线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1308
时间地点 f~nt!$  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ) Zo_6%  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 /I'u/{KB  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 -MU.Hu  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 6F.7Ws <  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
<3=qLm  
特邀专家介绍 &v5.;8u+OV  
9<h]OXv  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ikN!ut  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 X2dc\v.x  
课程概要 Wk#h,p3  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。  G].__]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 tQ/ #t<4D  
课程大纲 aq+IC@O  
1. Essential Macleod软件介绍 yISQYvSN  
1.1 介绍软件 E? eWv)//  
1.2 创建一个简单的设计 %=9yzIjbAt  
1.3 绘图和制表来表示性能 x X/s1(P  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 :q64K?X  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 1Dya?}3  
1.6 特定设计的公式技术 5 k%9>U%$  
1.7 交互式绘图 X";Z Up  
2. 光学薄膜理论基础 !Nl.Vb  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 h@;)dLo0z  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ;=+Zw1/g  
3. 材料管理 $@_t5?n``F  
3.1 材料模型 I+"?,Ej$K  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 .^~l_ LkA  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 xDGS`U  
3.4 基板光学常数的提取 n5+S"  
4. 光学薄膜设计优化方法 4s~HfxYT  
4.1 参考波长与g QhX C>)PW  
4.2 四分之一规则 daB l%a=  
4.3 导纳与导纳图 \} Acq;  
4.4 斜入射光学导纳 6L,lq;  
4.5 光学薄膜设计的进展 9Ue7 ~"=  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 l^ 0_> R  
4.6.1 优化目标设置 yw.~trF&%  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ^{*f3m/  
4.6.3 膜层锁定和链接 u-QO>3oY6  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 !/6\m!e|1R  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 UiR,^/8ED  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ,<$YVXe/  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 wD6!#t k  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 _2m[(P9d  
5.5 如何在Function中编写脚本 7"F|6JP"$c  
6. 光学薄膜系统案例 w}j6 .r  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %l:|2s:  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 &{zwM |Q@?  
6.3 Stack应用范例说明 PW*;Sp  
7. 薄膜性能分析 NFY|^*bll  
7.1 电场分布 w53z*l>ek  
7.2 公差与灵敏度分析 g=xv+e  
7.3 反演工程 t{Hh&HX  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 "*w)puD  
8. 真空技术 \5Vp6^  
8.1 常用真空泵介绍 < TR/ `  
8.2 真空密封和检漏 ik2- OM  
9. 薄膜制备技术 `RL,ZoYuu  
9.1 常见薄膜制备技术 V$dJmKg  
10. 薄膜制备工艺 2cCWQ"_,  
10.1 薄膜制备工艺因素 Km)X_}|  
10.2 薄膜均匀性修正技术 4= Tpi`  
10.3 光学薄膜监控技术 5pRY&6So  
11. 激光薄膜 s(AJkO'`  
11.1 薄膜的损伤问题 (Qk&g"I  
11.2 激光薄膜的制备流程 731h ~x!u  
11.3 激光薄膜的制备技术 H(15vlOD  
12. 光学薄膜特性测量 Ecxj9h,S  
12.1 薄膜光谱测量 -F"d0a,  
12.2 薄膜光学常数测量 R}DX(T,K  
12.3 薄膜应力测量 YH[XRUa  
12.4 薄膜损伤测量 uxa=KM1H  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 4%wq:y< )/  
%K h2E2Pe  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
rI0)F  
内容简介  VQ`,#`wV  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 >Hi h  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 h?0F-6z  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 5<89Af&&K8  
;>9OgO  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
s$DGd T)  
目录 umQi  
Preface 1 gyi)T?uS)  
内容简介 2 >0PUWr$8  
目录 i yp=|7  
1  引言 1 aS,a_b]  
2  光学薄膜基础 2 0VzXDb>`  
2.1  一般规则 2 2m_'z  
2.2  正交入射规则 3 :T_'n,  
2.3  斜入射规则 6 8 +"10q-  
2.4  精确计算 7 *(k%MTG  
2.5  相干性 8 F9MR5O"  
2.6 参考文献 10 0Tcz[$?  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Ptx,2e&Hq  
4  Essential Macleod的特点 32 oW^k7 #<e}  
4.1  容量和局限性 33 Q0pzW:=s]  
4.2  程序在哪里? 33 i90}Xyt  
4.3  数据文件 35 aH%ZetLNJ  
4.4  设计规则 35 #2\8?UPd  
4.5  材料数据库和资料库 37 0$tjNy e  
4.5.1材料损失 38 dCE\^q[{  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Oe/6.h?  
