线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:905
时间地点 =&i#NSK  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 N:q\i57x  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 boq=@Qh  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 a]/KJn /B(  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 s0O]vDTR,H  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
Jmuyd\?,b  
特邀专家介绍 A.vf)hO  
Xub*i^(]  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ?9;CC]D  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 uUiS:Tp]  
课程概要 fK^W6)uuV  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 P;`Awp?  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 sW-0G$,|  
课程大纲 !r8_'K5R(  
1. Essential Macleod软件介绍 [vY#9W"!  
1.1 介绍软件 ;f~fGsH}e'  
1.2 创建一个简单的设计 uPq@6,+  
1.3 绘图和制表来表示性能 ppo0DC\>  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 x2sKj"2?@  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) [Tl66Eyl  
1.6 特定设计的公式技术 _NB*+HVo  
1.7 交互式绘图 78\j  
2. 光学薄膜理论基础 A`#?Bj   
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ?fN6_x2e3  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 &) 64:l&  
3. 材料管理 d>?C?F  
3.1 材料模型 3G[|4v?[<_  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 >8ryA$  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ,CI-IR2  
3.4 基板光学常数的提取 t.+)g-X  
4. 光学薄膜设计优化方法 $%^](-  
4.1 参考波长与g =w* 8   
4.2 四分之一规则 !Rc %  
4.3 导纳与导纳图 0 *;i]owV  
4.4 斜入射光学导纳 `Se2f0",  
4.5 光学薄膜设计的进展 r.'xqzF/  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 otdRz<C  
4.6.1 优化目标设置 \FUMfo^  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) YKz#,  
4.6.3 膜层锁定和链接 .*f 6n|  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Y=4 7se=h"  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Ims?  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 $/lM %yXe  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 qw$9i.Z  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 *;)O'|  
5.5 如何在Function中编写脚本 fgs@oaoZ  
6. 光学薄膜系统案例 EjFn\|VK  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 2WDe 34   
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 [-VK! 9pQ  
6.3 Stack应用范例说明 v)T# iw[  
7. 薄膜性能分析 h=S7Z:IaM  
7.1 电场分布 0 @!huk  
7.2 公差与灵敏度分析 D+v?zQw  
7.3 反演工程 ImG8v[Q E  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Q=8YAiCu  
8. 真空技术 Xy%||\P{)  
8.1 常用真空泵介绍 IIih9I`IR  
8.2 真空密封和检漏 =.7tS'  
9. 薄膜制备技术 5+11J[~{  
9.1 常见薄膜制备技术 yuy\T(7BN  
10. 薄膜制备工艺 ]\KVA)\  
10.1 薄膜制备工艺因素 h]h"-3  
10.2 薄膜均匀性修正技术 > SLQW  
10.3 光学薄膜监控技术 :o' |%JE  
11. 激光薄膜 &ocuZ -5`  
11.1 薄膜的损伤问题 } A+ncabm  
11.2 激光薄膜的制备流程 ?)J/uU2w  
11.3 激光薄膜的制备技术 }ymW};W  
12. 光学薄膜特性测量 rH!sImz,  
12.1 薄膜光谱测量 -yB}(69  
12.2 薄膜光学常数测量 A"ATtid  
12.3 薄膜应力测量 v@|<.  
12.4 薄膜损伤测量 HA8A}d~  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ]:#=[ CH  
CV\^gTPmx  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
"o+?vx-  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
h$kz3r;b,"  
内容简介 {j9TzR  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 bJetqF6 n  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 l99Lxgx=  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Gn=b_!  
