线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:602
时间地点 z\%Ls   
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 pxh"B\"4*  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 7G>dTO  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ]n~ilS.rkl  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Tap.5jHL  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
%s(k_|G+4  
特邀专家介绍  N#a$t&  
d5gR"ja  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 S_IUV)  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 1BpiV-]=  
课程概要 xM&Wgei]10  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Z Z:}AQ  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ]33>m|?@  
课程大纲 K8UP,f2  
1. Essential Macleod软件介绍 ub\MlSr  
1.1 介绍软件 In<n&ib  
1.2 创建一个简单的设计 0p}D(m2B  
1.3 绘图和制表来表示性能 &b fA.& `  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 qtQ6cq Ld  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) #nPQ!NB/  
1.6 特定设计的公式技术 Bx4w)9+3  
1.7 交互式绘图 Z*= $8 e@  
2. 光学薄膜理论基础 I ,z3xU  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 xY^ %&n  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ~U@;gLoD  
3. 材料管理 %~E ?Z!_W  
3.1 材料模型 O%5 r[  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 J2xw) +  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 vRH d&0  
3.4 基板光学常数的提取 \(^nSy&N  
4. 光学薄膜设计优化方法 j;-1J_e5  
4.1 参考波长与g g9Xu@N;bL  
4.2 四分之一规则 ,l:ORoND  
4.3 导纳与导纳图 w.YiO5|y  
4.4 斜入射光学导纳 G?;e-OhV  
4.5 光学薄膜设计的进展 xgKdMW'%g:  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 8L:ji,"  
4.6.1 优化目标设置 fj;y}t1E]  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 1Y7Eajt-5  
4.6.3 膜层锁定和链接 hM6PP7XH  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ]);%wy{Ho  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 zGA q-<  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 7G}2,ueI  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 3 I@}my1  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 t>`a sL  
5.5 如何在Function中编写脚本 9NQlI1W z4  
6. 光学薄膜系统案例 ;kS&A(  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 '+?"iVVo  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 pu 7{a  
6.3 Stack应用范例说明 lFV N07hG  
7. 薄膜性能分析 4GY[7^  
7.1 电场分布 4'a=pnE$  
7.2 公差与灵敏度分析 y}My.c  
7.3 反演工程 WSp  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ;U.hxh;+  
8. 真空技术 ;h*K}U  
8.1 常用真空泵介绍 z8SmkL  
8.2 真空密封和检漏 S~;4*7+?:  
9. 薄膜制备技术 ->y J5smtY  
9.1 常见薄膜制备技术 ,D]QxbwZ  
10. 薄膜制备工艺 ~M7y*'oY  
10.1 薄膜制备工艺因素 XBb~\p3y  
10.2 薄膜均匀性修正技术 0 yuW*z  
10.3 光学薄膜监控技术 W;'!gpa  
11. 激光薄膜 K1\a#w  
11.1 薄膜的损伤问题 O&4SCVZp  
11.2 激光薄膜的制备流程 b\$}>O  
11.3 激光薄膜的制备技术 1DE<rKI  
12. 光学薄膜特性测量 C/vI EYG4  
12.1 薄膜光谱测量 =u2l. CX  
12.2 薄膜光学常数测量 !'&n -Q  
12.3 薄膜应力测量 r^3acXl  
12.4 薄膜损伤测量 V'8s8H  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 T`\x,` ^  
Vzdh8)Mu\  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
R`DKu=  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
<`B,R*H{  
内容简介 gv)P]{%^  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /H(? 2IHC  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 G~2jUyv  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1 u| wMO  
Crho=RJPR  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
mKL<<L [  
目录 X(]WVCu  
Preface 1 zF8dKFE~  
内容简介 2 AX;8^6.F3  
目录 i sk,ox~0R  
1  引言 1 vq^f}id  
2  光学薄膜基础 2 wVicyiY]  
2.1  一般规则 2 *W0y: 3dB3  
2.2  正交入射规则 3 6K-_pg]  
2.3  斜入射规则 6 s.N7qO^:E  
2.4  精确计算 7 ![YX]+jqNp  
2.5  相干性 8 ftvG\Tf  
2.6 参考文献 10 E .7  
3  Essential Macleod的快速预览 10 pQ=>.JU  
4  Essential Macleod的特点 32 2ORNi,_I  
4.1  容量和局限性 33 6:Ch^c+IZ  