4.5.2 材料库 41 Iz#yQ`  
4.5.3导出材料数据 43 VCjq3/[_  
4.6  常用单位 43 #(6) ^ (  
4.7  插值和外推法 46 }2l O _i}L  
4.8  材料数据的平滑 50 2B-.}OJ  
4.9 更多光学常数模型 54 *B1x`=  
4.10  文档的一般编辑规则 55 -'6<   
4.11 撤销和重做 56 ejVdxVr\7  
4.12  设计文档 57 0<g<GQ(E  
4.10.1  公式 58 4otl_l(`yv  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 }'%^jt[3  
4.10.3  沉积密度 59 e^ QVn\<c  
4.10.4 平行和楔形介质 60 R :"+ #Sq  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 :c y >c2  
4.10.4  性能 61 5G#$c'A{4  
4.10.5  保存设计和性能 64 D9.`hs0  
4.10.6  默认设计 64 |8H_-n  
4.11  图表 64 ;7rd;zJ  
4.11.1  合并曲线图 67 7{pIPmJ  
4.11.2  自适应绘制 68 QBoFpxh=  
4.11.3  动态绘图 68 <FUon  
4.11.4  3D绘图 69 iU5P$7.p  
4.12  导入和导出 73 }taLk@T  
4.12.1  剪贴板 73 zG#wu   
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Kq&qE>Ju  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 bhD ~ 4Rz  
4.13  背景 77 ;WD,x:>blO  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (s s3A9tG  
4.15  生成Rugate 84 }B0sC%cm  
4.16  参考文献 91 .n`( X#,*l  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Sh&iQ_vq  
5.1  Jobs 92 y7z(&M@  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 rVH6QQF=\  
5.3  输入材料 94 2ev*CX6.  
5.4  设计数据文件夹 95 '.(~  
5.5  默认设计 95 sw$2d  
6  细化和合成 97 }_}KVI  
6.1  优化介绍 97 i@5 )` <?  
6.2  细化 (Refinement) 98 ]tB@kBi "  
6.3  合成 (Synthesis) 100 hv>KX  
6.4  目标和评价函数 101 @'i+ff\  
6.4.1  目标输入 102 +@ MPQv  
6.4.2  目标 103 ?^9BMQ+  
6.4.3  特殊的评价函数 104 5qbq,#Pf  
6.5  层锁定和连接 104 o5swH6Y.)J  
6.6  细化技术 104 X*F_<0RC1  
6.6.1  单纯形 105 W;zpt|kAH  
6.6.1.1 单纯形参数 106 dU]/$7  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ZyI$M3{J  
6.6.2.1 Optimac参数 108 >{5 p0  
6.6.3  模拟退火算法 109 ?mx\eX{  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 FI"HJwAs  
6.6.4  共轭梯度 111 5Fbs WW2  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Fi2xr<7"  
6.6.5  拟牛顿法 112 yK1ie  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3K>gz:dt  
6.6.6  针合成 113 ez\eOH6  
6.6.6.1 针合成参数 114 pu9^e4B9  
6.6.7 差分进化 114 19c@`?  
6.6.8非局部细化 115  D!F 2l_  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Wd8R u/  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 1J{fXh  
6.7.1  细化 116 0[xpEiDx  
6.7.2  合成 117 &|9.}Z8U  
6.8  参考文献 117 T95t"g?p  
7  导纳图及其他工具 118 pKT2^Q}-h  
7.1  简介 118 Eectxyr?;N  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 F~HRME; Z  
7.2.1  四分之一波长规则 119 3mO;JXd  
7.2.2  导纳图 120 ~ #PLAP3-  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 h Dk)Qg  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 !eI2 r   
7.5  斜入射导纳图 141 $,fy$ Qk,S  
7.6  对称周期 141 sy/nESZs  
7.7  参考文献 142 O o8qyW  
8  典型的镀膜实例 143 V'DA[{\*  
8.1  单层抗反射薄膜 145 M Hi8E9_O  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ,"\@fwy{  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 -!e7L>w  
8.4  W-膜层 148 0w=R_C)s  
8.5  V-膜层 149 F;q#&  
8.6  V-膜层高折射基底 150 lg$zGa?  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 h-#1U3d  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 o!c] (  
8.9  四层抗反射薄膜 153 o-C#|t3hH  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 7f{=w, U  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \%0n}.A  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ?r=jF)C<'  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 HKDID[d0  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 rl08 R  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 2]cRXJ7h  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 )h{ ]k=  
8.17  1/4波长堆栈 162 J h&~ToF!  
8.18  陷波滤波器 163 )%d*3\Tsd  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 =u[k1s?  
