线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1087
时间地点 7mipj]  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 H]V@Q~?e  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 '!*,JG5_  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 =B9Ama   
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 0?} ),8v>  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 (0jT#&#  
Fp>iwdjFg  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ;Wa4d`K  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 a?bSMt}  
课程概要 8W$uw~|dw  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 lf4V; |!^  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 p._BG80  
课程大纲 hj@< wU  
1. Essential Macleod软件介绍 @= f2\hU  
1.1 介绍软件 t#tAvwFM8  
1.2 创建一个简单的设计 M>+FIb(  
1.3 绘图和制表来表示性能 T `x:80  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 *oAv:8"iY  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 0 e 1W&  
1.6 特定设计的公式技术 .LDK+c  
1.7 交互式绘图 ]J;pUH+u  
2. 光学薄膜理论基础 ">vxYi  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 0|<ER3xkx  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 pPt7M'uL"  
3. 材料管理 QXZjsa_|  
3.1 材料模型 L&$ X\\Lv^  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 s&MfC\  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 (q'w"qj  
3.4 基板光学常数的提取 +]^6&MqO  
4. 光学薄膜设计优化方法 KI~BjP\e  
4.1 参考波长与g [)V&$~xW  
4.2 四分之一规则 N S*e<9  
4.3 导纳与导纳图 dI'cZt~n  
4.4 斜入射光学导纳 qL kna  
4.5 光学薄膜设计的进展 <Cc}MDM604  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 BX :77?9,+  
4.6.1 优化目标设置 0PIiG-o9  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) /fCj;8T3o  
4.6.3 膜层锁定和链接 &{${Fq  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 b0 ))->&2  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 @+LkGrDP  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 OYKeu(=L  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 23XSQHVx  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 E6(OEC%,  
5.5 如何在Function中编写脚本 Afm GA9  
6. 光学薄膜系统案例 "L^Klk?Vn  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8 x$BbK  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 >5C|i-HX  
6.3 Stack应用范例说明 MNURYA=  
7. 薄膜性能分析 ^E_`M:~  
7.1 电场分布 ?3bUE\p  
7.2 公差与灵敏度分析 P?%kV  
7.3 反演工程 u/?s_OR  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 xE(VyyR  
8. 真空技术 {=Y%=^!s  
8.1 常用真空泵介绍 [ iE%P^  
8.2 真空密封和检漏 a1]@&D r  
9. 薄膜制备技术 ld58R  
9.1 常见薄膜制备技术 =C{)i@ +  
10. 薄膜制备工艺 8 1;QF_C  
10.1 薄膜制备工艺因素 g3~e#vdz  
10.2 薄膜均匀性修正技术 9Z}Y2:l'  
10.3 光学薄膜监控技术 4qq+7B  
11. 激光薄膜 jbx@ty  
11.1 薄膜的损伤问题 K5-wuD1  
11.2 激光薄膜的制备流程 $_s"16s  
11.3 激光薄膜的制备技术 fD1J@57  
12. 光学薄膜特性测量 @QiuCB  
12.1 薄膜光谱测量 P_11N9C  
12.2 薄膜光学常数测量 7FL!([S5i  
12.3 薄膜应力测量 'PW~4f/m  
12.4 薄膜损伤测量 y.6D Z  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 P,y*H_@k  
"&;>l<V  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
emp*j@9  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 rlSar$  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^Glmg}>q  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ((i%h^tGa;  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @]r,cPx0Y  
X`kTbIZ|  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
%00KOM:  
目录 \T)2J|mW  
Preface 1 _[ml<HW]  
内容简介 2 1fBj21zG  
目录 i df_hmkyj  
1  引言 1 I}JC~=`j  
2  光学薄膜基础 2 M0[7>N _  
2.1  一般规则 2 ~#/NpKHT@A  
2.2  正交入射规则 3 Ua^#.K  
2.3  斜入射规则 6 MY>mP  
2.4  精确计算 7 8,\toT7  
2.5  相干性 8 r}k2n s9  
2.6 参考文献 10 ??& Q"6Oe  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ,B|~V 3)(  
4  Essential Macleod的特点 32 jd<`W  
4.1  容量和局限性 33 " `rkp=  
4.2  程序在哪里? 33 V 8`o71p  
4.3  数据文件 35 bup)cX^  
4.4  设计规则 35 _ ;baZ-  
4.5  材料数据库和资料库 37 5 [{l9  
4.5.1材料损失 38 r;}%} /IX  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 P|,@En 1!  