4.2  程序在哪里? 33 ] >LhkA@V  
4.3  数据文件 35 5!DBmAB  
4.4  设计规则 35 P9^-6;'Y  
4.5  材料数据库和资料库 37 p^%YBY#,H  
4.5.1材料损失 38 tyXuG<  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 )uj Ex7&c  
4.5.2 材料库 41 Rz bj  
4.5.3导出材料数据 43 kP#B5K_U|  
4.6  常用单位 43 &x[E;P*Fg  
4.7  插值和外推法 46 DnCP aM4%  
4.8  材料数据的平滑 50 *1p|5!4c  
4.9 更多光学常数模型 54 KIui(n#/  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Co (.:z~  
4.11 撤销和重做 56 /y _O 4  
4.12  设计文档 57 5p<ItU$pnL  
4.10.1  公式 58 S1p;nK  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4 N H  
4.10.3  沉积密度 59 v, n$^R  
4.10.4 平行和楔形介质 60 WG6FQAo^8  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 |Y$uqRdV  
4.10.4  性能 61 { /K.3  
4.10.5  保存设计和性能 64 R< ,`[*Z  
4.10.6  默认设计 64 ?t/~lv  
4.11  图表 64 R:e<W/P"  
4.11.1  合并曲线图 67 '(f&P=[b  
4.11.2  自适应绘制 68 #MX'^RZ>2  
4.11.3  动态绘图 68 5R'TcWf#W  
4.11.4  3D绘图 69 (i34sqV$m  
4.12  导入和导出 73 A+::O@_s  
4.12.1  剪贴板 73 u [m  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 0fb`08,^  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 N^HUijw<  
4.13  背景 77 GN ]cDik  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 co~Pyj  
4.15  生成Rugate 84 ?no fUD.  
4.16  参考文献 91 #33fGmd[  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 mL{B!Q  
5.1  Jobs 92 8P^I TL z%  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 c(:f\Wc3Z  
5.3  输入材料 94 q*\x0"mS/  
5.4  设计数据文件夹 95 U}6.h&$  
5.5  默认设计 95 *AoR==:ya  
6  细化和合成 97 qUjmB sB  
6.1  优化介绍 97 @y='^DQ*  
6.2  细化 (Refinement) 98 }Mf!-g  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ;i Fz?d3;  
6.4  目标和评价函数 101  {Or;  
6.4.1  目标输入 102 w.H%R-Be  
6.4.2  目标 103 biSz?DJ>  
6.4.3  特殊的评价函数 104 W%T>SpFl  
6.5  层锁定和连接 104 jX3,c%aQ5e  
6.6  细化技术 104 3a?o3=  
6.6.1  单纯形 105 ln?v j)j  
6.6.1.1 单纯形参数 106 @x"0_Qw  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 =+U `-J} g  
6.6.2.1 Optimac参数 108 12;8o<~  
6.6.3  模拟退火算法 109 +V m}E0Ov  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Fs{x(_LOr  
6.6.4  共轭梯度 111 ,_Z5m;  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 K8>zF/# +  
6.6.5  拟牛顿法 112 ^cczJOxB  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Sz^ veh?  
6.6.6  针合成 113 |$Xl/)Oq  
6.6.6.1 针合成参数 114 wF|fK4F  
6.6.7 差分进化 114 GliwY_  
6.6.8非局部细化 115 h3bff#<K  
6.6.8.1非局部细化参数 115 DE%KW:Hug  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 pQshUm"_  
6.7.1  细化 116 7on.4/;M  
6.7.2  合成 117 n` xR5!de  
6.8  参考文献 117 'NX```U0  
7  导纳图及其他工具 118 A%`[mc]4#  
7.1  简介 118 (iL|Sq&}b  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 {$R' WXVs  
7.2.1  四分之一波长规则 119 fb{`` ,nO  
7.2.2  导纳图 120 y^%n'h{  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 W#KpPDgZE  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 *^f<W6xc  
7.5  斜入射导纳图 141 l-SAC3qhG  
7.6  对称周期 141 kPVO?uO  
7.7  参考文献 142 VY~yg*  
8  典型的镀膜实例 143 =&,]Z6{ >  
8.1  单层抗反射薄膜 145 A9wh(P0\  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 g=;%  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 P8>~c9$I  
8.4  W-膜层 148 .v$D13L(o  
8.5  V-膜层 149 A<1hOSCz\  
8.6  V-膜层高折射基底 150 cIav&Zko  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 `}mcEl  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 8ELCs<xI  
8.9  四层抗反射薄膜 153 MrDc$p W G  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 i(iXD  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 u/M+u;  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 So0f)`A  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 BsEF'h'Owh  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 }UWL-TkEjF  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 8>0e*jC  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 DpUbzr41+k  
