线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:954
时间地点 !qQl@j O  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 d'gfQlDny  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 *8A  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 tKuwpT1Qc  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 DCO\c9  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 Dj?> <@  
HyQJXw?A:  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 e2Pcm_Ahv*  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 Wis~$"  
课程概要 net@j#}j-  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 a.\:T,cP>  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 G_8RK,H.  
课程大纲 < NY^M!  
1. Essential Macleod软件介绍 !*&V- 4  
1.1 介绍软件 SHxNr(wJ<Q  
1.2 创建一个简单的设计 Lg+Ac5y}`  
1.3 绘图和制表来表示性能 1-uxC^u?|#  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 pU}(@oy  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 7F7 {)L  
1.6 特定设计的公式技术 :pY/-Cgv  
1.7 交互式绘图 ;`4&Rm9n?  
2. 光学薄膜理论基础 Rok7n1gW  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 [S%_In   
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 NNR`!Pty  
3. 材料管理 | j`@eF/"  
3.1 材料模型 I_#kgp  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 -0 a/$h  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 49c:V,  
3.4 基板光学常数的提取 <al(7  
4. 光学薄膜设计优化方法 Sv#XIMw{,  
4.1 参考波长与g SM#]H-3  
4.2 四分之一规则 lv<*7BCp  
4.3 导纳与导纳图 Zn+.;o)E<  
4.4 斜入射光学导纳 rU:`*b<  
4.5 光学薄膜设计的进展 uBKgcpvTs  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 aiUY>M#|  
4.6.1 优化目标设置 #Y`~(K47  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Fnv;^}\z  
4.6.3 膜层锁定和链接 (N6i4 g6  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 %lhEM}Sm  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Lx1FpHo  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 k,6f &#x  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 @})|Z}~  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 xC:L)7#aw  
5.5 如何在Function中编写脚本 ::lKL  
6. 光学薄膜系统案例 GW@;}m(  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 L#?Ek-  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 X/!o\yyT  
6.3 Stack应用范例说明 F#Ryu~,"  
7. 薄膜性能分析 -HbC!w v  
7.1 电场分布 6r0krbN  
7.2 公差与灵敏度分析 %P/Jq#FE .  
7.3 反演工程 _ QI\  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 BLdvyVFx  
8. 真空技术 l"T44CL;  
8.1 常用真空泵介绍 'RR~7h  
8.2 真空密封和检漏 k68T`Ub\W6  
9. 薄膜制备技术 B\=8_z  
9.1 常见薄膜制备技术 OA1uY83"  
10. 薄膜制备工艺 u;"TTN  
10.1 薄膜制备工艺因素 Lc,Pom  
10.2 薄膜均匀性修正技术 KnQ*vM*VM  
10.3 光学薄膜监控技术 3?9IJ5p  
11. 激光薄膜 RDi]2  
11.1 薄膜的损伤问题 ~s*)f.l  
11.2 激光薄膜的制备流程 NjScc%@y  
11.3 激光薄膜的制备技术 ,/%=sux  
12. 光学薄膜特性测量 +b<FO+E_  
12.1 薄膜光谱测量 ;>yxNGV`  
12.2 薄膜光学常数测量 y/{fX(aV  
12.3 薄膜应力测量  2DtM20<>  
12.4 薄膜损伤测量 - >-KCd1b  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 kQSy+q  
mt{nm[D!Xp  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 =_2jK0+}l  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^z IW+:  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 O)*+="Rg  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HGs $*  
4#xDgxg\f  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
 I<mV+ex  
目录 TH&U j1  
Preface 1 n u[ML  
内容简介 2 L-WT]&n_  
目录 i m@2QnA[ 4  
1  引言 1 Smn;(K  
2  光学薄膜基础 2 Uw. `7b>B  
2.1  一般规则 2 Nho>f  
2.2  正交入射规则 3 >}8j+t&T  
2.3  斜入射规则 6 rdP[<Y9  
2.4  精确计算 7 {_[N<U:QT&  
2.5  相干性 8 iDp)FQ$  
2.6 参考文献 10 x7&B$.>3  
3  Essential Macleod的快速预览 10 dO<ERY  
4  Essential Macleod的特点 32 HZC"nb}r4  
4.1  容量和局限性 33 {yHCXFWlS  
4.2  程序在哪里? 33 QvlObEhcS  
4.3  数据文件 35 ghG**3xr  
4.4  设计规则 35 rNWw?_H-H(  
4.5  材料数据库和资料库 37 zm5]J  
4.5.1材料损失 38 .+3g*Dv{&  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 1 ~Y<//5E  
4.5.2 材料库 41 qs6]-  
4.5.3导出材料数据 43 :Uzm  
4.6  常用单位 43 D rUO-  
4.7  插值和外推法 46 &tLgG4pd  
4.8  材料数据的平滑 50 d9f C<Tp  
4.9 更多光学常数模型 54 y| i,|  
4.10  文档的一般编辑规则 55 nLZTK&7}  
4.11 撤销和重做 56 _~l5u8{^6  
