线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:721
时间地点 l* ~".q;S  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司  t 0 $}  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ;ps 0wswX  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 teRK#: .P  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 qnFi./  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
lB7 V4  
特邀专家介绍 \^l273  
x~!gGfP  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 pDw^~5P  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 c34s(>AC  
课程概要 WA~PE` U  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 2P&KU%D)0s  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 F 7v 1rf]  
课程大纲 R^[b I;  
1. Essential Macleod软件介绍 n U0  
1.1 介绍软件 ]@Gw$  
1.2 创建一个简单的设计 ;nzzt~aCC  
1.3 绘图和制表来表示性能 UbWeE,T~S  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 UEm~5,>$0  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) e}F1ZJz  
1.6 特定设计的公式技术 ,CGq_>Z  
1.7 交互式绘图 VLLE0W _]  
2. 光学薄膜理论基础 mA{G: d  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 P4h^_*d  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 @;^7kt  
3. 材料管理 C rA7lu'  
3.1 材料模型 u~JCMM$  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !(%^Tg=  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 p\>im+0oh  
3.4 基板光学常数的提取 dV~d60jOF  
4. 光学薄膜设计优化方法 #kmZS/"  
4.1 参考波长与g oRp;9   
4.2 四分之一规则 ;+86q"&n  
4.3 导纳与导纳图 ;%#.d$cU  
4.4 斜入射光学导纳 ,PmQ}1kGW  
4.5 光学薄膜设计的进展 5eP0W#  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 P#gY-k&Nr  
4.6.1 优化目标设置 0j'H5>m"  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) t<UtSkE1  
4.6.3 膜层锁定和链接 ZUkrJ'  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 XIS.0]~  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 <@+>A$~0  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Cp`>dtCd  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 /o/0 9K  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ;!k{{Xndd  
5.5 如何在Function中编写脚本 |i/Iv  
6. 光学薄膜系统案例 q?9x0L  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Xa=M{x  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 &,4 3&pFU  
6.3 Stack应用范例说明 vk^/[eha  
7. 薄膜性能分析 KS9 e V  
7.1 电场分布 RyAss0Sm^  
7.2 公差与灵敏度分析 Ts~MkO  
7.3 反演工程 +"~~; J$  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 \!]Zq#*kH  
8. 真空技术 ``Yw-|&:Ae  
8.1 常用真空泵介绍 <"&I'9  
8.2 真空密封和检漏 yjq~O~  
9. 薄膜制备技术 !yfQ^a_ O  
9.1 常见薄膜制备技术 =m+'orJ1  
10. 薄膜制备工艺 Os9;;^k  
10.1 薄膜制备工艺因素 >3{l"SPU  
10.2 薄膜均匀性修正技术 b `TA2h  
10.3 光学薄膜监控技术 QcXqMx  
11. 激光薄膜 yv2&K=rZp  
11.1 薄膜的损伤问题 =}8:zO 2'{  
11.2 激光薄膜的制备流程 cb9ndZ)v.  
11.3 激光薄膜的制备技术 _NkVi_UX  
12. 光学薄膜特性测量 N1pw*<&  
12.1 薄膜光谱测量 8M"0o}wx  
12.2 薄膜光学常数测量 [|:kS  
12.3 薄膜应力测量 Z*M]AvO+#  
12.4 薄膜损伤测量 0_A|K>7  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 CP%?,\  
A3;}C+K  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
@Yl&Jg2l'  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
szDd!(&pv  
内容简介 u>YC4&  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &~6W!w  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 3BSJ|o<"=  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,g"[7Za  
O.9r'n4f  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
Kt 0 3F$  
目录 YhZmyYamE  
Preface 1 IKm_YQ$XOy  
内容简介 2 ~ .dmfA{  
目录 i /W vgC)  
1  引言 1 rEM#J"wF  
2  光学薄膜基础 2 SDW_Y^Tb  
2.1  一般规则 2 d/m.VnW  
2.2  正交入射规则 3  _xyq25/  
2.3  斜入射规则 6 6oQSXB@  
2.4  精确计算 7 Hp@nxtKxW  
2.5  相干性 8 BnB]]<gO"  
2.6 参考文献 10 >7fNxQ  
3  Essential Macleod的快速预览 10 5*n3*rbU:  
4  Essential Macleod的特点 32 k3w(KH @  
4.1  容量和局限性 33 {e1akg.  
