线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1142
时间地点 &xB*Shp,B  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Wk7E&?-:6  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 L3HC-  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 #<==7X#  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 -5  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
/0qbRk i  
特邀专家介绍 FS=yc.Q_  
T5|kO:CbHq  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 L,.~VNy-  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 n_; s2,2r  
课程概要 D|Q7dIZm  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ms5?^kS2O  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 Y!oLNGY  
课程大纲 ?2#'>B  
1. Essential Macleod软件介绍 LA_{[VWYp>  
1.1 介绍软件 E"VF BKB  
1.2 创建一个简单的设计 \8$~ i  
1.3 绘图和制表来表示性能 *GoTN  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 w>9d^kU'  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 5b/ ~]v  
1.6 特定设计的公式技术 TaD;_)(  
1.7 交互式绘图 iii|;v ]+  
2. 光学薄膜理论基础 4@{?4k-cq  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 hsY?og_H  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 L$3lsu!4n  
3. 材料管理 +'c+X^_  
3.1 材料模型 @k h<b<a4  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 fWq*Op.]c  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 9h6Oq(0b8  
3.4 基板光学常数的提取 -_Z4)"k  
4. 光学薄膜设计优化方法 b9X*2pnWJ  
4.1 参考波长与g 1N(1h D  
4.2 四分之一规则 YX-~?Pl  
4.3 导纳与导纳图 7Q&-ObW  
4.4 斜入射光学导纳 8 5ET$YV  
4.5 光学薄膜设计的进展 BZ:tVfg.  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 {*B0lr`  
4.6.1 优化目标设置 ?[Y(JO#  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) R6(:l; W  
4.6.3 膜层锁定和链接 (&eF E;c  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 S j~SG  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 f/O6~I&g  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 lh'S_p8g  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 <$e|'}>A  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 exhU!p8  
5.5 如何在Function中编写脚本 T8A(W  
6. 光学薄膜系统案例 GqRXNs!  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 A`Dx]y  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 B ktRA  
6.3 Stack应用范例说明 -&Xv,:'?  
7. 薄膜性能分析 I<940PZ  
7.1 电场分布 TC/c5:)]  
7.2 公差与灵敏度分析 Oh$:qu7o0&  
7.3 反演工程 ?'P}ZC8P  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 !-7n69:G  
8. 真空技术 @p*)^D6E\  
8.1 常用真空泵介绍 [y@*vQw  
8.2 真空密封和检漏 ZEI,9`t!  
9. 薄膜制备技术  eo9/  
9.1 常见薄膜制备技术 V#dga5*]  
10. 薄膜制备工艺 QKj0~ia 5  
10.1 薄膜制备工艺因素 RJ3oI+gI  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ;`#R9\C=h  
10.3 光学薄膜监控技术 A! bG2{r  
11. 激光薄膜 )k,n}  
11.1 薄膜的损伤问题 nU_O|l9  
11.2 激光薄膜的制备流程 %BGg?&  
11.3 激光薄膜的制备技术 G@H!D[wd  
12. 光学薄膜特性测量 4uIYX  
12.1 薄膜光谱测量 2; ^ME\  
12.2 薄膜光学常数测量 \nZB@u;S  
12.3 薄膜应力测量 {zAI-?#*u  
12.4 薄膜损伤测量 oa:YAq T  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 [HQ)4xG  
mF*x&^ie  
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S\TXx79PhC  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
w2nReB z  
内容简介 ,_3hbT8Q  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ]X>yZec  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 G7CeWfS  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )SmnLvL  
6^Wep- $  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
[7v|bd  
目录 kMQ /9~  
Preface 1 ZUQ _u  
内容简介 2 Q6Gw!!Z5EA  
目录 i )Zr9 `3[  
1  引言 1 '}_r/l]K  
2  光学薄膜基础 2 nQc#AFg  
2.1  一般规则 2 EraGG"+  
2.2  正交入射规则 3 dDPQDIx  
2.3  斜入射规则 6 G>V6{g2Q  
2.4  精确计算 7 lxhb)]c ^>  
2.5  相干性 8 Z4VFfGCTL  