4.12  设计文档 57 f;o5=)Y  
4.10.1  公式 58 {l1.2!  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 .Ni\\  
4.10.3  沉积密度 59 TCwFPlF|  
4.10.4 平行和楔形介质 60 X; \+<LE  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 BQE|8g'&T  
4.10.4  性能 61 ~*&H$6NJS  
4.10.5  保存设计和性能 64 n?!">G  
4.10.6  默认设计 64 ar!R|zmf  
4.11  图表 64 bQg:zww  
4.11.1  合并曲线图 67 ~?Qe?hB  
4.11.2  自适应绘制 68 *SbMqASv4G  
4.11.3  动态绘图 68 h,u, ^ r  
4.11.4  3D绘图 69 UJAv`yjG  
4.12  导入和导出 73 Db}j?ik/  
4.12.1  剪贴板 73 Xv5wJlc!d  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 mW(W\'~_~  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ]3],r?-tJ  
4.13  背景 77 p?%y82E  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wj$<t'MN  
4.15  生成Rugate 84 8`B3;Zmm  
4.16  参考文献 91 36&e.3/#  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 q.^;!f1  
5.1  Jobs 92 Mlg0WrJ|2  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 .GP T!lDc  
5.3  输入材料 94 Y|F9}hj(  
5.4  设计数据文件夹 95 5,lEx1{_  
5.5  默认设计 95 X Swl Tg  
6  细化和合成 97 7?!d^$B  
6.1  优化介绍 97 9]([\%)  
6.2  细化 (Refinement) 98  c(f  
6.3  合成 (Synthesis) 100 bivuqKA  
6.4  目标和评价函数 101 Drgv`z  
6.4.1  目标输入 102 'A=^Se`=  
6.4.2  目标 103 ,GhS[VJjR  
6.4.3  特殊的评价函数 104 UawyDs  
6.5  层锁定和连接 104 lV3x*4O=  
6.6  细化技术 104 $t'MSlF  
6.6.1  单纯形 105 \j}ZB<.>  
6.6.1.1 单纯形参数 106 d=$Mim  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ^qvZXb  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $lfn(b,  
6.6.3  模拟退火算法 109 $D~0~gn~  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 >W=,j)MA  
6.6.4  共轭梯度 111 DZ 3wCLQtK  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 13$%,q)  
6.6.5  拟牛顿法 112 I;,77PxD  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [: n'k  
6.6.6  针合成 113 t9GR69v:?  
6.6.6.1 针合成参数 114 xA2YG|RU=b  
6.6.7 差分进化 114 kr^P6}'  
6.6.8非局部细化 115 B-Ll{k^  
6.6.8.1非局部细化参数 115 .O5Z8 p  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 *2>&"B09`  
6.7.1  细化 116 7J D' )  
6.7.2  合成 117 WH#1 zv  
6.8  参考文献 117 8?B!2  
7  导纳图及其他工具 118 dK$XNi13.5  
7.1  简介 118 &)# ihK_  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 R^8o^z['6u  
7.2.1  四分之一波长规则 119 k{R>  
7.2.2  导纳图 120 IEL%!RFG  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ^lnK$i  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 58}U^IW  
7.5  斜入射导纳图 141 XFVE>/H  
7.6  对称周期 141 \S `:y?[Y  
7.7  参考文献 142 x xHY+(m  
8  典型的镀膜实例 143 Z\bmW%av  
8.1  单层抗反射薄膜 145 w8")w*9Lmg  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 XAD- 'i  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D%[mWc@1I  
8.4  W-膜层 148 ih-#5M@  
8.5  V-膜层 149 CCs%%U/=  
8.6  V-膜层高折射基底 150 )J o: pkM  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 <`8n^m*  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 o*+"|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 (R,#a *CV  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 nmee 'oEw  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \Gef \   
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Ko| d+  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 np|Sy;:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 yt+L0wzzB  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 r5S[-`s;  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^)/0yB  
8.17  1/4波长堆栈 162 ?.m bK  
8.18  陷波滤波器 163 + )AG*  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 d(ZO6Nr Q  
8.20  褶皱 165 7(1|xYCx$  
8.21  消偏振分光器1 169 LRxZcxmy  
8.22  消偏振分光器2 171 udK%>  
8.23  消偏振立体分光器 172 !NK1MU?T)  
8.24  消偏振截止滤光片 173 : g7@PJND  
8.25  立体偏振分束器1 174 (' (K9@}  
8.26  立方偏振分束器2 177 *xAqnk   
8.27  相位延迟器 178 B&M%I:i  
8.28  红外截止器 179 1 &jc/*Z"  
8.29  21层长波带通滤波器 180 \k7"=yx  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ,C\i^>=  
8.31  55层短波带通滤波器 182 #Qw0&kM7I  
8.32  47 红外截止器 183 ^ 'MT0j  
8.33  宽带通滤波器 184 olB.*#gA  
8.34  诱导透射滤波器 186 +%z> H"J.  
