线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:818
时间地点 dq%C~j{v  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 4 aE{}jp1  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ^G 'n z  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 WFzM s  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 &grvlK  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
>4q6  
特邀专家介绍 ;<GK{8  
"%bU74>  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 LqO=wK~  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ZNl1e'  
课程概要 \D};0#G0&  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 #C'E'g0  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 XZS%az1%  
课程大纲 ,)N/2M\B-  
1. Essential Macleod软件介绍 o bN8+ j  
1.1 介绍软件 $=ESY>MO  
1.2 创建一个简单的设计 t3g+>U_m  
1.3 绘图和制表来表示性能 >|`1aCg,  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 L0I |V[  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) .S1MxZhbP  
1.6 特定设计的公式技术 1M 6^Brx  
1.7 交互式绘图 y(/5l   
2. 光学薄膜理论基础 WJ)4rQ$o  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 IlwHHt;njp  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Q^=0p0  
3. 材料管理 Kv:Rvo  
3.1 材料模型 >y,. `ECn  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 hrO9_B|#  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 p] N/]2rR  
3.4 基板光学常数的提取 4"3.7.<Q`  
4. 光学薄膜设计优化方法 '/9q7?[E!  
4.1 参考波长与g KX3A|  
4.2 四分之一规则 MslgQmlM  
4.3 导纳与导纳图 rC]k'p2x  
4.4 斜入射光学导纳 X&| R\v=}  
4.5 光学薄膜设计的进展 $pKegK;'z  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 -/0aGqY  
4.6.1 优化目标设置 Jh<s '&FR  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) |H]0pbC)w  
4.6.3 膜层锁定和链接 3Agyp89}Q  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 z;?j+ZsdH  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Ycx}FYTY  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 eE=2~ ylU  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Rry] 6(  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 `iN\@)E  
5.5 如何在Function中编写脚本 9[W >`JKo  
6. 光学薄膜系统案例 q9PjQ%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 s[dIWYs#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 H'7s`^- >I  
6.3 Stack应用范例说明 +]z Rn  
7. 薄膜性能分析 m2YsE  j7  
7.1 电场分布 Vp0_R9oQ  
7.2 公差与灵敏度分析 fL d2{jI,  
7.3 反演工程 H3`.Y$z  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |W$|og'wC  
8. 真空技术 NQ;$V:s)  
8.1 常用真空泵介绍 r{84Y!k~*  
8.2 真空密封和检漏 R*FDg;t4  
9. 薄膜制备技术 =kzp$ i  
9.1 常见薄膜制备技术 80 T2EN:$  
10. 薄膜制备工艺 kM1N4N7  
10.1 薄膜制备工艺因素 (fr=N5   
10.2 薄膜均匀性修正技术 _ h1eW9q  
10.3 光学薄膜监控技术 #`f{\  
11. 激光薄膜 #d*gWwnx"  
11.1 薄膜的损伤问题 L|:CQ  
11.2 激光薄膜的制备流程 (9TSH3f?  
11.3 激光薄膜的制备技术 &l!T2PX!  
12. 光学薄膜特性测量 &zJ\D`\,O  
12.1 薄膜光谱测量 NI.ROk1{+4  
12.2 薄膜光学常数测量 = &?&}pVF  
12.3 薄膜应力测量 #qR6TM&;  
12.4 薄膜损伤测量 PB.'huu  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 7fO<=ei:  
Iz'Et'w8!  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
,6pGKCUU:y  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 INp:;  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 .T ,HtHe  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 z$}9f*W}B  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 YTmHht{j#  
98O]tL+k/u  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
5G gH6   
目录 GoAh{=s  
Preface 1 *]h"J]  
内容简介 2 `?WN*__["  
目录 i SdYb T)y  
1  引言 1 ^);M}~  
2  光学薄膜基础 2 |HYST`  
2.1  一般规则 2 E{ e  
2.2  正交入射规则 3 n-],!pL^  
2.3  斜入射规则 6 ]];pWlo!  