8.17  1/4波长堆栈 162 z"0I>gl  
8.18  陷波滤波器 163 1UE6 4Kl:S  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .ox8*OO<  
8.20  褶皱 165 pov)Z):}G<  
8.21  消偏振分光器1 169 S" xKL{5  
8.22  消偏振分光器2 171 P %#<I}0C  
8.23  消偏振立体分光器 172 O+]Ifm[  
8.24  消偏振截止滤光片 173 }[ 4r4 1[  
8.25  立体偏振分束器1 174 VzY8rI  
8.26  立方偏振分束器2 177 I~ok4L?VB  
8.27  相位延迟器 178 J[4mL U  
8.28  红外截止器 179 P*I}yPeb  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ApAO/q  
8.30  49层长波带通滤波器 181 4scNSeW  
8.31  55层短波带通滤波器 182 >[_f3;P  
8.32  47 红外截止器 183 \3pc"^W  
8.33  宽带通滤波器 184 FQqI<6;  
8.34  诱导透射滤波器 186 eD*A )  
8.35  诱导透射滤波器2 188 U-R6xxPZ  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 maXG:l|  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 q U]gj@R  
8.35  增益平坦滤波器 193 l]8D7(g  
8.38  啁啾反射镜 1 196 `NgAT 3zq  
8.39  啁啾反射镜2 198 a=hxJ1O  
8.40  啁啾反射镜3 199 )?X-(4  
8.41  带保护层的铝膜层 200 U c@Ao:  
8.42  增加铝反射率膜 201 QWzB6H]  
8.43  参考文献 202 O"F_*  
9  多层膜 204 OH">b6>\  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ][?G/*k  
9.2  内部透过率 204 oxz OA  
9.3 内部透射率数据 205 \lZf<f  
9.4  实例 206 *a#rM"6P  
9.5  实例2 210 $`)/0{qY-  
9.6  圆锥和带宽计算 212 rvXWcu-"  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 NiU2@zgl  
10  光学薄膜的颜色 216 my4giC2a  
10.1  导言 216 A?-oL='  
10.2  色彩 216 .y@oz7T5  
10.3  主波长和纯度 220 `bZ/haU}A  
10.4  色相和纯度 221 i`dC G[  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 %*`J k#W:  
10.6 色差 226 !f&Kf,#b`  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 D"ND+*Q [X  
10.8  颜色渲染指数 234 7z!tKs"TMT  
10.9  色差计算 235 j^^Ap  
10.10  参考文献 236 1:f9J  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 1n:8s'\  
11.1  短脉冲 238 S$Q8>u6Wk  
11.2  群速度 239 }Ub6eXf(2  
11.3  群速度色散 241 = c>Qx"Sw  
11.4  啁啾(chirped) 245 /J:bWr  
11.5  光学薄膜—相变 245 +eFFSt  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ev#;t@^  
11.7  色度色散 246 ,!7 H]4Qx  
11.8  色散补偿 249 2\7`/,U6  
11.9  空间光线偏移 256 .zn;:M#T  
11.10  参考文献 258 #m{UrTC  
12  公差与误差 260 rld67'KcE  
12.1  蒙特卡罗模型 260 b0Kc^uj5  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 +YqZ ((  
12.2.1  误差工具 267 11<KpxKpk  
12.2.2  灵敏度工具 271 dv.(7Y7.x  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 HA2k [F@3^  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 kX>f^U{j  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 1#0{@35  
12.3  参考文献 276 \ aHVs  
13  Runsheet 与Simulator 277 q.2ykL  
13.1  原理介绍 277 u"d~!j1  
13.2  截止滤光片设计 277 ? P( ZA  
14  光学常数提取 289 ,)iKH]lY=  
14.1  介绍 289 L7V G`h;  
14.2  电介质薄膜 289 Mi/&f   
14.3  n 和k 的提取工具 295 )tl.s)"N  
14.4  基底的参数提取 302 ,:Lb7bFv>  
14.5  金属的参数提取 306 ad:&$  
14.6  不正确的模型 306 k[HAkB \{  
14.7  参考文献 311 .8P.)%  
15  反演工程 313 .R9IL-3fO  
15.1  随机性和系统性 313 l PK +$f$  
15.2  常见的系统性问题 314 |m80]@>  
15.3  单层膜 314 v7DE  
15.4  多层膜 314 V( -mD  
15.5  含义 319 *7h!w!LN~  
15.6  反演工程实例 319 4*'pl.rb>  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 hED=u/ql[  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 AiK  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 w Axrc+  
16.1  光学性质的热致偏移 329 aEWWFN  
16.2  应力工具 335 hrhb!0  
16.3  均匀性误差 339 ^9 ePfF)5  
16.3.1  圆锥工具 339 N9vP7  
16.3.2  波前问题 341 S p^9& ^  
16.4  参考文献 343 t$A%*JBKm  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 |jVM&R2s  
17.1  引言 345 }C#;fp"L  
17.2  操作数 345 @ )-$kk*  
18  如何在Function中编写脚本 351 -tyK~aasQ  
18.1  简介 351 r%.do;5  
18.2  什么是脚本? 351 E5N{j4\F  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 7 <Q5;J&;  