_\KFMe= PV  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
)M.s<Y  
目录 gy%.+!4>v`  
Preface 1 =TDKU  
内容简介 2 ']TWWwj$  
目录 i eJTU'aX*   
1  引言 1 &muBSQ-  
2  光学薄膜基础 2 !DzeJWM|  
2.1  一般规则 2 8 7(t<3V&  
2.2  正交入射规则 3 WI4<2u;  
2.3  斜入射规则 6 w.w{L=p:<"  
2.4  精确计算 7 L4Zt4Yuw  
2.5  相干性 8 I{OizBom  
2.6 参考文献 10 V\Gs&>  
3  Essential Macleod的快速预览 10 QZ l#^-on  
4  Essential Macleod的特点 32 g}v](Q  
4.1  容量和局限性 33 !{r2`d09n)  
4.2  程序在哪里? 33 udqrHR5  
4.3  数据文件 35 KR#,6  
4.4  设计规则 35 !nSa4U,$w<  
4.5  材料数据库和资料库 37  >9!J?HA  
4.5.1材料损失 38 r@3-vLI!u  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 9 Gd6/2  
4.5.2 材料库 41 ##6\~!P  
4.5.3导出材料数据 43 T4] 2R  
4.6  常用单位 43 O3@DU#N&s  
4.7  插值和外推法 46 "G [Nb:,CR  
4.8  材料数据的平滑 50 a*y9@RC}  
4.9 更多光学常数模型 54 ;.uYWP|9  
4.10  文档的一般编辑规则 55 M !'d  
4.11 撤销和重做 56 >O?WRC B  
4.12  设计文档 57 8In\Jo$|q>  
4.10.1  公式 58 4HGT gS  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7. <jdp  
4.10.3  沉积密度 59 8{jXSCP#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ).^d3Kp  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 aO(PVS|P  
4.10.4  性能 61 E xhih^[_  
4.10.5  保存设计和性能 64 A,.X  
4.10.6  默认设计 64 D_d>A+  
4.11  图表 64 K khuPBd2  
4.11.1  合并曲线图 67 Mwnr4$]  
4.11.2  自适应绘制 68 OM[MRZEh G  
4.11.3  动态绘图 68 `-uE(qp  
4.11.4  3D绘图 69 !^% 3  
4.12  导入和导出 73 d <}'eBT'  
4.12.1  剪贴板 73 @}H u)HO  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 #gQn3.PX+y  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 'hjEd.  
4.13  背景 77 Jj\4P1|'7  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3[ [oAp  
4.15  生成Rugate 84 cF8  2wg  
4.16  参考文献 91 Rlewp8?LB  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 .2f vRN92  
5.1  Jobs 92 ie6 c/5  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Xj\ToO  
5.3  输入材料 94 @wcF#?J  
5.4  设计数据文件夹 95 ==[=Da~  
5.5  默认设计 95 b]]8Vs)'  
6  细化和合成 97 uI-T]N:W8x  
6.1  优化介绍 97 0(7 IsG=t  
6.2  细化 (Refinement) 98 '(5GR I<  
6.3  合成 (Synthesis) 100 m=01V5_  
6.4  目标和评价函数 101 BX?DI-o^h  
6.4.1  目标输入 102 *DPX4 P  
6.4.2  目标 103 *SNdU^!  
6.4.3  特殊的评价函数 104 h9Far8}  
6.5  层锁定和连接 104 TN0KS]^A3  
6.6  细化技术 104 eB5>uKa  
6.6.1  单纯形 105 p/<DR |  
6.6.1.1 单纯形参数 106 n4k q=Z%  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 M- ^I!C  
6.6.2.1 Optimac参数 108 &'z_:Wm  
6.6.3  模拟退火算法 109 zTg\\z;  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 AT"gRCU$4  
6.6.4  共轭梯度 111 3s%?)z  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ""-wM~^D  
6.6.5  拟牛顿法 112 0VNLhM(LM  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 X+;[Gc}(W  
6.6.6  针合成 113 \1<'XVS  
6.6.6.1 针合成参数 114 }Ja-0v)Wf  
6.6.7 差分进化 114 %4*c/ c6  
6.6.8非局部细化 115 63W;N7@  
6.6.8.1非局部细化参数 115 *2zp>(%  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Bg~]u+c*  
6.7.1  细化 116 XGSFG ~d  
6.7.2  合成 117 XZ%,h  
6.8  参考文献 117 A"JdG%t>.h  
7  导纳图及其他工具 118 1b9S";ct0  
7.1  简介 118 Fv~lasW[  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 q| D5 A|)  
7.2.1  四分之一波长规则 119 huC{SzXM  
7.2.2  导纳图 120 aoN\n]g  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [9">}l  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 zq};{~u(  
7.5  斜入射导纳图 141 Q VTL}AT2:  
7.6  对称周期 141 yzS^8,  
7.7  参考文献 142 ETHcZ  
8  典型的镀膜实例 143 N!K%aH~O  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Pm/<^z%  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 r{ R-X3s  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 MRLiiIrq,5  
8.4  W-膜层 148 jSem/;  
8.5  V-膜层 149 U<j5s\Y,  
8.6  V-膜层高折射基底 150 0/Q_% :  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 dtR"5TL<~}  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 h[remR# 3\  
8.9  四层抗反射薄膜 153 V+`kB3GV  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 VIp|U{  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g Q\.|'%  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 A^OwT#  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 |}G"^r  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 .RxTz9(  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ahl|N`  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 %> XsKXj  