2.4  精确计算 7 Njr;Wa.r+  
2.5  相干性 8 Zlh 2qq  
2.6 参考文献 10 ,Wu$@jD/ ]  
3  Essential Macleod的快速预览 10 njZ vi}m~  
4  Essential Macleod的特点 32 'UxI-L t  
4.1  容量和局限性 33 %#~wFW|]x  
4.2  程序在哪里? 33 =3A4.nW  
4.3  数据文件 35 ~Dz:n]Vk/  
4.4  设计规则 35 L-rV+?i`6f  
4.5  材料数据库和资料库 37 .boB b<  
4.5.1材料损失 38 :4Nv6X61  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Y<(7u`F  
4.5.2 材料库 41 GYiL}itD=3  
4.5.3导出材料数据 43 r79 P|)\  
4.6  常用单位 43 TQNdBq5I6  
4.7  插值和外推法 46 D.%%D%AdB  
4.8  材料数据的平滑 50 Tp{ jR<  
4.9 更多光学常数模型 54 im9EV|;  
4.10  文档的一般编辑规则 55 k\;D;e{  
4.11 撤销和重做 56 ~TXu20c  
4.12  设计文档 57 p-)@#hE  
4.10.1  公式 58 0zT-]0  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 3`{;E{  
4.10.3  沉积密度 59 GD d'{qE6  
4.10.4 平行和楔形介质 60 L kl E,W  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 z;2& d<h  
4.10.4  性能 61 vO&X<5?Qc  
4.10.5  保存设计和性能 64 l;A'^  
4.10.6  默认设计 64 #>\SK  
4.11  图表 64 `Npo|.?=  
4.11.1  合并曲线图 67 8IWT;%  
4.11.2  自适应绘制 68 8v8-5N  
4.11.3  动态绘图 68 n 3&h1-  
4.11.4  3D绘图 69 Lb<IEy77\  
4.12  导入和导出 73 ub9[!}r't  
4.12.1  剪贴板 73 <T)0I1S  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 `v)'(R7){  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 &v1E)/q{Z  
4.13  背景 77 DbB<8$  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ~"vS$>+  
4.15  生成Rugate 84 &Ejhw3Nw  
4.16  参考文献 91 -AD` (b7q  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 iHf):J?8 y  
5.1  Jobs 92 ^W%F?#ELN2  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 qzA_ ~=g  
5.3  输入材料 94 ar,v/l>d4N  
5.4  设计数据文件夹 95 YcwDNsk  
5.5  默认设计 95 517wduj  
6  细化和合成 97 N}NKQ]=  
6.1  优化介绍 97 MaD|X_g  
6.2  细化 (Refinement) 98 m-tn|m!J  
6.3  合成 (Synthesis) 100 oq,nfUA  
6.4  目标和评价函数 101 60n P'xfR  
6.4.1  目标输入 102 :=+YZ|&j  
6.4.2  目标 103 .57F h)Y  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ):Z #!O<  
6.5  层锁定和连接 104 v?6*n >R  
6.6  细化技术 104 $|&<cenMT  
6.6.1  单纯形 105 CMbID1M3  
6.6.1.1 单纯形参数 106 st)v'ce,  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 [_3&  
6.6.2.1 Optimac参数 108 lfCr `[!E  
6.6.3  模拟退火算法 109 WjR2:kT  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 *,:2O&P  
6.6.4  共轭梯度 111 <8? F\x@  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ;8K> ]T)  
6.6.5  拟牛顿法 112 ,ZrR*W?iF  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Whp`\E< <  
6.6.6  针合成 113 Akc |E!V  
6.6.6.1 针合成参数 114 V6_":L"!  
6.6.7 差分进化 114 ia; osqW  
6.6.8非局部细化 115 _w %:PnO  
6.6.8.1非局部细化参数 115  >Z3>  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 qa@;S,lp  
6.7.1  细化 116 Hhk`yX c_  
6.7.2  合成 117 ]3='TN8aQF  
6.8  参考文献 117 Ci 4c8  
7  导纳图及其他工具 118 "[fPzIP9  
7.1  简介 118 R<Mp$K^b  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 :%Iv<d<  
7.2.1  四分之一波长规则 119 No[9m_  
7.2.2  导纳图 120 NKB["+S<  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 T|h!06   
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 TNN@G~@cm  
7.5  斜入射导纳图 141 g@M5_I(W  
7.6  对称周期 141 D$H&^,?N  
7.7  参考文献 142 5Rw2/J L  
8  典型的镀膜实例 143 G,P k3>I'  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Ei+lVLoC  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Lk$Mfm5"M  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 mC\<fo-u  
8.4  W-膜层 148 HN/YuP03[  
8.5  V-膜层 149 CH!\uK22  
8.6  V-膜层高折射基底 150 mAW(j@5sp  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 MNTVG&h  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 NRP) 'E  
8.9  四层抗反射薄膜 153 "%dENK  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 L7GNcV]c  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }2*qv4},!  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 5eF tcK  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 lFIaC}  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 &YD+ s%OL  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 \Wppl,"6c  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 N.]~%)K:{  
8.17  1/4波长堆栈 162 FqnD"]A  
8.18  陷波滤波器 163 b5jD /X4  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 9{S$%D  
8.20  褶皱 165 8p}z~\J{a:  
8.21  消偏振分光器1 169 {|<r7K1<  
8.22  消偏振分光器2 171 [h' 22 W  
8.23  消偏振立体分光器 172 %z[=T@  
8.24  消偏振截止滤光片 173 IIXA)b!  
