线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:925
时间地点 DF D5">g@  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 :()(P9?  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 #k? Rl  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 SR>Sq2cW0  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 &We1i &w  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
N{Og; roGD  
特邀专家介绍 SPKen}g  
!M:m(6E1  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 B@!a@0,,_  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 AMqu}G  
课程概要 tV2SX7N  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 0 [6llcuj  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 cyUNJw  
课程大纲 {m5tgVi&  
1. Essential Macleod软件介绍 Dz, Fu:)  
1.1 介绍软件 dIv/.x/V  
1.2 创建一个简单的设计 '>FJk`iI  
1.3 绘图和制表来表示性能 :&$4&\_F  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 oiAU}iK:  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) u:H@]z(x  
1.6 特定设计的公式技术 6w{^S~rqo  
1.7 交互式绘图 q|m8G  
2. 光学薄膜理论基础 wP3PI.g-g  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Zrfp4SlZZ  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 g3{)AX[Uy  
3. 材料管理 M52kau  
3.1 材料模型 ^EU& 6M2  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 cn ,zUG!-h  
3.3 金属薄膜光学常数的提取  N3^pFy`  
3.4 基板光学常数的提取 lv9Ss-c4  
4. 光学薄膜设计优化方法 }{/4sll  
4.1 参考波长与g aq3evm  
4.2 四分之一规则 g#FqjE|mx  
4.3 导纳与导纳图 9[5NnRv$P  
4.4 斜入射光学导纳 M%4o0k]E,s  
4.5 光学薄膜设计的进展 /1++ 8=  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 (\FjbY9&  
4.6.1 优化目标设置 dtjaQsJM^  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) bj` cYL%  
4.6.3 膜层锁定和链接 R7T"fN  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 E*Vx^k$  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 yAEOn/.~  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 "d'xT/l "  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 RhyI\(Z2q  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 6,  ag\  
5.5 如何在Function中编写脚本 tjkY[  
6. 光学薄膜系统案例 Mr:*l`b_  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 |w[}\#2  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Zx25H"5j  
6.3 Stack应用范例说明 $V?zJ:a>L  
7. 薄膜性能分析 [$?S9)Xd  
7.1 电场分布 d T/*O8  
7.2 公差与灵敏度分析 S|;a=K&hS  
7.3 反演工程 #c4LdZu9  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 mquna"}N  
8. 真空技术 g2C-)*'{yh  
8.1 常用真空泵介绍 do*`-SDy  
8.2 真空密封和检漏 9}X3Q!iFb  
9. 薄膜制备技术 eFXxkWR)  
9.1 常见薄膜制备技术 (o^V[zV  
10. 薄膜制备工艺 8+a/x#b-  
10.1 薄膜制备工艺因素 ]Ke|wRQD  
10.2 薄膜均匀性修正技术 &.kg8|s{  
10.3 光学薄膜监控技术 f&`v-kiAn=  
11. 激光薄膜 {114 [  
11.1 薄膜的损伤问题 m'k`p5[=h  
11.2 激光薄膜的制备流程 mUr@w*kq|p  
11.3 激光薄膜的制备技术 eHv~?b5l  
12. 光学薄膜特性测量 bXq,iX  
12.1 薄膜光谱测量 9YHSL[  
12.2 薄膜光学常数测量 EN.yU!N.4  
12.3 薄膜应力测量 UkNC|#l)  
12.4 薄膜损伤测量 H?40yu2m5  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 i BJ*6orz  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
0x^$q? \A  
内容简介 Vu`dEv L?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 HT?`PG  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 b{s E#m%r  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1I3u~J3]/  
yF0,}  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
Si]Z`_  
目录 N _pJE?  
Preface 1 [%l+ C~m  
内容简介 2 Q k-y 0  
目录 i Zz?+,-$_*&  
1  引言 1 m_rRe\  
2  光学薄膜基础 2 ' 1P_*  
2.1  一般规则 2 QH\*l~;B\  
2.2  正交入射规则 3 (!X:[Ah*$  
2.3  斜入射规则 6 |w~zh6~  
2.4  精确计算 7 5 @[%P=  
2.5  相干性 8 W\~ZmA.  