4.2  程序在哪里? 33 [ q% Rx!L  
4.3  数据文件 35 &* Aems{-  
4.4  设计规则 35 [ITtg?]F  
4.5  材料数据库和资料库 37 <6djdr1:b  
4.5.1材料损失 38   OH*  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ;:Yz7<>Y,  
4.5.2 材料库 41 AMm)E  
4.5.3导出材料数据 43 9(CY"Tc3  
4.6  常用单位 43 "E6*.EtTN#  
4.7  插值和外推法 46 -k+}w_<Q  
4.8  材料数据的平滑 50 ';\v:dP  
4.9 更多光学常数模型 54 S 6|#9C&  
4.10  文档的一般编辑规则 55 y>5??q  
4.11 撤销和重做 56 |_Tp:][mf  
4.12  设计文档 57 ~h<<-c  
4.10.1  公式 58 $YNWT\FE  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 }1sFddGVt  
4.10.3  沉积密度 59 Z#1 'STg  
4.10.4 平行和楔形介质 60 !qQ B}sAf  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 t@Bl3Nt{  
4.10.4  性能 61 wUj#ACqB  
4.10.5  保存设计和性能 64 XuY#EJbZ  
4.10.6  默认设计 64 SdJGhU  
4.11  图表 64 ~kJ}Z<e  
4.11.1  合并曲线图 67 8(b C.  
4.11.2  自适应绘制 68 /ZeN\ybx  
4.11.3  动态绘图 68 He}uE0^  
4.11.4  3D绘图 69 aYBc)LCd  
4.12  导入和导出 73 K4{1}bU{>  
4.12.1  剪贴板 73 +'@j~\>^yJ  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 k-zkb2  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 FS1> J%P  
4.13  背景 77 5r-OE-U{  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 W{v{sQg  
4.15  生成Rugate 84 +4r.G(n),  
4.16  参考文献 91 L2jjkyX]  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 \%! t2=J!  
5.1  Jobs 92 QR#L1+Hn  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 )v+R+3<  
5.3  输入材料 94 jk\04k  
5.4  设计数据文件夹 95 gjGKdTr'  
5.5  默认设计 95 3`mM0,fY  
6  细化和合成 97 _Z>I"m  
6.1  优化介绍 97 (z:DTe  
6.2  细化 (Refinement) 98 dP7nR1GS  
6.3  合成 (Synthesis) 100 r) SG!;X  
6.4  目标和评价函数 101 V(5=-8k  
6.4.1  目标输入 102 VxKD>:3c  
6.4.2  目标 103 x&N!SU6  
6.4.3  特殊的评价函数 104  !=f$ [1  
6.5  层锁定和连接 104 \@K KX  
6.6  细化技术 104 !SxZN dv  
6.6.1  单纯形 105 eM1=r:jgE  
6.6.1.1 单纯形参数 106 F70_N($i  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 z5k9|.hgw  
6.6.2.1 Optimac参数 108 !VXs yH3r5  
6.6.3  模拟退火算法 109 6iZ:0y0t+6  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ?cH,!2  
6.6.4  共轭梯度 111 J,&B   
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 NF0=t}e  
6.6.5  拟牛顿法 112 dZ"B6L!^(  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 0)^$9 Z  
6.6.6  针合成 113 p[&6hXTd  
6.6.6.1 针合成参数 114 9wB}EDZ  
6.6.7 差分进化 114 @}r2xY1  
6.6.8非局部细化 115 XoZw8cY  
6.6.8.1非局部细化参数 115 W bP wO  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 .vm.g=-q  
6.7.1  细化 116 N;6@f*3_i  
6.7.2  合成 117 dPtQ Sa  
6.8  参考文献 117 ee7{5  
7  导纳图及其他工具 118 n1mqe*Mvs/  
7.1  简介 118 Jy?#@/~  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 jr=>L:  
7.2.1  四分之一波长规则 119 iax6o+OG|  
7.2.2  导纳图 120 YM(` E9{h  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Tam\,j  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 <.N33 7!  
7.5  斜入射导纳图 141 u]Eyb),Gy  
7.6  对称周期 141 mH/$_x)o  
7.7  参考文献 142 <.l$jW]  
8  典型的镀膜实例 143 2o\GU  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Z ^w5x:  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 JBCJVWUt  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "\:ZH[j  
8.4  W-膜层 148 ~nSGN%  
8.5  V-膜层 149 m$UrY(6d  
8.6  V-膜层高折射基底 150 t622b?w  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 \!_:<"nX.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 tK$x=9M  
8.9  四层抗反射薄膜 153 "V>7u{T  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 9W~3E^x  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 S(b5Gj/Kd  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Rw R.*?#  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 =)p/p6  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 POouO/r$  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 -nvK*rn>}  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 4=T>Iy  
8.17  1/4波长堆栈 162 G ]T A7~VT  
8.18  陷波滤波器 163 vcsMU|GGh  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 >~% _U+6  
8.20  褶皱 165 n5yPUJK2L6  
8.21  消偏振分光器1 169 /JOEnQ5X\!  