8.25  立体偏振分束器1 174 D,FgX/&i/  
8.26  立方偏振分束器2 177 l<S3<'&  
8.27  相位延迟器 178 !nsr( 7X2  
8.28  红外截止器 179 A(BjU:D(Oj  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Yh"9,Z&wiR  
8.30  49层长波带通滤波器 181 =x(k)RTDu  
8.31  55层短波带通滤波器 182 )w&|VvM )L  
8.32  47 红外截止器 183 ;Z"Iv  
8.33  宽带通滤波器 184 s-x1<+E(  
8.34  诱导透射滤波器 186 *M:p[.=1  
8.35  诱导透射滤波器2 188 g}hNsU=$5~  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 + >:}   
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 i88`W&tI{  
8.35  增益平坦滤波器 193 7oUo[  
8.38  啁啾反射镜 1 196 F/tRyq`D  
8.39  啁啾反射镜2 198  >}]bKq  
8.40  啁啾反射镜3 199 F2<Q~gQ;  
8.41  带保护层的铝膜层 200 (~F}O  
8.42  增加铝反射率膜 201 uP8 cW([  
8.43  参考文献 202 e(1{W P  
9  多层膜 204 g%m-*v*  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204  myOW^  
9.2  内部透过率 204 =*+f2  
9.3 内部透射率数据 205 ErsJWp  
9.4  实例 206 p`U#  
9.5  实例2 210 g?}h*~<b  
9.6  圆锥和带宽计算 212 &,l7wK  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 MDd 2B9cy[  
10  光学薄膜的颜色 216 ix?Z:pIS0  
10.1  导言 216 &lzCRRnvt  
10.2  色彩 216 ?aTC+\=  
10.3  主波长和纯度 220 VRY@}>W'  
10.4  色相和纯度 221 ab)ckRC  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 #zSNDv`  
10.6 色差 226 r<P?F  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 K@osD7-  
10.8  颜色渲染指数 234 `\3RFr  
10.9  色差计算 235 YLSDJ$K6  
10.10  参考文献 236 ?=kH}'igq  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 +Bt%W%_X  
11.1  短脉冲 238 \sW>Y#9]  
11.2  群速度 239 J]48th0,  
11.3  群速度色散 241 `r\/5|M  
11.4  啁啾(chirped) 245 k#mL4$]V5N  
11.5  光学薄膜—相变 245 L!ms{0rJ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 0BjP|API  
11.7  色度色散 246 YVz,P_\(m  
11.8  色散补偿 249 m,w^,)  
11.9  空间光线偏移 256 q="ymx~  
11.10  参考文献 258 >%t5j?p  
12  公差与误差 260 6BXZGE  
12.1  蒙特卡罗模型 260 7vGAuTfi/@  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 =G'J@[d{d  
12.2.1  误差工具 267 =3 ;! 5P  
12.2.2  灵敏度工具 271 %5Elj<eHZ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 $Nj'_G\}  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 oVfRp.a  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 t`V U<  
12.3  参考文献 276 Di$++T8"  
13  Runsheet 与Simulator 277 p8&rl|z|  
13.1  原理介绍 277 kO/;lrwC  
13.2  截止滤光片设计 277 l]IQjjJ`  
14  光学常数提取 289 "Q tkNy%E  
14.1  介绍 289 AX )dZdd  
14.2  电介质薄膜 289 =`V9{$i  
14.3  n 和k 的提取工具 295 r6 pz(rCs}  
14.4  基底的参数提取 302 x:]_z.5  
14.5  金属的参数提取 306 L N'})CI8m  
14.6  不正确的模型 306 T^Xum2Ec  
14.7  参考文献 311 JVPLE*T  
15  反演工程 313 nqcD#HUv  
15.1  随机性和系统性 313 g9=O<u#  
15.2  常见的系统性问题 314  ~}K$z  
15.3  单层膜 314 D r6u0rx8  
15.4  多层膜 314 ]XfROhgP=  
15.5  含义 319 I[LHJ4  
15.6  反演工程实例 319 Thp!X/2O`  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 5@i(pVWZ  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 3J^'x  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 FJsg3D*@J  
16.1  光学性质的热致偏移 329 k]A$?C0Q<%  
16.2  应力工具 335 !OR %AdxB  
16.3  均匀性误差 339 nh"LdHqiDB  
16.3.1  圆锥工具 339 %i.;~>  
16.3.2  波前问题 341 P"+K'B7K3  
16.4  参考文献 343 vH?3UW  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 *;<oM]W_  
17.1  引言 345 @c%h fI  
17.2  操作数 345 iN+&7#x;/  
18  如何在Function中编写脚本 351 ~_4$|WKl  
18.1  简介 351 ~NwX,-ri  
18.2  什么是脚本? 351 >t $^U  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 r@H7J 5<Y-  
18.4  基础 352 59a7%w  
18.4.1  Classes(类别) 352 +~EFRiP]  
18.4.2  对象 352 a0B,[i  
18.4.3  信息(Messages) 352 9M .cTIO{  
18.4.4  属性 352 Q\Nz^~dQ:Y  
18.4.5  方法 353 {UOR_Vt!*  
18.4.6  变量声明 353 Ky[-ZQQo=5  
18.5  创建对象 354 Z%Yq{tAt  
18.5.1  创建对象函数 355 :x_;-  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 /A%31WE&1  
18.5.3 丢弃对象 356 6vZ.CUK9  
18.5.4  总结 356 4jz2x #T  
18.6  脚本中的表格 357 Y:K1v:Knw  
