线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:765
时间地点 .Z9Bbab:  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 jg2>=}  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 1tfm\/V}ho  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室   5)mn  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 V}Oxz04  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
WJ/&Ag1  
特邀专家介绍 ZfIQ Fh>  
G0<m3 Up  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Wny{qj)=  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 M`S >Q2{  
课程概要 QCMt4`% 'u  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 &Tl3\T0D  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 _jP]ifu`  
课程大纲 _d,_&7  
1. Essential Macleod软件介绍 ]BX|G`CCc  
1.1 介绍软件 ^Z;5e@S  
1.2 创建一个简单的设计 2}hEBw68  
1.3 绘图和制表来表示性能 f`vB$r>  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 , @(lYeD"  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) (LQ*U3J]_  
1.6 特定设计的公式技术 i?||R|>;"'  
1.7 交互式绘图 h\:"k_u#  
2. 光学薄膜理论基础 {QJJw}!#  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Sh=z  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 j#.Aiy:,  
3. 材料管理 3-z57f,}6~  
3.1 材料模型 /2 WGo-  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 UG 9uNgzQ/  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 l2z@t3{  
3.4 基板光学常数的提取 }zj_Pp  
4. 光学薄膜设计优化方法 "){"{~  
4.1 参考波长与g arRb q!mO  
4.2 四分之一规则 ?>DN7je  
4.3 导纳与导纳图 `BF+)fs  
4.4 斜入射光学导纳 qy/xJ>:  
4.5 光学薄膜设计的进展 :[,-wZiT~6  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 8FU8E2zo  
4.6.1 优化目标设置 `Z0FQ( r_  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) <U$x')W  
4.6.3 膜层锁定和链接 b-\ 1D;]  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 9x23## s  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 |!,;IoZ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ?7*.S Lt  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 k_/*> lIZY  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 =YOq0  
5.5 如何在Function中编写脚本 PFu{OJg&  
6. 光学薄膜系统案例 Ja"?Pb  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 VMXccT9i!  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 fl9`Mgu  
6.3 Stack应用范例说明 eD 4X:^@  
7. 薄膜性能分析 yX0n yhq  
7.1 电场分布 @j=:V!g2O  
7.2 公差与灵敏度分析 Nu/wjx$b  
7.3 反演工程 d)1 d0ES  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ,` 6O{Z~  
8. 真空技术 +DU^"q=  
8.1 常用真空泵介绍 o#fr5>h-w  
8.2 真空密封和检漏 s'b 4Me  
9. 薄膜制备技术 gF# HNv  
9.1 常见薄膜制备技术 ose(#n40  
10. 薄膜制备工艺 m}hEi  
10.1 薄膜制备工艺因素 OD]`oJ|  
10.2 薄膜均匀性修正技术 < KG q  
10.3 光学薄膜监控技术 vhIZkz!9  
11. 激光薄膜 xy))}c%  
11.1 薄膜的损伤问题 Vdd HK  
11.2 激光薄膜的制备流程 JlR$"GU  
11.3 激光薄膜的制备技术 hK+6S3-E z  
12. 光学薄膜特性测量 70Jx[3vr  
12.1 薄膜光谱测量 :e /*5ix  
12.2 薄膜光学常数测量 `Y O(C<r-  
12.3 薄膜应力测量 i' V("  
12.4 薄膜损伤测量 ,4:=n$e 0  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ,.9k)\/V  
e`n+U-)z  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
6~c#G{kc  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
h?[|1.lJx(  
内容简介 mC2K &'[  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 M8nfbc^  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ;NU-\<Q{  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @,Z0u2WLl6  
4>A|2+K\  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
xt_:R~/[  
目录 V6Mt;e)C  
Preface 1 y+3+iT@i  
内容简介 2 % IHIXncv[  
目录 i Y<L35 ?  
1  引言 1 e,N}z  
2  光学薄膜基础 2  J3`0i@  
2.1  一般规则 2 !iO2yp  
2.2  正交入射规则 3 DA1?M'N  
2.3  斜入射规则 6 sYjhQN=Y*  
2.4  精确计算 7 d~1uK-L]*  
2.5  相干性 8 ~8s2p%~  
2.6 参考文献 10 nv0\On7wd  
3  Essential Macleod的快速预览 10 F~q(@.b  
4  Essential Macleod的特点 32 Ve2{;`t  
4.1  容量和局限性 33 KL9k9|!p  
4.2  程序在哪里? 33 j$K*R."  