8.20  褶皱 165 KNLnn;l  
8.21  消偏振分光器1 169 3qL>-%):*  
8.22  消偏振分光器2 171 IZ/m4~  
8.23  消偏振立体分光器 172 nkfZiyx  
8.24  消偏振截止滤光片 173 G\de2Q"d:O  
8.25  立体偏振分束器1 174 E>|: D  
8.26  立方偏振分束器2 177 J aTp} #  
8.27  相位延迟器 178 P!G858V(  
8.28  红外截止器 179 06q(aI^Ch@  
8.29  21层长波带通滤波器 180 'Ft0Ry<OL  
8.30  49层长波带通滤波器 181 !%)F J:p  
8.31  55层短波带通滤波器 182 [* ?Awf`   
8.32  47 红外截止器 183 Uu 8,@W+  
8.33  宽带通滤波器 184 `-h8vj5uG  
8.34  诱导透射滤波器 186 0'YG6(h  
8.35  诱导透射滤波器2 188 c2t=_aAIPQ  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 6 5N~0t  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Gs+3e8  
8.35  增益平坦滤波器 193 )G^ KDj"  
8.38  啁啾反射镜 1 196 o%9*B%HO/  
8.39  啁啾反射镜2 198 L>y J  
8.40  啁啾反射镜3 199 PYbVy<xc  
8.41  带保护层的铝膜层 200 fk1ASV<rN  
8.42  增加铝反射率膜 201 U4aU}1RKz  
8.43  参考文献 202 eIRLNxt+v  
9  多层膜 204 (3J$>Na  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 /+Lfrt  
9.2  内部透过率 204 bef_rH@`  
9.3 内部透射率数据 205 m< _S_c  
9.4  实例 206 8>,jpAN}r  
9.5  实例2 210 s7Ub@  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ^?7`;/  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 |7yAX+  
10  光学薄膜的颜色 216 Q8!) !r%  
10.1  导言 216 0U%f)mG  
10.2  色彩 216 vVE2m=!v  
10.3  主波长和纯度 220 Tq]Sn]CSP  
10.4  色相和纯度 221 qlL`jWJ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 =|3fs7  
10.6 色差 226 A C>`'Gx  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 1 $/%m_t  
10.8  颜色渲染指数 234 CC#;c1t  
10.9  色差计算 235  J5^'HU3  
10.10  参考文献 236 yW$0\E6<r  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ,lZB96r0  
11.1  短脉冲 238 _%5R o6  
11.2  群速度 239 {&jb5-*f  
11.3  群速度色散 241 Q09[[  
11.4  啁啾(chirped) 245 Y.g59X!Ub2  
11.5  光学薄膜—相变 245 VeW>[08  
11.6  群延迟和延迟色散 246 \v'p/G)g  
11.7  色度色散 246 anXc|  
11.8  色散补偿 249 j#cYS*^H  
11.9  空间光线偏移 256 xuqv6b.  
11.10  参考文献 258 9 FB19  
12  公差与误差 260 {q"OM*L(  
12.1  蒙特卡罗模型 260 E[/\7 v\  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 spt6]"Ni  
12.2.1  误差工具 267 &*+'>UEe5  
12.2.2  灵敏度工具 271 8C*c{(4  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 dBz/7&Q   
12.2.2.2 灵敏度分布 275 O8h%3&  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 xai*CY@cQ  
12.3  参考文献 276 eEuvl`&  
13  Runsheet 与Simulator 277 zd @m~V  
13.1  原理介绍 277 9I}-[|`u  
13.2  截止滤光片设计 277 M7pOLP_1jB  
14  光学常数提取 289 7S}_F^  
14.1  介绍 289  #"@|f  
14.2  电介质薄膜 289 ~_/(t'9  
14.3  n 和k 的提取工具 295 vEJWFoeEFm  
14.4  基底的参数提取 302 E*]bgD7V  
14.5  金属的参数提取 306 Xu%'Z".>:  
14.6  不正确的模型 306 wB.&}p9p  
14.7  参考文献 311 &5yV xL:  
15  反演工程 313 )h7<?@wv&  
15.1  随机性和系统性 313 vSEuk}pk  
15.2  常见的系统性问题 314 jYk&/@`Ly  
15.3  单层膜 314 |olA9mp|]  
15.4  多层膜 314 <0Xf9a8>  
15.5  含义 319 ;lE%M  
15.6  反演工程实例 319 ,J+}rPe"sf  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Zy`m!]G]80  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 <3LbN FP  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 aAD^^l#  
16.1  光学性质的热致偏移 329 4K\G16'$v  
16.2  应力工具 335 ~E17L]ete  
16.3  均匀性误差 339 fU/>z]K  
16.3.1  圆锥工具 339 fdFo#P  
16.3.2  波前问题 341 VK m&iidU  
16.4  参考文献 343 ;ub;l h3  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Z?h~{Mg  
17.1  引言 345 Q'=x|K#xj  
17.2  操作数 345 b,7k)ND1F  
18  如何在Function中编写脚本 351 b3=rG(0f  
18.1  简介 351 F3On?x)  
18.2  什么是脚本? 351 l9{hq/V  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 CsGx@\jN  
18.4  基础 352 Hj^1or3R]  
18.4.1  Classes(类别) 352 -t!~%_WCv  
18.4.2  对象 352 l+KY)6o  
18.4.3  信息(Messages) 352 M:Pc,  
18.4.4  属性 352 ~vm%6CABM  
18.4.5  方法 353 ]cHgleHQ  
18.4.6  变量声明 353 =$'6(aDH  
18.5  创建对象 354 aTH{'mN  
18.5.1  创建对象函数 355 marQNZ  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 p`olCp'  
18.5.3 丢弃对象 356 c"f-3kFv  
18.5.4  总结 356 b RFLcM  