18.4  基础 352 !ykx^z  
18.4.1  Classes(类别) 352 bf!M#QOk?  
18.4.2  对象 352 tX"Th'Qi  
18.4.3  信息(Messages) 352 m/qbRk68s  
18.4.4  属性 352 y !!E\b=  
18.4.5  方法 353 S}ECW,K  
18.4.6  变量声明 353 !V,{_(LT  
18.5  创建对象 354 YBP:q2H  
18.5.1  创建对象函数 355 stk9Ah  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ?zsB6B?;  
18.5.3 丢弃对象 356 =?s 3iP  
18.5.4  总结 356 8kIR y   
18.6  脚本中的表格 357 'qF#<1&  
18.6.1  方法1 357 ty*@7g0k  
18.6.2  方法2 357 o`q_wdy?  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ]<q[Do8k  
18.8 3D Plots in Scripts 359 6^c>,.R  
18.9  注释 360 &2=dNREJ}1  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ,ML[Wr'2  
18.11  一个更高级的脚本 362 A6pjRxg  
18.12  <esc>键 364 rJ!{/3e  
18.13 包含文件 365 Eyh51IB.  
18.14  脚本被优化调用 366 =T7A]U]  
18.15  脚本中的对话框 368 zKsz*xv6b  
18.15.1  介绍 368 4|`Bq}sjZf  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 K&U7H:  
18.15.3  输入框函数 370  HC a  
18.15.4  自定义对话框 371 }A:<%N  
18.15.5  对话框编辑器 371 v^_mFp-}\  
18.15.6  控制对话框 377 .^m>AKC0cX  
18.15.7  更高级的对话框 380 -p E(_  
18.16 Types语句 384 yin'vgQ  
18.17 打开文件 385 lZrVY+ D  
18.18 Bags 387 OHflIeq#@  
18.13  进一步研究 388 jOyvDY9\  
19  vStack 389 ZZ.m(A TR  
19.1  vStack基本原理 389 vUnRi=:|  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 WMBm6?54  
19.3  五棱镜 393 !Y:0c#MPH  
19.4 光束距离 396 KV*xApb9y  
19.5 误差 399 (}5S  
19.6  二向分色棱镜 399 xGG,2W+z  
19.7  偏振泄漏 404 2AVa(  
19.8  波前误差—相位 405 q9^  
19.9  其它计算参数 405 7oR:1DX w|  
20  报表生成器 406 \^V`ds*.  
20.1  入门 406 BkZV!Eg  
20.2  指令(Instructions) 406 )|I5j];L  
20.3  页面布局指令 406 .<K iMh  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ]D!k&j~P  
20.5  表格中的常见参数 408 bLnrbid  
20.6  迭代指令 408 }=2;  
20.7  报表模版 408 toaYsiIkzW  
20.8  开始设计一个报表模版 409 snt(IJQ  
21  一个新的project 413 rJo"fx  
21.1  创建一个新Job 414 xwH?0/  
21.2  默认设计 415 ~WpGf,  
21.3  薄膜设计 416 5&f{1M6l>  
21.4  误差的灵敏度计算 420 2PR^:h2  
21.5  显色指数计算 422 ,o7hk{fR*  
21.6  电场分布 424 w?,M}=vg  
后记 426 0K-*WQ*#9  
Z^9/v  
}I!hOD>]O  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 0'r%,0  
x#N-&baS  
《Essential Macleod中文手册》
*E~VKx1  
o|j*t7  
目  录 34QfgMyH  
TbehR:B5g  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 j2P n<0U  
第1章 介绍 ..........................................................1 7DfTfTU6  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 M@thI%lR  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 >l+EJ3W  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 sIl33kmv  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 5`<eKwls  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 R4<lln:[  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 o."rxd  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Cj*-[ EL<  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 !4rPv\   
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Q#Y k?Kv~  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 v[lnw} =m9  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 0~& "  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Se!)n;?7Sw  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 w&BGJYI  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 `E\imL  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 %k0EpJE%  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 F.)!3YE  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 /i)Hb`(S  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 I@l>w._.  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 T#O??3/%$1  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 SLhEc  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 g8'DoHJ*  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 jFerYv&K~  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 lr2 rQo >  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Be}$I_95\P  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 jvzBh-!  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 zEw >SP1,  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 {?{U,&  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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