8.35  诱导透射滤波器2 188 kM l+yli3c  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 tn\yI!a  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Pjf"CW+A  
8.35  增益平坦滤波器 193 G6Axs1a  
8.38  啁啾反射镜 1 196 zy?|ODM  
8.39  啁啾反射镜2 198 6xmZXp d!  
8.40  啁啾反射镜3 199 98c(<  
8.41  带保护层的铝膜层 200 PA{PD.4Du  
8.42  增加铝反射率膜 201 [-1^-bb  
8.43  参考文献 202 l+K'beP  
9  多层膜 204 D(op)]8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 biD$qg  
9.2  内部透过率 204 T3.&R#1M8-  
9.3 内部透射率数据 205 S&5&];Ag  
9.4  实例 206 HQ_Ok `  
9.5  实例2 210 aH(J,XY  
9.6  圆锥和带宽计算 212 f1RWP@iar  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 wD}l$ & +  
10  光学薄膜的颜色 216 Vi$~-6n&  
10.1  导言 216 bTNgjc  
10.2  色彩 216 JPI3[.o  
10.3  主波长和纯度 220 yf.~XUk^  
10.4  色相和纯度 221 / y40(l?  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 G^|:N[>B  
10.6 色差 226 Pl06:g2I  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 6dr%;Wp  
10.8  颜色渲染指数 234 e`_LEv  
10.9  色差计算 235 V]6dscQ  
10.10  参考文献 236 <]t%8GB2V  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 z]y.W`i   
11.1  短脉冲 238 K=Z|/Kkh  
11.2  群速度 239 `:fZ)$sY  
11.3  群速度色散 241 %)8}X>xq  
11.4  啁啾(chirped) 245 ./Zk`-OBT  
11.5  光学薄膜—相变 245 LKB$,pR~1l  
11.6  群延迟和延迟色散 246 CJx|?yK2  
11.7  色度色散 246 Xf]d. :  
11.8  色散补偿 249 9MJG;+B~  
11.9  空间光线偏移 256 qH>d  
11.10  参考文献 258 ;%9|k U  
12  公差与误差 260 3AtGy'NTp  
12.1  蒙特卡罗模型 260 "Qc7dRmSxm  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ?pmHFlx  
12.2.1  误差工具 267 (_]~wi-,  
12.2.2  灵敏度工具 271 R$<&ie6UQ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 9d659i C  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Xza(k  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ifQ*,+@fxR  
12.3  参考文献 276 kd(8I_i@  
13  Runsheet 与Simulator 277 ORw,)l  
13.1  原理介绍 277 DU'`ewLL7  
13.2  截止滤光片设计 277 lIS-4QX1  
14  光学常数提取 289 H[$"+&q  
14.1  介绍 289 !>&o01i  
14.2  电介质薄膜 289 nPl?K:(  
14.3  n 和k 的提取工具 295 C`9+6T  
14.4  基底的参数提取 302 ` p-cSxR_  
14.5  金属的参数提取 306 9wwqcx)3(  
14.6  不正确的模型 306 s~g *@K>+  
14.7  参考文献 311 u'DRN,h+  
15  反演工程 313 0RLg:SV  
15.1  随机性和系统性 313 }B+C~@j  
15.2  常见的系统性问题 314 lvz7#f L~  
15.3  单层膜 314 Y eo]]i{  
15.4  多层膜 314 %s|Ely)  
15.5  含义 319 \'D0'\:vz  
15.6  反演工程实例 319 hx%v+/  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 mxC;?s;~  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ]neex|3lG  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 k$R-#f;  
16.1  光学性质的热致偏移 329 #OD/$f_  
16.2  应力工具 335 K7:)nv E  
16.3  均匀性误差 339 a~}OZ&PG  
16.3.1  圆锥工具 339 E,U+o $  
16.3.2  波前问题 341 & G4\2l9  
16.4  参考文献 343 JIOR4'9  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 pJ"qu,w  
17.1  引言 345 ]72`};  
17.2  操作数 345 [EXs  
18  如何在Function中编写脚本 351 Ckuh:bs  
18.1  简介 351 BLiF 5  
18.2  什么是脚本? 351 ]MitOkX  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 [!#L6&:a8  
18.4  基础 352 6iE<T&$3P  
18.4.1  Classes(类别) 352 Hk.TM2{w  
18.4.2  对象 352 /]Md~=yNp  
18.4.3  信息(Messages) 352 u?(d gJ  
18.4.4  属性 352 Vaw+.sG`AP  
18.4.5  方法 353 9vc2VB$  
18.4.6  变量声明 353 k9 I%PH  
18.5  创建对象 354 G@X% +$I  
18.5.1  创建对象函数 355 H=vUYz  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 f+)L#>Gl?  