2.6 参考文献 10 &KR@2~vE  
3  Essential Macleod的快速预览 10 t 1C{  
4  Essential Macleod的特点 32 nj7Ri=lyS  
4.1  容量和局限性 33 Cc Ni8Wg_  
4.2  程序在哪里? 33 3}twWnQZJ  
4.3  数据文件 35 ?U-p jjM  
4.4  设计规则 35 ;;nmF#  
4.5  材料数据库和资料库 37 m(OBk;S~   
4.5.1材料损失 38 :+Dn]:\  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ) ]~HjA;  
4.5.2 材料库 41 ;prp6(c  
4.5.3导出材料数据 43 G$@X>)2N8  
4.6  常用单位 43 +Z;0"'K'e  
4.7  插值和外推法 46 3^ Z tIZ  
4.8  材料数据的平滑 50 z%g<&Cq  
4.9 更多光学常数模型 54 qA30z%#z_  
4.10  文档的一般编辑规则 55 9(X *[X#  
4.11 撤销和重做 56 cuKgO{.GH  
4.12  设计文档 57 P{>T?-Hj  
4.10.1  公式 58 R2J3R5 S=[  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~Q%QA._R?  
4.10.3  沉积密度 59 q0c)pxD%`  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ~{NDtB)  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 xq~=T:>/A  
4.10.4  性能 61 / TJTu_#  
4.10.5  保存设计和性能 64 W\KZFrV@  
4.10.6  默认设计 64 [6|8Gx :  
4.11  图表 64 v#/,,)m  
4.11.1  合并曲线图 67 ?1412Tq5  
4.11.2  自适应绘制 68 ,~4(td+R7  
4.11.3  动态绘图 68 Ppp&3h[dW)  
4.11.4  3D绘图 69 \Fj4Gy?MW  
4.12  导入和导出 73 F H%yyT  
4.12.1  剪贴板 73 A|a\pL`@  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Tf[ ]vqa`G  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 s~63JDy"E  
4.13  背景 77 n&V(c&C  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 1Gqtd^*;  
4.15  生成Rugate 84 QB@*/Le   
4.16  参考文献 91  C3<3  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 B"B  
5.1  Jobs 92 1b D c ct  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 hOC,Eo  
5.3  输入材料 94 :8QG$Ua1  
5.4  设计数据文件夹 95 b~~}(^Bg  
5.5  默认设计 95 oDP|>yXC)  
6  细化和合成 97 b QeYFY#^  
6.1  优化介绍 97 "yz@LV1  
6.2  细化 (Refinement) 98 r-0 7!A  
6.3  合成 (Synthesis) 100 4{Ak|  
6.4  目标和评价函数 101 %FRkvqV*  
6.4.1  目标输入 102 AP~!YwLW  
6.4.2  目标 103 Pb`sn5;  
6.4.3  特殊的评价函数 104 "bO]  
6.5  层锁定和连接 104 e,4G:V'NX  
6.6  细化技术 104 gI%n(eY  
6.6.1  单纯形 105 D"WkD j"M  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Bl1I "B  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 %B?5l^W@  
6.6.2.1 Optimac参数 108 qqAsh]Z  
6.6.3  模拟退火算法 109 J+4uUf/d!  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 lGz0K5P{  
6.6.4  共轭梯度 111 @Uu\x~3y  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 />oU}m"k  
6.6.5  拟牛顿法 112 NR [VGZj  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 R.QcXz?d  
6.6.6  针合成 113 Jzj~uz  
6.6.6.1 针合成参数 114 JU6np4  
6.6.7 差分进化 114 p?h;Sv/  
6.6.8非局部细化 115 @rF\6I  
6.6.8.1非局部细化参数 115 0t&H1xsxX  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 uXC?fMWp.  
6.7.1  细化 116 Ue7W&N^E  
6.7.2  合成 117 'GyPl  
6.8  参考文献 117 -I*A  `M  
7  导纳图及其他工具 118 Ij8tBT?jlL  
7.1  简介 118 :Ry 24X  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 c%dy$mkqgK  
7.2.1  四分之一波长规则 119 IY:O?M  
7.2.2  导纳图 120 +OmSR*fA0  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 5a&w M  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 4s8E:I=K  
7.5  斜入射导纳图 141 mc=*wr$  
7.6  对称周期 141 _7<U[63  
7.7  参考文献 142 P:TpB6.=q  
8  典型的镀膜实例 143 `3KprpE8v  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ?uN(" I  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ..:V3]-D  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 i<?4iwX%i*  
8.4  W-膜层 148 ]4yvTP3[Rm  
8.5  V-膜层 149 ^&.?kJM  
8.6  V-膜层高折射基底 150 *J=ol  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 a< EC]-nw  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 F~AS(sk  
8.9  四层抗反射薄膜 153 r;C\eN  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 a\w | tf  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 bM-Rj1#Lo  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Kd)m"9Cc  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 QFPx4F7(e  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158  R'/wOE2  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 fz3*oJ'  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Mvv=)?:  
8.17  1/4波长堆栈 162 m{ fQL  
8.18  陷波滤波器 163 Uz|]}t5V  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 a:}"\>Aj  
8.20  褶皱 165 VZoOdR:d  
8.21  消偏振分光器1 169 A& F4;>dms  
8.22  消偏振分光器2 171 pxx(BE  
8.23  消偏振立体分光器 172 l'T0<  
8.24  消偏振截止滤光片 173 81cmG `G7  
8.25  立体偏振分束器1 174 M<unQ1+wh  
8.26  立方偏振分束器2 177  G{.+D2  
8.27  相位延迟器 178 7 L\?  