4.5.2 材料库 41 13 `Or(>U  
4.5.3导出材料数据 43 A1Tk6i<F1  
4.6  常用单位 43 "G. L)oD  
4.7  插值和外推法 46 d:08@~#  
4.8  材料数据的平滑 50 e UMOV]h  
4.9 更多光学常数模型 54 f' |JLhs  
4.10  文档的一般编辑规则 55 %M"rc4Xd  
4.11 撤销和重做 56 v@_}R_pX  
4.12  设计文档 57 u#9H  
4.10.1  公式 58 cXM4+pa=%  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $['_m~ 2  
4.10.3  沉积密度 59 wrw4Uxq  
4.10.4 平行和楔形介质 60 m-V_J`9"  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 S]_iobWK  
4.10.4  性能 61 OV<'v%_&  
4.10.5  保存设计和性能 64 M<h2+0(il  
4.10.6  默认设计 64 a3t[Tk;  
4.11  图表 64 ;2Aqztp  
4.11.1  合并曲线图 67 [D/q  
4.11.2  自适应绘制 68 YN.[KQ(!  
4.11.3  动态绘图 68 zx:Qz  
4.11.4  3D绘图 69 h- )tWJ c  
4.12  导入和导出 73 WI@l2`X  
4.12.1  剪贴板 73 v|DgRPY  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ft |W  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 nPlg5&E  
4.13  背景 77 Y3%_IwSJ|  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Jz"Yb  
4.15  生成Rugate 84 1 Hw%DJ  
4.16  参考文献 91 0?@;zTE0  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 B?bdHO:E~  
5.1  Jobs 92 D==C"}J  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 l X g.`  
5.3  输入材料 94 -8Z;s8ACo  
5.4  设计数据文件夹 95 >;wh0dBe  
5.5  默认设计 95 bF_SD\/  
6  细化和合成 97 pZeJ$3@vk  
6.1  优化介绍 97 [S Jx\Os  
6.2  细化 (Refinement) 98 Y52f8qQq  
6.3  合成 (Synthesis) 100 94uAt&&b(  
6.4  目标和评价函数 101 } O:Y?Wq^  
6.4.1  目标输入 102 =r1-M.*a.M  
6.4.2  目标 103 EA# {N<  
6.4.3  特殊的评价函数 104 zDakl*  
6.5  层锁定和连接 104 tk]>\}%  
6.6  细化技术 104 qYba%g9RN(  
6.6.1  单纯形 105 !>E$2}Q|]  
6.6.1.1 单纯形参数 106 d8N{sT  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 l$1 ]  
6.6.2.1 Optimac参数 108 WdtZ{H  
6.6.3  模拟退火算法 109 GXk]u  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Sbzx7 *X  
6.6.4  共轭梯度 111 h*X5O h6  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 K9\r2w'T'  
6.6.5  拟牛顿法 112 ;T-`~  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 zCz"[9k  
6.6.6  针合成 113 3Gk\3iU!  
6.6.6.1 针合成参数 114 o5h*sQ9  
6.6.7 差分进化 114 h#:_GNuF  
6.6.8非局部细化 115 lf`" (:./  
6.6.8.1非局部细化参数 115 dbe\ YE  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 kleE\ 8_  
6.7.1  细化 116 Iu V7~w  
6.7.2  合成 117 _P}wO8  
6.8  参考文献 117 {JGXdp:SB  
7  导纳图及其他工具 118 7T69tQZ<  
7.1  简介 118 P 7`RAz  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 u{J\X$]  
7.2.1  四分之一波长规则 119 f%[0}.wp  
7.2.2  导纳图 120 }5b,u6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (C9{|T+h  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 k-jlYHsA  
7.5  斜入射导纳图 141 o;[cApiQ,2  
7.6  对称周期 141 R+&{lc  
7.7  参考文献 142 ']C" 'b  
8  典型的镀膜实例 143 P*!~Z *"  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ^ }kqAmr  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 VX6M4<8  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 *L{^em#b  
8.4  W-膜层 148 j=kz^o~mH  
8.5  V-膜层 149 !Bu=?gf  
8.6  V-膜层高折射基底 150 k*u4N  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 f^]^IXzXw.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Xh?J"kjof  
8.9  四层抗反射薄膜 153 "2_nN]%u-  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 k*ZYT6Z?  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 0Qr|!B:+9)  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 /Z1>3=G by  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 O*lMIWx  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 VJbn/5+P  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 f\u5=!kjN  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Yu+;vjbK-  
8.17  1/4波长堆栈 162 cv7.=*Kb;  
8.18  陷波滤波器 163 /P[@o  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 dUc?>#TU  
8.20  褶皱 165 WR zIK09@  
8.21  消偏振分光器1 169 } $oZZKS  
8.22  消偏振分光器2 171 1 ~s$<  
8.23  消偏振立体分光器 172 ;s^F:O  
8.24  消偏振截止滤光片 173 tGw QUn  
8.25  立体偏振分束器1 174 {fxytiH8  
8.26  立方偏振分束器2 177 '>Uip+'  
8.27  相位延迟器 178 [P3 Z"&  
8.28  红外截止器 179 g0 k{b  
8.29  21层长波带通滤波器 180 {C'9?4&  
8.30  49层长波带通滤波器 181 jRBKy8?[C  
8.31  55层短波带通滤波器 182 *@E&O^%cO  
8.32  47 红外截止器 183 ,R*YI  
8.33  宽带通滤波器 184 4"et4Y7  
8.34  诱导透射滤波器 186 F*_ytL  
8.35  诱导透射滤波器2 188 \Lz4ZZjSY  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 |IZFWZd  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 #eY?6Kjn  
8.35  增益平坦滤波器 193 }kF*I@:g  
8.38  啁啾反射镜 1 196 !{S HlS  
8.39  啁啾反射镜2 198 BDcA_= ^R&  
8.40  啁啾反射镜3 199 evE$$# 6R  
8.41  带保护层的铝膜层 200 !glGW[r/7  
8.42  增加铝反射率膜 201 &\5%C\0Z<  
8.43  参考文献 202 Eemk2>iP?  