8.17  1/4波长堆栈 162 xTAfV N  
8.18  陷波滤波器 163 1bV G%N  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Dd?G4xUG  
8.20  褶皱 165 oXG_6E!^  
8.21  消偏振分光器1 169 {>ba7-Cy+y  
8.22  消偏振分光器2 171 ~wa4kS<>  
8.23  消偏振立体分光器 172 .\XRkr'-  
8.24  消偏振截止滤光片 173 SP%X@~d  
8.25  立体偏振分束器1 174 |Rf j 0+  
8.26  立方偏振分束器2 177 WESD^FK  
8.27  相位延迟器 178  V(&L  
8.28  红外截止器 179 /]U$OP*0  
8.29  21层长波带通滤波器 180 5sY $  
8.30  49层长波带通滤波器 181 -gs I:-Xo  
8.31  55层短波带通滤波器 182 /!Rva"  
8.32  47 红外截止器 183 wC{sP"D  
8.33  宽带通滤波器 184 >j?5?J"  
8.34  诱导透射滤波器 186 oywiX@]~7  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Oa/^A-'Q  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 )g:5}+  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 d4b!  r  
8.35  增益平坦滤波器 193 0!\gK <,z  
8.38  啁啾反射镜 1 196 $wM..ee  
8.39  啁啾反射镜2 198 H9T~7e+  
8.40  啁啾反射镜3 199 k[x-O?$O@  
8.41  带保护层的铝膜层 200 q'jOI_b  
8.42  增加铝反射率膜 201 p\[!=ZXFr\  
8.43  参考文献 202 (pELd(*Ga  
9  多层膜 204 ?\\wLZ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 2U./ Yfk\  
9.2  内部透过率 204 Mq91HmC(@  
9.3 内部透射率数据 205 2O kID WcM  
9.4  实例 206 =CQfs6np:N  
9.5  实例2 210 2c Xae  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ci;2XLAM  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 NO*, }aeG  
10  光学薄膜的颜色 216 qJ;~ANwt  
10.1  导言 216 6m&GN4Ca  
10.2  色彩 216 Vg$d|m${  
10.3  主波长和纯度 220 E3wpC#[Q1  
10.4  色相和纯度 221 oywPPVxj  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 +`F(wk["m  
10.6 色差 226 "r6qFxY  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 1L <TzQ  
10.8  颜色渲染指数 234 wiI@DJ>E  
10.9  色差计算 235 *9n[ #2sM<  
10.10  参考文献 236 O<vBuD2  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Q h@Q6  
11.1  短脉冲 238 EeYL~ORdi  
11.2  群速度 239 WoXAOj%iW  
11.3  群速度色散 241 g+o$&'\  
11.4  啁啾(chirped) 245 8$-MUF,  
11.5  光学薄膜—相变 245 x)?V{YAL  
11.6  群延迟和延迟色散 246 %/2 ` u  
11.7  色度色散 246 e,OXngC  
11.8  色散补偿 249 t3$cX_  
11.9  空间光线偏移 256 S*Ea" vBA  
11.10  参考文献 258 6O/L~Z*t  
12  公差与误差 260 cs2-jbRn  
12.1  蒙特卡罗模型 260 `6rLd>=R  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 *$7^.eHfdd  
12.2.1  误差工具 267 :awa  
12.2.2  灵敏度工具 271 TY]0aw2]|7  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 \B')2phE  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 g(P7CX+y  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 }<G a e5  
12.3  参考文献 276 "pt[Nm76)8  
13  Runsheet 与Simulator 277 |e8A)xM]wC  
13.1  原理介绍 277 1<9d[N*  
13.2  截止滤光片设计 277 ok--Jyhv#  
14  光学常数提取 289 -F`gRAr-  
14.1  介绍 289 ,U9j7E<4  
14.2  电介质薄膜 289 y6am(ugE  
14.3  n 和k 的提取工具 295 v_5O*F7)  
14.4  基底的参数提取 302 A#$l;M.3R  
14.5  金属的参数提取 306 f.ua,,P.  
14.6  不正确的模型 306 h6~xz0,u  
14.7  参考文献 311 0of:tZU  
15  反演工程 313 UVXruH  
15.1  随机性和系统性 313 70avr)OM  
15.2  常见的系统性问题 314 @{V`g8P>  
15.3  单层膜 314 %w_MRC  
15.4  多层膜 314 y2%[/L: u~  
15.5  含义 319 >$}Mr%49  
15.6  反演工程实例 319 <!dZ=9^^ 1  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 W[QgddR  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 MeD/)T{G~  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 nkq{_;xp  
16.1  光学性质的热致偏移 329 >o"s1* {  
16.2  应力工具 335 wB8548C}-  
16.3  均匀性误差 339 +2E~=xX  
16.3.1  圆锥工具 339 "j%Gr :a  
16.3.2  波前问题 341 #d8]cm=  
16.4  参考文献 343 34k(:]56|  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 mC ]Krnx  
17.1  引言 345 _u-tRHh|A  
17.2  操作数 345 v 'L"sgW6I  
18  如何在Function中编写脚本 351 gd3MP^O1  
18.1  简介 351 @ &c@  
18.2  什么是脚本? 351 Gyu =}  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 M|{KQ3q:9  
18.4  基础 352 7TX$  
18.4.1  Classes(类别) 352 #\~m}O,  
18.4.2  对象 352 ;|rFP  
18.4.3  信息(Messages) 352 -b%' K}.C  
18.4.4  属性 352 U&kdR+dB  
18.4.5  方法 353 *[nS*D\:  
18.4.6  变量声明 353 cL %eP.  