8.22  消偏振分光器2 171 <> &!+|#  
8.23  消偏振立体分光器 172 h>l  
8.24  消偏振截止滤光片 173 \qU.?V[2  
8.25  立体偏振分束器1 174 w ,CZ*/^  
8.26  立方偏振分束器2 177  1aAYBV<3  
8.27  相位延迟器 178 BwN>;g_  
8.28  红外截止器 179 ];|;")#=  
8.29  21层长波带通滤波器 180 wW1E 'Vy{  
8.30  49层长波带通滤波器 181 c20'{kH  
8.31  55层短波带通滤波器 182 <XfCQq/  
8.32  47 红外截止器 183 X[XSf=  
8.33  宽带通滤波器 184 *Y2d!9F}Sa  
8.34  诱导透射滤波器 186 SAa hkX  
8.35  诱导透射滤波器2 188 wkp|V{k  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 9%VNzPzf  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 i n^Rf` "  
8.35  增益平坦滤波器 193 - /s2'  
8.38  啁啾反射镜 1 196 rdL>yT/A  
8.39  啁啾反射镜2 198  mB:I8g7  
8.40  啁啾反射镜3 199 m;v/(d>  
8.41  带保护层的铝膜层 200 u/@dWeY[]  
8.42  增加铝反射率膜 201 d9hJEu!Lu  
8.43  参考文献 202 ZA;wv+hF=  
9  多层膜 204 [}/\W`C  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 igV4nL  
9.2  内部透过率 204 T]5JsrT  
9.3 内部透射率数据 205 D/jS4'$vA  
9.4  实例 206 p^LUyLG`  
9.5  实例2 210 Jk.Ec )w  
9.6  圆锥和带宽计算 212 TV>UD q  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 'WUevPmt  
10  光学薄膜的颜色 216 0 w"&9+kV  
10.1  导言 216 }v[$uT-q  
10.2  色彩 216 {$<X\\&r  
10.3  主波长和纯度 220 ijYSYX@  
10.4  色相和纯度 221 xl(];&A3  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 kCRP?sj  
10.6 色差 226 >^@/Ba$h  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 "[.adiw  
10.8  颜色渲染指数 234 V9 pKb X  
10.9  色差计算 235 && }'  
10.10  参考文献 236 &}1PH% 6  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 #du!tx ( _  
11.1  短脉冲 238 6 ]@H.8+  
11.2  群速度 239 Ny;(1N|&3  
11.3  群速度色散 241 c%uX+\-$  
11.4  啁啾(chirped) 245 y@|gG&f T  
11.5  光学薄膜—相变 245 .1yp}&e#  
11.6  群延迟和延迟色散 246 /=x) 9J  
11.7  色度色散 246 s!q6OVJ-  
11.8  色散补偿 249 Ksq{=q-T  
11.9  空间光线偏移 256 ,$,6%"'"  
11.10  参考文献 258 N1RZ  
12  公差与误差 260 pI>i1f=W  
12.1  蒙特卡罗模型 260 #:v e3gWl  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 0R,?$qM\  
12.2.1  误差工具 267 k,xY\r$  
12.2.2  灵敏度工具 271 ^/wvHu[#  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 b7It8  
12.2.2.2 灵敏度分布 275  R1YRqk  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Q'] _3  
12.3  参考文献 276 ?~e 8:/@  
13  Runsheet 与Simulator 277 hsVf/%  
13.1  原理介绍 277 w. gI0`  
13.2  截止滤光片设计 277 s@sr.'yU  
14  光学常数提取 289 qV$\.T>x  
14.1  介绍 289 j*m7&wOE  
14.2  电介质薄膜 289 K.cMuh  
14.3  n 和k 的提取工具 295 (u81p  
14.4  基底的参数提取 302 We#u-#k_O  
14.5  金属的参数提取 306 ,C88%k  
14.6  不正确的模型 306 .kSx>3  
14.7  参考文献 311 ZM/*cA!"  