9  多层膜 204 &d6  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 9$=o({  
9.2  内部透过率 204 oLc  
9.3 内部透射率数据 205 en8l:INX  
9.4  实例 206 ]}9D*V  
9.5  实例2 210 9t"/@CH{  
9.6  圆锥和带宽计算 212 EViDMp"  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 tW \q;_DSr  
10  光学薄膜的颜色 216 Ixr#zt$T-G  
10.1  导言 216 =P`l+k3  
10.2  色彩 216 %)}y[ (  
10.3  主波长和纯度 220 G0Wv=tX|  
10.4  色相和纯度 221 KF f6um  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 A08{]E#v>  
10.6 色差 226 q/3 )yG6s  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 8]A`WDO3  
10.8  颜色渲染指数 234 2@?\"kR"!  
10.9  色差计算 235 o]WG8Mo-  
10.10  参考文献 236 /F_(&H!m  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 !A#(bC  
11.1  短脉冲 238 0 ChdFf7  
11.2  群速度 239 9Fh1rZD<  
11.3  群速度色散 241 YnwP\Arfq  
11.4  啁啾(chirped) 245 95^-ptO{1`  
11.5  光学薄膜—相变 245 -n]E\"  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Y5\=5r/  
11.7  色度色散 246 )kt,E}609  
11.8  色散补偿 249 O_|p{65  
11.9  空间光线偏移 256 }NF7"tOL  
11.10  参考文献 258 {PQ!o^7y  
12  公差与误差 260 )jm u*D5N  
12.1  蒙特卡罗模型 260 &/{x7;e  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 hgI;^ia  
12.2.1  误差工具 267 I>%@[h,+  
12.2.2  灵敏度工具 271 tN&_f==e  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 FW,@.CX  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ehr,+GX  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 {+x;J4  
12.3  参考文献 276 S#f}mb0,  
13  Runsheet 与Simulator 277 . J.| S4D  
13.1  原理介绍 277 O K2|/y  
13.2  截止滤光片设计 277  FA#8  
14  光学常数提取 289 Z*M-PaU}  
14.1  介绍 289 ` EgO&;1D)  
14.2  电介质薄膜 289 :Wmio\  
14.3  n 和k 的提取工具 295 (  V H0+  
14.4  基底的参数提取 302 5d5q0bb  
14.5  金属的参数提取 306 +,A7XBn  
14.6  不正确的模型 306 NiO|Aki{  
14.7  参考文献 311 N83g=[  
15  反演工程 313 [;qZu`n>  
15.1  随机性和系统性 313 %N0cp@Vz  
15.2  常见的系统性问题 314 g@B,0JRh  
15.3  单层膜 314 # `b5kqQm  
15.4  多层膜 314 2kQa3Pan  
15.5  含义 319 q3$;lLsb;j  
15.6  反演工程实例 319 7) e#b  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 AZ& ]@Ao  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ?R\:6x<  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ey! {  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ~@N0$S  
16.2  应力工具 335 }5a$Ka-  
16.3  均匀性误差 339 Hsi<!g.  
16.3.1  圆锥工具 339 # vBS7ba  
16.3.2  波前问题 341 KvfZj  
16.4  参考文献 343 ,?ci+M)  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 7(1UXtT  
17.1  引言 345 " H; i Av  
17.2  操作数 345 LSN%k5G7.  