4.3  数据文件 35  />Q}0H g  
4.4  设计规则 35 z/u^  
4.5  材料数据库和资料库 37 ,AmwsXN"F  
4.5.1材料损失 38 SE'!j]6jI  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 `^52I kM)  
4.5.2 材料库 41 f WZ(  
4.5.3导出材料数据 43 R&9FdM3K`:  
4.6  常用单位 43 Z:dp/M}  
4.7  插值和外推法 46 <+k"3r{y"  
4.8  材料数据的平滑 50 m>%b4M  
4.9 更多光学常数模型 54 N0H=;CIQ  
4.10  文档的一般编辑规则 55 2]1u0-M5L  
4.11 撤销和重做 56 1rJ2}d\y  
4.12  设计文档 57 w9{C"K?u=  
4.10.1  公式 58 CHsg2S  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 o:D,,MkSw  
4.10.3  沉积密度 59 V:$+$"|  
4.10.4 平行和楔形介质 60 f. "\~  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 E7t;p)x  
4.10.4  性能 61 T5 (|{-  
4.10.5  保存设计和性能 64 CJ* D  
4.10.6  默认设计 64 @(Y!$><Is  
4.11  图表 64 #0>xa]S  
4.11.1  合并曲线图 67 ]QhTxrF"  
4.11.2  自适应绘制 68 &'SD1m1P  
4.11.3  动态绘图 68 &E_a0*)e  
4.11.4  3D绘图 69 )V\@N*L`ik  
4.12  导入和导出 73 7 !$[XD  
4.12.1  剪贴板 73 h:nybLw?  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 7~ PL8  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 OvtE)u l@  
4.13  背景 77 sU"%,Q5  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 DcW?L^Mst  
4.15  生成Rugate 84 G 5;6q  
4.16  参考文献 91 >> zd  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 VG);om7`PD  
5.1  Jobs 92 O\6U2b~  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 >#w;67he2  
5.3  输入材料 94 !R=@Nr>  
5.4  设计数据文件夹 95 qOwql(vX  
5.5  默认设计 95 L5-|-PP|;  
6  细化和合成 97 a YWWln  
6.1  优化介绍 97 ^U }k   
6.2  细化 (Refinement) 98 H"#ITL  
6.3  合成 (Synthesis) 100 flsejj$  
6.4  目标和评价函数 101 "f,{d}u  
6.4.1  目标输入 102 9af.t  
6.4.2  目标 103 O`B,mgT(  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ]mTBD<3\  
6.5  层锁定和连接 104 FQ]/c#J  
6.6  细化技术 104 [d: u(  
6.6.1  单纯形 105 TmsIyDcD~  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ;]u9o}[ 2  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 +(W1x C0  
6.6.2.1 Optimac参数 108 *.DC(2:o!  
6.6.3  模拟退火算法 109 rm iOeS`:  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 u^1#9bAW8  
6.6.4  共轭梯度 111 }yz>(Pq  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 j]Jgz<  
6.6.5  拟牛顿法 112 uM-,}7f7  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 D|N4X`T`  
6.6.6  针合成 113  !+eH8  
6.6.6.1 针合成参数 114 0cd_l 2f#g  
6.6.7 差分进化 114 Zh=a rlk  
6.6.8非局部细化 115 ^[M{s(b  
6.6.8.1非局部细化参数 115 7?$?Yu  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 \$ytmtf5  
6.7.1  细化 116 F5h/>  
6.7.2  合成 117 i[v4[C=WB!  
6.8  参考文献 117 [nTI\17iA  
7  导纳图及其他工具 118 =p+y$  
7.1  简介 118 cHs3:F~~  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 (W ~K1]  
7.2.1  四分之一波长规则 119 <+`%=r)4  
7.2.2  导纳图 120 /wV|;D^ )  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Wg']a/m  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 >|$]=e,Z  
7.5  斜入射导纳图 141 mj~:MCC  
7.6  对称周期 141 c-a,__c?hx  
7.7  参考文献 142 `o[l%I\Q  
8  典型的镀膜实例 143 0 j.K?]f)h  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ~}Xus?e  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146  {>]\<  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 jD: N)((  
8.4  W-膜层 148 #b/qR^2qW  
8.5  V-膜层 149 ,T$ts  
8.6  V-膜层高折射基底 150 {&  o^p!  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 =[6^NR(  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {]0e=#hw  
8.9  四层抗反射薄膜 153 X8 nos  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 J:xGEa t  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 YuXJT*  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Nwvlv{k'  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 @60D@Y  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 22gh!F%)  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 vg z`+Zj*S  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 c8l>OS5i3_  
8.17  1/4波长堆栈 162 U!wi;W2  
