线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:802
时间地点 [O_5`X9|  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 6q>iPK Jt  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 wj}LVyV  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 GOA dhh-  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 (NR( )2  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
=*ErN  
特邀专家介绍 B:v_5e\f@  
~YW;'  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 u?SwGXi~8  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 RY)x"\D  
课程概要 pwHe&7e#  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ZyNgG9JL]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 x{w|Hy  
课程大纲 "u~` ZV(  
1. Essential Macleod软件介绍 *(r9c(xa  
1.1 介绍软件 cL4Go,)w  
1.2 创建一个简单的设计 :/][ n9J^  
1.3 绘图和制表来表示性能 Nes|4Z<  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ynMYf  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) PuZzl%i P3  
1.6 特定设计的公式技术 KV;q}EyG  
1.7 交互式绘图 R|qNyNXo[  
2. 光学薄膜理论基础 Kg<~Uf=1  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 K-Pcew^?  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 AdDR<IW  
3. 材料管理 -t<1A8%  
3.1 材料模型 F)eP55C6  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 h0~<(3zC  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 z$m(@Q  
3.4 基板光学常数的提取 M+ <SSi"  
4. 光学薄膜设计优化方法 =>'j_|  
4.1 参考波长与g 4`oKvL9  
4.2 四分之一规则 snkMxc6c[  
4.3 导纳与导纳图 p%bMfi*T  
4.4 斜入射光学导纳 #Cs/.(<  
4.5 光学薄膜设计的进展 yCkc3s|DA;  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 };9/J3]m  
4.6.1 优化目标设置 {*hGe_^  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 525^/d6v  
4.6.3 膜层锁定和链接 1l^[%0  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 94 6r#`q  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ea$. +  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 jb/C\2U4)  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 uInI{>  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 |)jR|8MAE  
5.5 如何在Function中编写脚本 ;IPk+,hpmi  
6. 光学薄膜系统案例 .@;5"  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 T&S=/cRBK}  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 6f#Mi+"  
6.3 Stack应用范例说明 oIj/V|ByK  
7. 薄膜性能分析 /u]#dX5  
7.1 电场分布 Kt]vTn7!9  
7.2 公差与灵敏度分析 P $ h) Y  
7.3 反演工程 +[ir7?Y.  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 438r]f?0|{  
8. 真空技术 I=[09o  
8.1 常用真空泵介绍 c@]G;>o  
8.2 真空密封和检漏 s` , g4ce`  
9. 薄膜制备技术 dKDCJ t]t  
9.1 常见薄膜制备技术 7bGt'gvv  
10. 薄膜制备工艺 SV95g@  
10.1 薄膜制备工艺因素 "[z/\l8O  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ^ -~=U^2tC  
10.3 光学薄膜监控技术 d=vD Pf  
11. 激光薄膜 (A}c22qe  
11.1 薄膜的损伤问题 ~pI`_3  
11.2 激光薄膜的制备流程 I) *J,hs1  
11.3 激光薄膜的制备技术 0$y HO2 f  
12. 光学薄膜特性测量 K!>3`[:I"  
12.1 薄膜光谱测量  ++8 Xi1  
12.2 薄膜光学常数测量 fD_3lbiL(  
12.3 薄膜应力测量 BjjuZN&  
12.4 薄膜损伤测量 / )[\+Nc  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 f::^zAV  
dKchQsgCg  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
3|3ad'  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
0&&P+adk  
内容简介 l.}gWN9-  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 0f+]I=1\  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 l:#'i`;   
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 L5&,sJz  
Qd ?S~3XT  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
P6v@ Sn  
目录 1T,Bd!g  
Preface 1 @JP6F[d  
内容简介 2 5*B'e{C  
目录 i Cf<TDjU`|  
1  引言 1 %hBw)3;l  
2  光学薄膜基础 2 Mcd K!V  
2.1  一般规则 2 ^b.fci{1m  
2.2  正交入射规则 3 B(- F|q\  
2.3  斜入射规则 6 ZiH4s|  
2.4  精确计算 7 7 X~JLvN  
2.5  相干性 8 \naG  
2.6 参考文献 10 `I|Y7GoUO  
3  Essential Macleod的快速预览 10 +}-cvM/*  
4  Essential Macleod的特点 32 qX[C%  
4.1  容量和局限性 33 73nmDZO|  
4.2  程序在哪里? 33 bX%4[BKP  
4.3  数据文件 35 %a-fxV[  
4.4  设计规则 35 '@QK<!%,  
4.5  材料数据库和资料库 37 EScy!p\*  
4.5.1材料损失 38 yN#]Q}4  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 hH?ke(&=f  
4.5.2 材料库 41 ^#7&R"  
4.5.3导出材料数据 43 d _=44( -  