18  如何在Function中编写脚本 351 HE>sZ;  
18.1  简介 351 !>gu#Q{\-  
18.2  什么是脚本? 351 _ ZC[h~9H  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 eE-c40Bae  
18.4  基础 352 4.}J'3 .  
18.4.1  Classes(类别) 352 Lyj0$wbH`  
18.4.2  对象 352 &0QtHcXpR  
18.4.3  信息(Messages) 352 `1qM Sq  
18.4.4  属性 352 [Csv/  
18.4.5  方法 353 +\@WOs  
18.4.6  变量声明 353 ~f:jI1(}  
18.5  创建对象 354 3^J~ts{*  
18.5.1  创建对象函数 355 Vs~!\<?  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 L fx$M  
18.5.3 丢弃对象 356 GO=3<Q{;  
18.5.4  总结 356 {'R\C5 :D7  
18.6  脚本中的表格 357 @[(<oX%  
18.6.1  方法1 357 [!CIBK99  
18.6.2  方法2 357 E]26a,^L  
18.7 2D Plots in Scripts 358 QwL'5ws{q  
18.8 3D Plots in Scripts 359 K%/:V  
18.9  注释 360 H<bK9k)E  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 gjnTG:}}}+  
18.11  一个更高级的脚本 362 BO 3%p  
18.12  <esc>键 364 j,BiWgj$8  
18.13 包含文件 365 iQnIk| 8  
18.14  脚本被优化调用 366 XexslzI  
18.15  脚本中的对话框 368 {Y#$  
18.15.1  介绍 368 Z UCz-53  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 jQLiqi`  
18.15.3  输入框函数 370 x&PVsXdt5m  
18.15.4  自定义对话框 371 -F+dmI,1$  
18.15.5  对话框编辑器 371 Wu9))Ir  
18.15.6  控制对话框 377 l{b*YUsz>  
18.15.7  更高级的对话框 380 lqe71](sK8  
18.16 Types语句 384 t)hAD_sf  
18.17 打开文件 385 3vK,vu q  
18.18 Bags 387 qq1@v0  
18.13  进一步研究 388 #0wH.\79  
19  vStack 389 =TzmhX5  
19.1  vStack基本原理 389 4fp]z9Y  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 fX[6  {  
19.3  五棱镜 393 = rLL5<  
19.4 光束距离 396 t@1 bu$y  
19.5 误差 399 /y<nAGtD&  
19.6  二向分色棱镜 399 _RcFV  
19.7  偏振泄漏 404 E6FT*}Q  
19.8  波前误差—相位 405 0~0OQ/>7  
19.9  其它计算参数 405 [esR!})  
20  报表生成器 406 Im*~6[  
20.1  入门 406 PfKF!/c B  
20.2  指令(Instructions) 406 a~nErB  
20.3  页面布局指令 406 *tD`X( K  
20.4  常见的参数图和三维图 407 D)*OQLHW  
20.5  表格中的常见参数 408 &+Iv"9  
20.6  迭代指令 408 jQc.@^#+x  
20.7  报表模版 408 1VD8y_tC  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ?\D=DIN-r  
21  一个新的project 413 g)@d(EYY  
21.1  创建一个新Job 414 }#h>*+Q  
21.2  默认设计 415 |VPJaiC~  
21.3  薄膜设计 416 I3wv6xZ2  
21.4  误差的灵敏度计算 420 '8|y^\  
21.5  显色指数计算 422 \ &S-lsLY  
21.6  电场分布 424 kA1C&  
后记 426 '"/Yk=EmlU  
M_Qv{   
apxY2oE&  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 }wh sZ  
:GaK.W q  
《Essential Macleod中文手册》
T1&^IO-F7$  
E =7m@"0  
目  录 c< P ML|e  
?t JyQT  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ]tzO)c)w;  
第1章 介绍 ..........................................................1 JXBTd=r_oM  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 \~:Uj~  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 JGB 9Z   
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 )O~V3a  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 )t-Jc+*A>  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 { eU_  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ~fDMzOd  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 'K9{xI@N  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 0gEtEH+  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 M^E\L C  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 BV8-\R@  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 d? Old  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 )TmqE<[  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 <r{M(yZ?@  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 I,:R~^qJ8v  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 EPZ^I)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ![{>$Q?5  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 mF?GQls`  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 |"Rl_+d7D  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 "XU M$:D  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ZDI%?.U  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 bHi0N@W!vG  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 l|O)B #  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Dj~]]  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 <#hltPyh  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ^zMME*G  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 huu v`$~y  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 *f?z$46  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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