s  
18.12  <esc>键 364 P` Gb }]rW  
18.13 包含文件 365 $_|jI ^  
18.14  脚本被优化调用 366 `:dGPB BO  
18.15  脚本中的对话框 368 bkm: #K  
18.15.1  介绍 368 |T*t3}  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 MB6lKLy6~  
18.15.3  输入框函数 370 v5FfxDvw  
18.15.4  自定义对话框 371 UY)Iu|~0b  
18.15.5  对话框编辑器 371 J6nH|s8  
18.15.6  控制对话框 377 m$g{&  
18.15.7  更高级的对话框 380 Zlv`yC*r  
18.16 Types语句 384 awLSY:JI  
18.17 打开文件 385 kPSi6ci  
18.18 Bags 387 w-Q=oEt  
18.13  进一步研究 388 |9)y<}c5oM  
19  vStack 389 jz I,B  
19.1  vStack基本原理 389 dAaxbP|  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 yQFZRDV~  
19.3  五棱镜 393 DRRy5+,I  
19.4 光束距离 396 l 1BAW$  
19.5 误差 399 #*  8^ar<  
19.6  二向分色棱镜 399 HzZX=c  
19.7  偏振泄漏 404 & 5'cN  
19.8  波前误差—相位 405 I=k`VId:  
19.9  其它计算参数 405 cdg &)  
20  报表生成器 406 zB6&),[,v  
20.1  入门 406 ^>s{o5H&  
20.2  指令(Instructions) 406 :x!'Eer n  
20.3  页面布局指令 406 .0dx@Sbv  
20.4  常见的参数图和三维图 407 i>=y3x"  
20.5  表格中的常见参数 408 yq`  ,)  
20.6  迭代指令 408 )2F%^<gZ#  
20.7  报表模版 408 7[M@;$  
20.8  开始设计一个报表模版 409 v5L#H=P  
21  一个新的project 413 P_E xh]P  
21.1  创建一个新Job 414 mvyOw M  
21.2  默认设计 415 I$f'BAw  
21.3  薄膜设计 416 <7j"CcJzZ  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ka:wD?>1i  
21.5  显色指数计算 422 n%{oFTLCo  
21.6  电场分布 424 Gx(%AB~9$  
后记 426 KwxJ{$|xH  
wR9gx-bE 4  
3`ze<K((  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ?9z1'6  
N&W7g#F  
《Essential Macleod中文手册》
rTeADu_vf  
w)}@svv"  
目  录 ~0L:c&V  
e!4Kl:  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 rU7t~DKS  
第1章 介绍 ..........................................................1 ^ ;cJjl'=  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 -n6T^vf  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 I! ~3xZ  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 B_0]$D0 ^  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 S{~j5tQv^q  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 inyS4tb  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 u6/;=]0   
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 S@C"tHD  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 _/F}y[B7d  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 wKy4Ic+RV  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ^ANz=`N5,  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 OJ}aN>k  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 _;k))K^  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Ap`D{u/  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 HjX)5@"o(  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 o%v,6yv  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 D o!]t7Y$  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 = 8\'AU  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 @C5 %`{\  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 )h;zH,DA[3  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 Wu693<  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 xf8.PqVNo  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Y1 6pT  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Mm#=d?YUHJ  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 q<A,S8'm  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _P{v=`]Eu  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 |r53>,oR<:  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 \MtdT[*  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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