8.28  红外截止器 179 6hK"k  
8.29  21层长波带通滤波器 180 gpWS_Dw9  
8.30  49层长波带通滤波器 181 @E2nF|N  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ?m1$*j  
8.32  47 红外截止器 183 Yk Pt*?,P/  
8.33  宽带通滤波器 184 ai4^NJn  
8.34  诱导透射滤波器 186 \<B6>  
8.35  诱导透射滤波器2 188 m!60.  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 SWb5K0YRn  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 )y W_O:  
8.35  增益平坦滤波器 193 ]F;]<_  
8.38  啁啾反射镜 1 196 `uA&w}(G  
8.39  啁啾反射镜2 198 Mqp68%  
8.40  啁啾反射镜3 199 0 0&$SE  
8.41  带保护层的铝膜层 200 !d .>r 7w  
8.42  增加铝反射率膜 201 ]4mj 1g&C  
8.43  参考文献 202 G3+a+=e  
9  多层膜 204 ;|QR-m2/  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 QV$dKjMS  
9.2  内部透过率 204 q&Wwt qc9  
9.3 内部透射率数据 205 RCYbRR4y  
9.4  实例 206 B:4qW[U#  
9.5  实例2 210 0t?<6-3`/  
9.6  圆锥和带宽计算 212 lhl 0  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 :s '"u]  
10  光学薄膜的颜色 216 YO$b#  
10.1  导言 216 ?]D+H%3[$i  
10.2  色彩 216 ]wpYxos  
10.3  主波长和纯度 220 $L8s/1up  
10.4  色相和纯度 221 BJxm W's/  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 r/sRXM:3cZ  
10.6 色差 226 xKST-:c+  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 H)T# R?  
10.8  颜色渲染指数 234 ysJhP .  
10.9  色差计算 235 Y~hd<8 ~  
10.10  参考文献 236 `OReSg 2  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 6XL9 qb~X  
11.1  短脉冲 238 )|R0_9CLV  
11.2  群速度 239 2G5!u)  
11.3  群速度色散 241 UN?T}p- oF  
11.4  啁啾(chirped) 245 w^E]N  
11.5  光学薄膜—相变 245 PB<Sc>{U  
11.6  群延迟和延迟色散 246 I+?$4SC  
11.7  色度色散 246 W#7-%o T  
11.8  色散补偿 249 IOZ|85u =  
11.9  空间光线偏移 256 GVc[p\h(  
11.10  参考文献 258  Ox*T:5  
12  公差与误差 260 bA^: p3  
12.1  蒙特卡罗模型 260 IA 9v1:>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 k=~pA iRDN  
12.2.1  误差工具 267 D3AtYt  
12.2.2  灵敏度工具 271 _& Uo|T  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 PSqtZN  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 5YG@[ic  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 2j/1@Z1j=  
12.3  参考文献 276 '`~(Fkj  
13  Runsheet 与Simulator 277 Oj lB 0  
13.1  原理介绍 277 0R5^p  
13.2  截止滤光片设计 277 -5,y 1_M  
14  光学常数提取 289 >`?+FDOJ,  
14.1  介绍 289 b, **$  
14.2  电介质薄膜 289 2N8sq(LK{  
14.3  n 和k 的提取工具 295 K6yFpVl  
14.4  基底的参数提取 302 Ta\8 >\6  
14.5  金属的参数提取 306 RQ)!KlY  
14.6  不正确的模型 306 2\CkX  
14.7  参考文献 311 nP{sCH 1  
15  反演工程 313 I;.! hV>E  
15.1  随机性和系统性 313 @uM3iO7&  
15.2  常见的系统性问题 314 7- 3N  
15.3  单层膜 314 ny_ kr`$42  
15.4  多层膜 314 OG?j6q hpl  
15.5  含义 319 -k[tFBl w  
15.6  反演工程实例 319 J%-lw{FC  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 < J<;?%]  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 k5%0wHpk=  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 g*r{!:,t  
16.1  光学性质的热致偏移 329 8&A|)ur4  
16.2  应力工具 335 G5nj,$F+  
16.3  均匀性误差 339 :*&9TNU E@  
16.3.1  圆锥工具 339 > ?{iv1  
16.3.2  波前问题 341 k E#_Pc  
16.4  参考文献 343 PxVI {:Uz  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ;GgQ@s@  
17.1  引言 345 Yx}"> ;\  
17.2  操作数 345 #nf%ojh  
18  如何在Function中编写脚本 351 Dss/>! mN  
18.1  简介 351 ^I0GZG  
18.2  什么是脚本? 351 EO 9kE.g  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 <j1d~XU}  
18.4  基础 352 lfpt:5a9&  
18.4.1  Classes(类别) 352 Eagmafu  
18.4.2  对象 352 tp0!,ne*  
18.4.3  信息(Messages) 352 < ;,S"e  
18.4.4  属性 352 N}x/&e  
18.4.5  方法 353 &b@!DAwAJ  
18.4.6  变量声明 353 qvfAG 0p  
18.5  创建对象 354 Ubw!/|mi  
18.5.1  创建对象函数 355 ?<yq 2`\4O  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Puth8$  
18.5.3 丢弃对象 356 [>M*_1F  
18.5.4  总结 356 '^oGDlkr H  
18.6  脚本中的表格 357 DvRA2(M  
18.6.1  方法1 357 S `m- 5  
18.6.2  方法2 357 y5AXL5  
18.7 2D Plots in Scripts 358 [`zbf_RyO  