15  反演工程 313 QvK-3w;=  
15.1  随机性和系统性 313 1&~u:RUXe  
15.2  常见的系统性问题 314 :,$:@  
15.3  单层膜 314 9-Bp=M  
15.4  多层膜 314 i0 ax`37  
15.5  含义 319 @, D 3$P8}  
15.6  反演工程实例 319 33lD`4i+  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 >A#wvQl7   
15.6.2 反演工程提取折射率 327 48CLnyYiF  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 gaaW:**y  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Kc+;"4/#q  
16.2  应力工具 335  T|NNd1>  
16.3  均匀性误差 339 >|L,9lR_b  
16.3.1  圆锥工具 339 "VxZnT  
16.3.2  波前问题 341 g&y'#,'Q~,  
16.4  参考文献 343 \}Jy=[  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 kAbRXID  
17.1  引言 345 " d3pkY  
17.2  操作数 345 &Avd  
18  如何在Function中编写脚本 351 =(ts~^  
18.1  简介 351 u+eA>{  
18.2  什么是脚本? 351 ~9JU_R^%m  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 N\?%944R  
18.4  基础 352 Ep/4o< N(  
18.4.1  Classes(类别) 352 rxu 6 #v F  
18.4.2  对象 352 m!3L/UZ  
18.4.3  信息(Messages) 352 s7 IaU|m  
18.4.4  属性 352 h V@C|*A  
18.4.5  方法 353 Yhl {'  
18.4.6  变量声明 353 c Q~}qE>I  
18.5  创建对象 354 $}0q=Lg%wv  
18.5.1  创建对象函数 355 oR>o/$z$)g  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 V`$Jan  
18.5.3 丢弃对象 356 `JyTS~v$  
18.5.4  总结 356 Tx%6whd/'  
18.6  脚本中的表格 357 E]`)  
18.6.1  方法1 357 Bi9b"*LN  
18.6.2  方法2 357 Fx2z lM&  
18.7 2D Plots in Scripts 358  &o$E1;og  
18.8 3D Plots in Scripts 359 'awL!P--  
18.9  注释 360 /gZrnd?  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 S 8mqz.  
18.11  一个更高级的脚本 362 qt5CoxeJ  
18.12  <esc>键 364 dg/OjiD[P  
18.13 包含文件 365 'NF_!D  
18.14  脚本被优化调用 366 [@Y<:6  
18.15  脚本中的对话框 368 Xxcv 5.ug  
18.15.1  介绍 368 ItGi2'}  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 `T2RaWR4=  
18.15.3  输入框函数 370 [OBj2=  
18.15.4  自定义对话框 371 8`Fo^c=j  
18.15.5  对话框编辑器 371 6%Ap/zvCZ>  
18.15.6  控制对话框 377 ZzPlIl}\  
18.15.7  更高级的对话框 380 rD)yEuYX  
18.16 Types语句 384 YXxaD@  
18.17 打开文件 385 ;u!qu$O  
18.18 Bags 387 !0:uM)_k  
18.13  进一步研究 388 9,=3D2x&  
19  vStack 389 I#QBJ#  
19.1  vStack基本原理 389 k`Nc<nN8  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 WUx}+3eWv  
19.3  五棱镜 393 _?&$@c  
19.4 光束距离 396 '"LrGvkZ  
19.5 误差 399 Xk%92Pto  
19.6  二向分色棱镜 399 n5 dFp%k  
19.7  偏振泄漏 404 h')@NnFP 1  
19.8  波前误差—相位 405  $6w[h7  
19.9  其它计算参数 405 laN:H mR8  
20  报表生成器 406 %7 h _D  
20.1  入门 406 mDz{8N9<FG  
20.2  指令(Instructions) 406 8#NtZ  
20.3  页面布局指令 406 p@]\ N  
20.4  常见的参数图和三维图 407 f3Ior.n(  
20.5  表格中的常见参数 408 TB 9{e!4  
20.6  迭代指令 408 & .VciSq6  
20.7  报表模版 408 22S4q`j  
20.8  开始设计一个报表模版 409 o@j]yA.5)  
21  一个新的project 413 ^c3~CD5H 3  
21.1  创建一个新Job 414 H%NIdgo}  
21.2  默认设计 415 @sRRcP~  
21.3  薄膜设计 416 e eb`Ao  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ?WE#%W7U  
21.5  显色指数计算 422 2iHD$tw  
21.6  电场分布 424 0FmYM@Wc  
后记 426 T!e ]=  
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aOWW ..|  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 KB49~7XjQ@  
a5jc8S>  
《Essential Macleod中文手册》
5BnO-[3  
i:W.,w%8  
目  录 :xISS  
S 4uX utd  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 /tI8JXcUK  
第1章 介绍 ..........................................................1 }}y$T(:l  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 C o v,#j j  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 =Tv|kJ| j  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17  4b]/2H  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 i356m9j  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 JVbR5"+.  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 /NfuR$oMd  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 bb}zn'xC  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 (A(7?eq  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 =W'a6)WE  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 *TQXE:vZ[  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 1'DD9d{ qN  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 "L^]a$&  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3T^f#UT  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 dPplZ,Y%  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 a@:(L"Or  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ZHT_o\  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 -d]-R ?mQ  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 HwTb753  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 !h3 $C\  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 <$bM*5sHF>  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 9jq}`$S{  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 &nkYJi(!  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 4FURm@C6  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ("07t/||  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 o1C1F}gxU  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 6'CZfs\  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 J%ng8v5ex  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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