8.18  陷波滤波器 163 asT-=p_ 0.  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 -@orIwA&  
8.20  褶皱 165 8>Cr6m   
8.21  消偏振分光器1 169 S c)^k  
8.22  消偏振分光器2 171 z/@_?01T=  
8.23  消偏振立体分光器 172 79\ wjR!T  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ]v+<K63@T  
8.25  立体偏振分束器1 174 iOE. .xA:  
8.26  立方偏振分束器2 177 i5,iJe0cA  
8.27  相位延迟器 178 NGx3f3 9  
8.28  红外截止器 179 %opBJ   
8.29  21层长波带通滤波器 180 v}B%:1P4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ]%Q!%uTh  
8.31  55层短波带通滤波器 182 vQAFgG  
8.32  47 红外截止器 183 ^h(wi`i  
8.33  宽带通滤波器 184 !l:GrT8J  
8.34  诱导透射滤波器 186 e+ xQ\LH  
8.35  诱导透射滤波器2 188 $|K d<wv  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 l$42MRi/  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 'h>uR|  
8.35  增益平坦滤波器 193 c}(WniR-"  
8.38  啁啾反射镜 1 196 t@q'm.:uw<  
8.39  啁啾反射镜2 198 &!!*xv-z  
8.40  啁啾反射镜3 199 r*X,]\V0x  
8.41  带保护层的铝膜层 200 y<)TYr  
8.42  增加铝反射率膜 201 nm'l}/Ug  
8.43  参考文献 202 +mQ5\14#  
9  多层膜 204 |P|B"I<?  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 pLMt 2 G  
9.2  内部透过率 204 qd`e:s*%  
9.3 内部透射率数据 205 dzVi ~wt_&  
9.4  实例 206 ho]:)!|VY  
9.5  实例2 210 n 8cA8<  
9.6  圆锥和带宽计算 212 P7x;G5'.  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Zk3Pv0c  
10  光学薄膜的颜色 216 m[hL GD'Fi  
10.1  导言 216 IqOg{#sm  
10.2  色彩 216 2 $>DX\h  
10.3  主波长和纯度 220 12$0-@U  
10.4  色相和纯度 221 8@3K, [Mo  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 QY\k3hiqn  
10.6 色差 226 JA^o/%a^  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 rK3kg2H  
10.8  颜色渲染指数 234 PEMkx"h +  
10.9  色差计算 235 ! 'zd(kv<  
10.10  参考文献 236 c-LzluWi  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ?gH[la  
11.1  短脉冲 238 hor7~u+  
11.2  群速度 239 fF Q|dE;cF  
11.3  群速度色散 241 7"(!]+BW!O  
11.4  啁啾(chirped) 245 .)Tj}Im2p  
11.5  光学薄膜—相变 245 53Adic  
11.6  群延迟和延迟色散 246 B2`S0 H  
11.7  色度色散 246 } ueFy<F  
11.8  色散补偿 249 9zaN fs  
11.9  空间光线偏移 256 `lhw*{3A  
11.10  参考文献 258 @W,jy$U  
12  公差与误差 260 MP]<m7669*  
12.1  蒙特卡罗模型 260 2YD\KXDo  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 V<ESj K8  
12.2.1  误差工具 267 b3(* /KgK  
12.2.2  灵敏度工具 271 )"?4d[ 5  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 X/_I2X  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 xR7ZqTcw  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 LoF/45|-<  
12.3  参考文献 276 <-lM9}vd  
13  Runsheet 与Simulator 277 )^(*B6;z5  
13.1  原理介绍 277 Sp `l>BL  
13.2  截止滤光片设计 277 {X{R]  
14  光学常数提取 289 st'T._  
14.1  介绍 289 h my%X`%j  
14.2  电介质薄膜 289 ;vx5 =^7P  
14.3  n 和k 的提取工具 295 TnW`#.f  
14.4  基底的参数提取 302 `oRyw6Sko  
14.5  金属的参数提取 306 W4$o\yA]  
14.6  不正确的模型 306 kpOdyn(  
14.7  参考文献 311 &L|oqXE0L  
15  反演工程 313 9QZaa(vN  
15.1  随机性和系统性 313 (;NJ<x  
15.2  常见的系统性问题 314 `/| *u  
15.3  单层膜 314 >XN[KPTa  
15.4  多层膜 314 =lacfPS  
15.5  含义 319 [4KQcmJc#  
15.6  反演工程实例 319 b?wrOS  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 lg%fjBY  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 kHM Jh~  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Ple.fKu  
16.1  光学性质的热致偏移 329 !2!~_*sGe  
16.2  应力工具 335 4jT6h9%  
16.3  均匀性误差 339 _~FfG!H ^X  
16.3.1  圆锥工具 339 DP_b9o \5  
16.3.2  波前问题 341 #qRoTtMq 7  
16.4  参考文献 343 (P>nA3:UXB  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ct+F\:e  
17.1  引言 345 zLJ>)v$81  
17.2  操作数 345 bpu`'Vx  
18  如何在Function中编写脚本 351 *)^6'4=  
18.1  简介 351 7UTfafOGX  
18.2  什么是脚本? 351 Ku5||u.F4*  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 !Vpi1N\  
18.4  基础 352 ]:%DDlRb  
18.4.1  Classes(类别) 352 ixTjXl2g  
18.4.2  对象 352 "&(/bdah?&  
18.4.3  信息(Messages) 352 eqtZU\GI>  
18.4.4  属性 352 J+D|/^  
18.4.5  方法 353 0d2P   
18.4.6  变量声明 353 &1 \/B  
18.5  创建对象 354 O]:9va  
18.5.1  创建对象函数 355 ammi4k/  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ~!uX"F8Xl  