4.6  常用单位 43 PCKxo;bD  
4.7  插值和外推法 46 f+c{<fX  
4.8  材料数据的平滑 50 t$Ua&w  
4.9 更多光学常数模型 54 :3}K$  
4.10  文档的一般编辑规则 55 <(~geN  
4.11 撤销和重做 56 _9/Af1 X  
4.12  设计文档 57 CTX%~1 _`O  
4.10.1  公式 58 <2+FE/3L  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 t{ridA}  
4.10.3  沉积密度 59 x1#6~283  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ]RW*3X  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 rN {5^+w  
4.10.4  性能 61 xz/G$7q7  
4.10.5  保存设计和性能 64 ,=}+.ax  
4.10.6  默认设计 64 C[JPohm  
4.11  图表 64 @d[)i,d:G  
4.11.1  合并曲线图 67 @y# u!}  
4.11.2  自适应绘制 68 _1\H{x  
4.11.3  动态绘图 68 .noY[P 8i  
4.11.4  3D绘图 69 Lb2/ Te*  
4.12  导入和导出 73 UWBR5  
4.12.1  剪贴板 73 |Gb~[6u   
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 M""X_~&I"  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 072`i 46  
4.13  背景 77 mw=keY9]  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 jATN):8W  
4.15  生成Rugate 84 sJLJVSv8c  
4.16  参考文献 91 e(-Vp7vXG  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 {Hxziyv~Y(  
5.1  Jobs 92 5kj=Y]9\I  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ?)+I'lW!  
5.3  输入材料 94 Y{m1\s/o  
5.4  设计数据文件夹 95 sVIw'W  
5.5  默认设计 95 2wZyUB;  
6  细化和合成 97 7:S)J~s*O  
6.1  优化介绍 97 |F>'7JJJ  
6.2  细化 (Refinement) 98 T(eNK c2  
6.3  合成 (Synthesis) 100 g*:f#u5  
6.4  目标和评价函数 101 X57\sggK  
6.4.1  目标输入 102 8~h.i1L  
6.4.2  目标 103 )G9,5[  
6.4.3  特殊的评价函数 104 :WN*wd  
6.5  层锁定和连接 104 Q<Th*t   
6.6  细化技术 104 a 1pa#WC  
6.6.1  单纯形 105 0-A@X>6bs  
6.6.1.1 单纯形参数 106 q%}54E80  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 fYZ)5xnj  
6.6.2.1 Optimac参数 108 & Pzr)W(  
6.6.3  模拟退火算法 109 XiUae{j`  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 9xUAfU  
6.6.4  共轭梯度 111 p< jM%fbZk  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 lA7\c#  
6.6.5  拟牛顿法 112 r}])V[V  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 e@crM'R7Lo  
6.6.6  针合成 113 p\/;^c`7  
6.6.6.1 针合成参数 114 .^* .-8q  
6.6.7 差分进化 114 ^Zw1X6C5~  
6.6.8非局部细化 115 XhJbBVS|  
6.6.8.1非局部细化参数 115 i!EN/Bd  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 <al/>7z' O  
6.7.1  细化 116 ]W 6!Xw)[  
6.7.2  合成 117 "EC,#$e%ev  
6.8  参考文献 117 IG~d7rh"  
7  导纳图及其他工具 118 C)`y<O  
7.1  简介 118 WMd5Y`y  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 FQCz_ z  
7.2.1  四分之一波长规则 119 D[ (A`!)  
7.2.2  导纳图 120 ibskce{H  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 'I roQ M  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 IHtNaN )  
7.5  斜入射导纳图 141 ]l4# KI@  
7.6  对称周期 141 ue{0X\[P<  
7.7  参考文献 142 VKp4FiI6  
8  典型的镀膜实例 143 ^< O=<tN\  
8.1  单层抗反射薄膜 145 }*I:0"WH  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 OfGMeN6  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Y5Jrkr)k  
8.4  W-膜层 148  \>*B  
8.5  V-膜层 149 7ClN-/4  
8.6  V-膜层高折射基底 150 PF?tEw_WB  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 d@-bt s&3  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 d'Z  
8.9  四层抗反射薄膜 153 INj2B@_  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 U6@ j=|q  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >|22%YVX  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 \d#|n u  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 {  'Db  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 m#a0HH  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 J}cqBk>  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 SiyZq"  
8.17  1/4波长堆栈 162 CPCjY|w7   
8.18  陷波滤波器 163 0]3#3TH  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Ec^x  
8.20  褶皱 165 jNa'l<dn]  
8.21  消偏振分光器1 169 yH0BNz8V  
8.22  消偏振分光器2 171 {@c)!% 2$  
8.23  消偏振立体分光器 172 \]eB(&nq  
8.24  消偏振截止滤光片 173 QK3j.Ss  
8.25  立体偏振分束器1 174 $($26g  
8.26  立方偏振分束器2 177 ErNL^Se1  
8.27  相位延迟器 178 eS/4gM7%  
8.28  红外截止器 179 s*k[Fbi  
8.29  21层长波带通滤波器 180 AF}6O(C~  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ~;A36M-[.  