18.6.1  方法1 357 inv 5>OeG  
18.6.2  方法2 357 !K_ ke h  
18.7 2D Plots in Scripts 358 l Gy`{E|  
18.8 3D Plots in Scripts 359 `bRt_XGPmF  
18.9  注释 360 #,\qjY  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 gn4 Sz")  
18.11  一个更高级的脚本 362 UP e@>  
18.12  <esc>键 364 L]Dl}z  
18.13 包含文件 365 Xx=c'j<  
18.14  脚本被优化调用 366 7V7iIbi  
18.15  脚本中的对话框 368 )?,X\/5  
18.15.1  介绍 368 Qj/.x#T  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 L[p[m~HjG^  
18.15.3  输入框函数 370 vip& b}u  
18.15.4  自定义对话框 371 sT%^W  
18.15.5  对话框编辑器 371 $@4(Lq1.  
18.15.6  控制对话框 377  Qf(mn8  
18.15.7  更高级的对话框 380 =jW= Z$3q  
18.16 Types语句 384 K6; sxF  
18.17 打开文件 385 _6&TCd<  
18.18 Bags 387 DM)%=C6<  
18.13  进一步研究 388 tGh!5EZ6`  
19  vStack 389 jM|-(Es. )  
19.1  vStack基本原理 389 %oN5jt  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 'hH3d"a^=  
19.3  五棱镜 393 2ID]it\5  
19.4 光束距离 396 [(4s\c  
19.5 误差 399 Ok6c E  
19.6  二向分色棱镜 399 p7d[)* L>C  
19.7  偏振泄漏 404 /?g:`NT  
19.8  波前误差—相位 405 dd@-9?6M  
19.9  其它计算参数 405 ~xP4}gs1  
20  报表生成器 406 p:8&&v~I  
20.1  入门 406 K#<cuHGC  
20.2  指令(Instructions) 406 >`!Lh`n7_  
20.3  页面布局指令 406 h oL"K  
20.4  常见的参数图和三维图 407 &KZr`"cT#  
20.5  表格中的常见参数 408 ;Jq 7E  
20.6  迭代指令 408 3Zeh$DZ  
20.7  报表模版 408 0]^ke:(#  
20.8  开始设计一个报表模版 409 6 P6Pl&  
21  一个新的project 413 auV<=1<zJ  
21.1  创建一个新Job 414 F8%.-.l)  
21.2  默认设计 415 7Eett)4  
21.3  薄膜设计 416 @u}1 S1  
21.4  误差的灵敏度计算 420 aR}L- -m  
21.5  显色指数计算 422 12MWO_'g8  
21.6  电场分布 424 )kiC/Y}k  
后记 426 Qt+;b  
y&$v@]t1  
DU>#eR0G  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 S;]][h =  
Gh#$[5&`  
《Essential Macleod中文手册》
@mB*fl?-  
nVVQ^i}`G  
目  录 Q-M"+HO  
pN ^^U[  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 TUV&9wKXo  
第1章 介绍 ..........................................................1  wN4N 2  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 gnPu{-Ec*  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 :yTpjC-S]  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ggn:DE "  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 bW9a_myE  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 5D#Mhgun  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 c8cPGm#i  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 3"ii_#1  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 b^~"4fU  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 SZ[ ,(h  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 W%bzA11l  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 mlmp'f  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 VS{po:]A  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 qfQg?Mr  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 H3{FiB]  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 U94Tp A6  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ..g?po  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 AQH\ ;L  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Y "RjMyQh  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 [aF^D;o  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 :t36]NM  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 [h GS*  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ^+m6lsuA  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 :QV-!  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Z+*t=?L,,G  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 &2EimP  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 /d\#|[S  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 l6wN&JHTh  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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