18.5.3 丢弃对象 356 kD#T _d  
18.5.4  总结 356 If'q8G3]-  
18.6  脚本中的表格 357 fy+5i^{=  
18.6.1  方法1 357 b42%^E  
18.6.2  方法2 357 18$d-[hX  
18.7 2D Plots in Scripts 358 (g6e5Sgi>  
18.8 3D Plots in Scripts 359  lKbWQ>  
18.9  注释 360 VuLb9Kn  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 QO@86{u#Y  
18.11  一个更高级的脚本 362 \((MoQ9Qk  
18.12  <esc>键 364 7cc^n\c?Y  
18.13 包含文件 365 rgy I:F.  
18.14  脚本被优化调用 366 a)|y0w)vV  
18.15  脚本中的对话框 368 @&T' h}|:  
18.15.1  介绍 368 4Kqo>|C  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 We6eAP/Z  
18.15.3  输入框函数 370 !vX4_!%  
18.15.4  自定义对话框 371 @@R Mm$  
18.15.5  对话框编辑器 371 ?K$&|w%{3  
18.15.6  控制对话框 377 iXWzIb}CJ-  
18.15.7  更高级的对话框 380 8W3zrnc  
18.16 Types语句 384 B*/!s7c.  
18.17 打开文件 385 :'h$]p%  
18.18 Bags 387 . 0dGS  
18.13  进一步研究 388  \? /'  
19  vStack 389 {S0-y  
19.1  vStack基本原理 389 w_"d&eYdg0  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ?NBae\6r  
19.3  五棱镜 393 6R :hsC$  
19.4 光束距离 396 %9YY \a {  
19.5 误差 399 XPhP1 ^>\  
19.6  二向分色棱镜 399 Jm!,=} oP'  
19.7  偏振泄漏 404 Kebr>t8^  
19.8  波前误差—相位 405 %g :Q?   
19.9  其它计算参数 405 NQD5=/o  
20  报表生成器 406 %??v?M*  
20.1  入门 406 <F^9ML+'  
20.2  指令(Instructions) 406 !'_7MM  
20.3  页面布局指令 406 si&du  
20.4  常见的参数图和三维图 407 I<}% L V  
20.5  表格中的常见参数 408 ~vTwuc\(H  
20.6  迭代指令 408 xLed];2G  
20.7  报表模版 408 Tm^kZuT{  
20.8  开始设计一个报表模版 409 l/3=o}8q  
21  一个新的project 413 bo<P%$(D  
21.1  创建一个新Job 414 *VsGa<V  
21.2  默认设计 415 _DxHJl  
21.3  薄膜设计 416 -k + jMH  
21.4  误差的灵敏度计算 420  hh4R  
21.5  显色指数计算 422 1$RJzHS  
21.6  电场分布 424 :uo)-9_  
后记 426 fXWy9 #M  
<T>s;b  
]QlW{J  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 !h1:AW_iz  
"U^m~N9k{  
《Essential Macleod中文手册》
OROvy  
ZtZ3I?%U3  
目  录 l%}q&_  
F]M-r{  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 B*_K}5UO  
第1章 介绍 ..........................................................1 x8aOXN#w}  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ?OW!D?  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ]Ea-MeH  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 CUJq [  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 XQ~Xls%]   
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Q z(n41@`  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 N.mRay,  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 u xyj6(  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 j-d&4,a:c  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 e?XFtIj$  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 e6MBy\*n  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 .Wt3|?\=nd  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 U[MeK)*  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 %|JiFDjp  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ='jT 5Mg  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 &]YyV.  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 tN<X3$aN  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 *%/O (ohs@  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 # bHkI~  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 L ~'98C  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 c5%}* "z  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ?L\"qz%gP  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 nrY)i_\  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 inh:b .,B  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 8#;=>m%  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 zg3kU65PJE  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 \dJhDR  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /[dMw *SRz  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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