8.31  55层短波带通滤波器 182 q;p:)Q"  
8.32  47 红外截止器 183 l |c#  
8.33  宽带通滤波器 184 P<@V  
8.34  诱导透射滤波器 186 Lgh. 1foK  
8.35  诱导透射滤波器2 188 11s*C #  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 D/1f> sl  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ,s*-2Sz  
8.35  增益平坦滤波器 193 s6|Ev IVM  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Rs<li\GS  
8.39  啁啾反射镜2 198 G/:;Qig  
8.40  啁啾反射镜3 199 +&7D ;wj=  
8.41  带保护层的铝膜层 200 V uqJ&U.-  
8.42  增加铝反射率膜 201 !vB8Pk"  
8.43  参考文献 202 +p:#$R)MW  
9  多层膜 204 T(E$0a)#  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 G:HPd.ay  
9.2  内部透过率 204 0Y8Si^T  
9.3 内部透射率数据 205 U&uop$/Cq  
9.4  实例 206 J1Ay^*qRU  
9.5  实例2 210 DRC2U%[  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ([y2x.kd  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 $y\\ ?  
10  光学薄膜的颜色 216 Dl2`b">u  
10.1  导言 216 9 -\.|5;:  
10.2  色彩 216 f,'gQ5\ X3  
10.3  主波长和纯度 220 IXaF(2>  
10.4  色相和纯度 221 [/ B$cH  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 hP1H/=~  
10.6 色差 226 mT@8(  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 z3V[ Vi  
10.8  颜色渲染指数 234 K/+Y9JP9  
10.9  色差计算 235 %QW1?VVP  
10.10  参考文献 236 %z}{jqD&:X  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <g SZt\  
11.1  短脉冲 238 TmZ% ;TN  
11.2  群速度 239 L{py\4z'_  
11.3  群速度色散 241 +=v6 *%y"V  
11.4  啁啾(chirped) 245 H B}!Lf#*P  
11.5  光学薄膜—相变 245 " Zo<$p3]  
11.6  群延迟和延迟色散 246 0=3Av8  
11.7  色度色散 246 8Z{e/wnVF  
11.8  色散补偿 249 i/j DwA  
11.9  空间光线偏移 256 .Du-~N4\  
11.10  参考文献 258 3dlL?+Y#  
12  公差与误差 260 Q Q3a&  
12.1  蒙特卡罗模型 260 &Ff#E?Y4|  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 j:)"s_  
12.2.1  误差工具 267 5 *8 V4ca  
12.2.2  灵敏度工具 271 AATiI+\S  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >h?!6L- d  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ZK1H%&P=R  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 B:-qUuS?R  
12.3  参考文献 276 j06q3N"  
13  Runsheet 与Simulator 277 q2o`.f+I  
13.1  原理介绍 277 N,F mu  
13.2  截止滤光片设计 277 ^EK]z8;|  
14  光学常数提取 289 jea{BhdUr  
14.1  介绍 289 lr>P/W\  
14.2  电介质薄膜 289 8.9Z0  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ;7jszs.6%  
14.4  基底的参数提取 302 yfq Vx$YL  
14.5  金属的参数提取 306 zGDLF`  
14.6  不正确的模型 306 Q{s9{  
14.7  参考文献 311 `QpkD8  
15  反演工程 313 -@6R`m= >  
15.1  随机性和系统性 313 3#O R fr(  
15.2  常见的系统性问题 314 eXN\w]GE  
15.3  单层膜 314 k[{h$  
15.4  多层膜 314 =UGyZV:z5  
15.5  含义 319 N- !>\n  
15.6  反演工程实例 319 :gD=F&V  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 p_^Jr*Mv  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 /$w,8pV =  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 yK1@`3@?  