18.5  创建对象 354 -}qay@cDt  
18.5.1  创建对象函数 355  mznE Cy  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 o) eW5s,6  
18.5.3 丢弃对象 356 Xa8_kv_  
18.5.4  总结 356 v]drDVJ   
18.6  脚本中的表格 357 IL8&MA%  
18.6.1  方法1 357 1i Y?t  
18.6.2  方法2 357 i/N68  
18.7 2D Plots in Scripts 358 aLevml2:T  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ,J*#Ixe}  
18.9  注释 360 "(F:'J} X  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 USf;}F:-C  
18.11  一个更高级的脚本 362 tG,xG&  
18.12  <esc>键 364 arPqVMVr  
18.13 包含文件 365 K!jau|FS  
18.14  脚本被优化调用 366 M>Ws}Y  
18.15  脚本中的对话框 368 5tb i};  
18.15.1  介绍 368 9 LEUj  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ELV$!f|u  
18.15.3  输入框函数 370 MM+nE_9lV  
18.15.4  自定义对话框 371 z81`Lhg6  
18.15.5  对话框编辑器 371 ilj9&.isB  
18.15.6  控制对话框 377 0w^awT<$6  
18.15.7  更高级的对话框 380 \]/ 6>yT  
18.16 Types语句 384 YF");itH  
18.17 打开文件 385 ~i@Z4t j7  
18.18 Bags 387 j"+R*H(#  
18.13  进一步研究 388 2L2)``*   
19  vStack 389 )vur$RX  
19.1  vStack基本原理 389 YKj P E  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 oX]c$<w5  
19.3  五棱镜 393 }WkR-5N  
19.4 光束距离 396 bF3}L=z  
19.5 误差 399 BI)$aR  
19.6  二向分色棱镜 399 gJn_8\,C>Q  
19.7  偏振泄漏 404 i*vf(0G  
19.8  波前误差—相位 405 v/Ei0}e6~  
19.9  其它计算参数 405 tdRnRoB  
20  报表生成器 406 nIP*yb}5  
20.1  入门 406 _EZrZB  
20.2  指令(Instructions) 406 0/%VejZ'  
20.3  页面布局指令 406 H"g p  
20.4  常见的参数图和三维图 407 b!|c:mE9|  
20.5  表格中的常见参数 408 8-R; &  
20.6  迭代指令 408 HQ8;d9cGir  
20.7  报表模版 408 xqzdXL}  
20.8  开始设计一个报表模版 409 $5l=&  
21  一个新的project 413 "^iw {]~U  
21.1  创建一个新Job 414 ^RS`q+g  
21.2  默认设计 415 Pd<>E*>}c.  
21.3  薄膜设计 416 F0FF:><  
21.4  误差的灵敏度计算 420 w+owx(mN@  
21.5  显色指数计算 422 5AT[1@H(_  
21.6  电场分布 424 O7RW*V:G@  
后记 426 $'VFb=?XrK  
ugt|'i  
t7DT5SrR  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 0l ]K%5#  
VSt)~  
《Essential Macleod中文手册》
UYb:q  
Hlq#X:DCn  
目  录 '`Z5 .<n7p  
7l3sd5  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 F .JvMy3  
第1章 介绍 ..........................................................1 B[O1^jdO  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 i~6qOlLD-  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 F&lvofy23  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 +Te;LJP  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 tcf>9YsOr  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 9rmOf Jo:  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 x, ^j=n  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ceR zHq=  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 g k[8'  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 v5GV"qY  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 9q -9UC!g  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 w+~s}ta2^  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 x;Jy-hMNl  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 J_A5,K*r|  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 0Y9\,y_  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 FHS6Mk26  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 0)'^vJe  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 /r Hd9^Y  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 /-l7GswF  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 0ZXG{Gp9S  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 K Zw"?%H[  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 m. G}# /  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 M38QA  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 iC`K$LY4W  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 afcI5w;>}  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 io$!z=W  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 h$FpH\-  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ~g+?]Lk}  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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