18.6  脚本中的表格 357 DX#Nf""Pw  
18.6.1  方法1 357 ~Y^+M*   
18.6.2  方法2 357 \ 2M_\Q`NY  
18.7 2D Plots in Scripts 358 -_=nDH  
18.8 3D Plots in Scripts 359 .s?L^Z^  
18.9  注释 360 ZgTW.<.%2  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ` Fa~  
18.11  一个更高级的脚本 362 $*^7iT4q_t  
18.12  <esc>键 364 f\|w '  
18.13 包含文件 365 )}Hpi<5N  
18.14  脚本被优化调用 366 D+rxT: d  
18.15  脚本中的对话框 368 )1?y 8_B  
18.15.1  介绍 368 *7uH-u"5d  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 rD*jp6Cl  
18.15.3  输入框函数 370 I ce~oz)  
18.15.4  自定义对话框 371 Wf+cDpK  
18.15.5  对话框编辑器 371 .]8ZwAs=&  
18.15.6  控制对话框 377 zfJT,h-{  
18.15.7  更高级的对话框 380 8I=2lK  
18.16 Types语句 384 /CrSu  
18.17 打开文件 385 5AFJC?   
18.18 Bags 387 "Wct({n  
18.13  进一步研究 388 (~p< P+  
19  vStack 389 R$R *'l  
19.1  vStack基本原理 389 \j$&DCv   
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ">\?&0  
19.3  五棱镜 393 '{cIAw/"n  
19.4 光束距离 396 S\CCrje  
19.5 误差 399 N=V==Dbu-  
19.6  二向分色棱镜 399 ?tWaI{95I  
19.7  偏振泄漏 404 LQ@"Xe]5  
19.8  波前误差—相位 405 #|uCgdi  
19.9  其它计算参数 405 LP.]9ut  
20  报表生成器 406 5?f ^Rz  
20.1  入门 406 ^ gdaa>L  
20.2  指令(Instructions) 406 jk;j2YNPw  
20.3  页面布局指令 406 =>m<GvQz  
20.4  常见的参数图和三维图 407 iDpSj!x/_  
20.5  表格中的常见参数 408 z<MsKD0Q  
20.6  迭代指令 408 3/P1!:g9  
20.7  报表模版 408 2R[:]-b  
20.8  开始设计一个报表模版 409 (Lbbc+1m  
21  一个新的project 413 ]_)yIi"  
21.1  创建一个新Job 414 j`EXlc~  
21.2  默认设计 415 GV1pn) 4  
21.3  薄膜设计 416 lt/1f{v[:  
21.4  误差的灵敏度计算 420 vx{}}/B]J  
21.5  显色指数计算 422 (^ J I%>  
21.6  电场分布 424 Pd8![Z3  
后记 426 S;Fi?M  
l5~os>  
4VHn  \  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 R!HXhQ  
[CY9^N  
《Essential Macleod中文手册》
hqD*z6aH  
P?%s #I:  
目  录 ez7A4>/  
M$ wC=b  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 1 s\Wtw:  
第1章 介绍 ..........................................................1 [|v][Hwv  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 VMZMG$C  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 aHD]k8 m z  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ,Co|-DYf}  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 [DuttFX^x  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 jV i) Efy  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 EAUEQk?9  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 _YRFet[,m  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106  8$=n j  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 H8=N@l  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 xR~h wj  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 .e#w)K  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 "69s) ~  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 dRYqr}!%n  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 KM, \  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !t"4!3  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 y RqL9t  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 #<fRE"v:Q  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 [NTzcSN.  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 q])K,)  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 Xg6Jh``  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 4Z3su^XR  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 KYm0@O>;  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 2DA]i5  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 t 9lPb_70  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 U gat1Pz  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 \  #F  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 hgG9m[?K  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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