16.1  光学性质的热致偏移 329 m?Tv8-1  
16.2  应力工具 335 wZ&l6J4L  
16.3  均匀性误差 339 PV[ Bqt  
16.3.1  圆锥工具 339 fVb~j;  
16.3.2  波前问题 341 _6y#?8RMB  
16.4  参考文献 343 8dgi"/[3  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 0Nvk|uI V[  
17.1  引言 345 ]Alv5?E60  
17.2  操作数 345 reBAxmt   
18  如何在Function中编写脚本 351 })v`` +  
18.1  简介 351 ! MTmG/^  
18.2  什么是脚本? 351 [&Yrnkgr  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ^Z dDs8j  
18.4  基础 352 25 NTtj:X  
18.4.1  Classes(类别) 352 2=\} 0  
18.4.2  对象 352 7?U)V03  
18.4.3  信息(Messages) 352 ECZ`I Z.  
18.4.4  属性 352 <D_UF1Pk  
18.4.5  方法 353 5]-q.A5m  
18.4.6  变量声明 353 VLdQXNg9W"  
18.5  创建对象 354 0bl?dOV{  
18.5.1  创建对象函数 355 U*p;N,SjQ  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 k H.e"e  
18.5.3 丢弃对象 356 S.4gfY  
18.5.4  总结 356 ,/oqLI\  
18.6  脚本中的表格 357 WQJnWe   
18.6.1  方法1 357 {5GXN!f  
18.6.2  方法2 357 jDWmI% Y.  
18.7 2D Plots in Scripts 358 "!g}Q*   
18.8 3D Plots in Scripts 359 HX)oN8  
18.9  注释 360 pXoD*o b  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 4r+@7hnK  
18.11  一个更高级的脚本 362 |~+i=y  
18.12  <esc>键 364 R [qfG! "  
18.13 包含文件 365 uK6'TJ  
18.14  脚本被优化调用 366 43'!<[?x  
18.15  脚本中的对话框 368 3Fu5,H EJ  
18.15.1  介绍 368 fTq/9=Rq4  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 )z" .lw  
18.15.3  输入框函数 370 rf ?\s/#OY  
18.15.4  自定义对话框 371 {Xjj-@  
18.15.5  对话框编辑器 371 3 i*HwEh  
18.15.6  控制对话框 377 cF2!By3M  
18.15.7  更高级的对话框 380 hw @)W  
18.16 Types语句 384 d-rqZn}  
18.17 打开文件 385 TJO?BX_9  
18.18 Bags 387 D8rg:,'6  
18.13  进一步研究 388 99KW("C1F  
19  vStack 389 * ^+]`S  
19.1  vStack基本原理 389 Pg''>6w>  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 1_=I\zx(  
19.3  五棱镜 393 _spW~"|G  
19.4 光束距离 396 >WcOY7  
19.5 误差 399 6?BV J  
19.6  二向分色棱镜 399 T4JG5  
19.7  偏振泄漏 404 +lhjz*0  
19.8  波前误差—相位 405 Ib&]1ger#=  
19.9  其它计算参数 405 (i1q".  
20  报表生成器 406 ns&3Dh(IVP  
20.1  入门 406 l^cz&k=+  
20.2  指令(Instructions) 406 p=d,kY  
20.3  页面布局指令 406 59l9^<{A  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;"9$LHH*  
20.5  表格中的常见参数 408 .FdzEauVc  
20.6  迭代指令 408 VE $Kdo^  
20.7  报表模版 408 ty>9i]Y-  
20.8  开始设计一个报表模版 409 f;`7}7C  
21  一个新的project 413 Fy#7 <Hp  
21.1  创建一个新Job 414 '}N4SrU$  
21.2  默认设计 415 uBUT84i  
21.3  薄膜设计 416 @UK%l :L  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ]=%oBxWAP  
21.5  显色指数计算 422 :#zVF[Y(2  
21.6  电场分布 424 8=-/0y9,  
后记 426 c D5N'3  
 oB8LJZ;  
Jwtt&" c0.  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 [sXn B$  
+v)+ k  
《Essential Macleod中文手册》
}nK=~Wcu\  
;39~G T  
目  录 *K'#$`2  
X EL~y  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 [!S%nYs&8L  
第1章 介绍 ..........................................................1 1Xkl.FcFw  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 nkO4~p  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 6sQY)F7p  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 L$3{L"/   
第5章 软件结构 ............................................................... 21 jV.9d@EC  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 G Tz>}@W  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 =KW~k7TaN  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 !F08F>@D  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 j\\uW)ibG  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 O|mWQp^?q  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 q71V]!  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 tL\L4>^7T  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 P_F0lO  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 p7p6~;P  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 /ptG  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 (r-8*)Qh8  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 v VFT0_  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 rebWXz7  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 /y3Lc.-  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 C,) e7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 lbj_ if;  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 |H'wDw8  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Kwo0%2Onkd  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Is(ZVI  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 4Jk[X>I~  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 V`_)H  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 vxk~( 3]<)  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 b" kL)DL1L  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1