18.5.3 丢弃对象 356 L48_96  
18.5.4  总结 356 xr Jg\to{i  
18.6  脚本中的表格 357 ,m|h<faZL  
18.6.1  方法1 357 F/kWHVHU[  
18.6.2  方法2 357 8^1 Te m  
18.7 2D Plots in Scripts 358 YZ8>OwQz2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 oY3;.;'bk  
18.9  注释 360 )g%d:xI  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 O-hAFKx  
18.11  一个更高级的脚本 362 2-v%`fA  
18.12  <esc>键 364 |3"KK  
18.13 包含文件 365 %pL''R9VF  
18.14  脚本被优化调用 366 Q\7h`d%)  
18.15  脚本中的对话框 368 #r\4sVg  
18.15.1  介绍 368 #f]SK[nR  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 16(QR-  
18.15.3  输入框函数 370 >@_^fw)  
18.15.4  自定义对话框 371 2-EIE4ds  
18.15.5  对话框编辑器 371 E4/Dr}4  
18.15.6  控制对话框 377 Ioa$51&  
18.15.7  更高级的对话框 380 3,qr-g|;jM  
18.16 Types语句 384 ~HsJUro  
18.17 打开文件 385 nMUw_7Y6  
18.18 Bags 387 iz PDd{[  
18.13  进一步研究 388 d^ 8ZeC#  
19  vStack 389 j6 z^Tt12  
19.1  vStack基本原理 389 ?NsW|w_  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 _Q4)X)F  
19.3  五棱镜 393 ndMA-`Ny,  
19.4 光束距离 396 7[XRd9a5(  
19.5 误差 399  d{3QP5  
19.6  二向分色棱镜 399 &B1WtW  
19.7  偏振泄漏 404 9qzHS~l  
19.8  波前误差—相位 405 Feq]U?  
19.9  其它计算参数 405 \Uq(Zga4)  
20  报表生成器 406 &}B|"s[  
20.1  入门 406 [waIi3Dv\  
20.2  指令(Instructions) 406 "@0]G<H  
20.3  页面布局指令 406 m&&m,6``P  
20.4  常见的参数图和三维图 407 . 3T3E X|G  
20.5  表格中的常见参数 408 hhc,uJ">!  
20.6  迭代指令 408 VuZuS6~#J  
20.7  报表模版 408 ;iL#7NG-R  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Fywv  
21  一个新的project 413 /@TF5]Ri  
21.1  创建一个新Job 414 BUXpC xQ  
21.2  默认设计 415 'zuIBOH`j3  
21.3  薄膜设计 416 s9DYi~/,  
21.4  误差的灵敏度计算 420 w_K1]<Q*  
21.5  显色指数计算 422 fuf"Ae  
21.6  电场分布 424 vV-`jsq20H  
后记 426 Txb#C[`  
~V1E0qdAE  
sS'm!7*(3  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 GH$pKB  
!wh8'X*  
《Essential Macleod中文手册》
RQ" ,3.R==  
5K8^WK  
目  录 ~dTrf>R8M  
 S9FE  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 u <v7;dF|s  
第1章 介绍 ..........................................................1 /!XVHkX[  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 mtcw#D  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Si;H0uPO  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 7n<::k\lb  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 P8/0H(,  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 #BH*Z(  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 R`E~ZWC4V  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 wgGl[_)  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 uiR8,H9*M  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 |[b{)s?x  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 |z^^.d~a0  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 p947w,1![  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 )|# sfHv7  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 LG#t<5y~  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 #5o(h+w)  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 bq0zxg%  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 f x+/C8GK  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 A_q3KB!$=+  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Ao&"r[oJSv  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 q9s=~d7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 G2: agqL/  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 NyNXP_8  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 p9{mS7R9T  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 C,|,-CY  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 =fFP5e ['  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 d5:c^`  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 IyG}H}  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 > /caXvS  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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