18.8 3D Plots in Scripts 359 kO,VayjT  
18.9  注释 360 Z*vpQBbu  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 +Sdx8 Z5  
18.11  一个更高级的脚本 362 \{M rQ2jd  
18.12  <esc>键 364 +.gf]|  
18.13 包含文件 365 Q&.IlVB[  
18.14  脚本被优化调用 366 _L:i=.hxN  
18.15  脚本中的对话框 368 s7UhC.>'@  
18.15.1  介绍 368 r_V2 J{B  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 sx-Hw4.a"  
18.15.3  输入框函数 370 T) Zt'M  
18.15.4  自定义对话框 371 ` r'0"V  
18.15.5  对话框编辑器 371 SP D207  
18.15.6  控制对话框 377 '!yS72{$2  
18.15.7  更高级的对话框 380 Ah"'hFY  
18.16 Types语句 384 GEe 0@q#YA  
18.17 打开文件 385 7i+!^Qj?y  
18.18 Bags 387 m>abK@5na  
18.13  进一步研究 388 0x>/6 <<  
19  vStack 389 C$'D]fX  
19.1  vStack基本原理 389 Av;q:x?  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 iKF$J3a\2f  
19.3  五棱镜 393 x#:BE  
19.4 光束距离 396 z*dQIC  
19.5 误差 399 {#w A !>.  
19.6  二向分色棱镜 399 Rekb?|{z  
19.7  偏振泄漏 404 ;Oi[:Ck  
19.8  波前误差—相位 405 [yYH>~SuwZ  
19.9  其它计算参数 405 C`yvBt40r  
20  报表生成器 406 _[$T29:8\]  
20.1  入门 406 c9*1$~(v0I  
20.2  指令(Instructions) 406 4[LLnF--  
20.3  页面布局指令 406 !Ig|m+  
20.4  常见的参数图和三维图 407 fd5ZaE#f  
20.5  表格中的常见参数 408 :~ZqB\>i  
20.6  迭代指令 408 QX/X {h6  
20.7  报表模版 408 [w&#+h-q  
20.8  开始设计一个报表模版 409 m{b ZRkt  
21  一个新的project 413 PkPDVv  
21.1  创建一个新Job 414 kb"_6,[Ms  
21.2  默认设计 415 !^)wPmk  
21.3  薄膜设计 416 tp6csS,  
21.4  误差的灵敏度计算 420 X6LhM  
21.5  显色指数计算 422 tT@w%Sz57N  
21.6  电场分布 424 E'e8&3!bx  
后记 426 <THZ2`tTK3  
? fbgU  
.pS&0gBo\  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 `2x H7a-  
E[|s>Xv~  
《Essential Macleod中文手册》
YGq=8p7.R  
_KB{J7bs<a  
目  录 9 3W  
P+)qE6\  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 D00G1:Ft(T  
第1章 介绍 ..........................................................1 ]^J+-c  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 GI2eJK  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ^CZCZ,v  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 H&w:`JYDL3  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 (O)\#%,@R  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 j[ J 5y#  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 v2 29H<  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 X,C*qw@  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 mu6039qy  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 (C8 U   
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ]pW86L%  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 H~A"C'P3#  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 d]tv'|E13  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 "w}-?:# j  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 +h0PR?  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200  9R9__w;  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 {>8Pl2J  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Q~Ay8L+  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ,:D=gQ@`  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 A /q2g7My  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ^4c,U9J=  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 HXQ e\r  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 T vrk^!  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 I Byf_E;r  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 PG{i,xq_B{  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 "-w ^D!C  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 \7pipde  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ldA!ou7  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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