2.6 参考文献 10 sW[-qPK<  
3  Essential Macleod的快速预览 10 :skR6J  
4  Essential Macleod的特点 32 Q7865  
4.1  容量和局限性 33 k]@]a  
4.2  程序在哪里? 33 Uq  .6h  
4.3  数据文件 35 7<yc:}9nx  
4.4  设计规则 35 lgOAc,  
4.5  材料数据库和资料库 37 fM;,9  
4.5.1材料损失 38 I'uwJy_I\  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 So aqmY;+  
4.5.2 材料库 41 !__0Vk[s  
4.5.3导出材料数据 43 [C "\]LiX  
4.6  常用单位 43 Y 2 @8B6  
4.7  插值和外推法 46 K!-OUm5A  
4.8  材料数据的平滑 50 <gp?}Lk  
4.9 更多光学常数模型 54 VPUVPq~&  
4.10  文档的一般编辑规则 55 .;?!I_`  
4.11 撤销和重做 56 xl\Kj2^  
4.12  设计文档 57 p-[WpY3  
4.10.1  公式 58 75^6?#GS  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 c5YPV"X  
4.10.3  沉积密度 59 &3Zq1o  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Zzlf1#26\  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 >d/H4;8  
4.10.4  性能 61 =hPXLCeC  
4.10.5  保存设计和性能 64 "%-Vrb=:Y  
4.10.6  默认设计 64 o<`hj&s  
4.11  图表 64 "D(Lp*3hj&  
4.11.1  合并曲线图 67 Z?axrGmg0  
4.11.2  自适应绘制 68 ?E([Nc0T  
4.11.3  动态绘图 68 Ww7Ya]b.k  
4.11.4  3D绘图 69 X,QsE{  
4.12  导入和导出 73 &R94xh%@(  
4.12.1  剪贴板 73 -pu5O 9 @  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 cr1x CPJj  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ]b4WfIu  
4.13  背景 77 v 4ot08 C  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6\4-I^=B  
4.15  生成Rugate 84 1+x" 5<(W  
4.16  参考文献 91 A6&*VD  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 *pKTJP  
5.1  Jobs 92 Z>rY9VvWD  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 2B,O/3y  
5.3  输入材料 94 c3vb~l)  
5.4  设计数据文件夹 95 %MHb  
5.5  默认设计 95 Y=Vbs x  
6  细化和合成 97 ~^m Uu`@r  
6.1  优化介绍 97 )kD/ 8  
6.2  细化 (Refinement) 98 #z `W ,^C  
6.3  合成 (Synthesis) 100 t^rw@$"}  
6.4  目标和评价函数 101 ?"B] "%M&  
6.4.1  目标输入 102 rpR${%jc  
6.4.2  目标 103 n>M`wF>  
6.4.3  特殊的评价函数 104 &gXh:.  
6.5  层锁定和连接 104 %q{q.(M#  
6.6  细化技术 104 R@vcS=m7  
6.6.1  单纯形 105 %Sr+D{B  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ]R__$fl`8  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 >[}oH2oi  
6.6.2.1 Optimac参数 108 rd%%NnT"  
6.6.3  模拟退火算法 109 $<}c[Nm  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Zi!Ta"}8  
6.6.4  共轭梯度 111 $NXP)Lic)  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 )- C3z   
6.6.5  拟牛顿法 112 "W|A^@r}  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 \CbJU  
6.6.6  针合成 113 }r:o8+4  
6.6.6.1 针合成参数 114 sibYJKOy  
6.6.7 差分进化 114 \/A.j|by,>  
6.6.8非局部细化 115 S{@}ECla  
6.6.8.1非局部细化参数 115 TCtZ2 <'  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 qNp1<QO0  
6.7.1  细化 116 9Em#Ela  
6.7.2  合成 117 rqdwQ  
6.8  参考文献 117 o2 14V\  
7  导纳图及其他工具 118 |c_qq Bd  
7.1  简介 118 {T){!UVp!  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 / HTY>b  
7.2.1  四分之一波长规则 119 }f}.>B0#  
7.2.2  导纳图 120 xmW~R*^  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 .g*j]!_]  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 PnlI {d  
7.5  斜入射导纳图 141 okNo- \Dh!  
7.6  对称周期 141 sp9gz~Kq  
7.7  参考文献 142 d0 cL9&~qW  
8  典型的镀膜实例 143 NFK`,  
8.1  单层抗反射薄膜 145 U84W(X  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 @ZKf3,J0  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 G#M)5'Q]U  
8.4  W-膜层 148 \l%xuT  
8.5  V-膜层 149 ; * [:~5Wc  
8.6  V-膜层高折射基底 150 d[ N1zQW  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 wT1s;2%  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 NW3 c_]`=  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Z:; }  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 P&-o>mM  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 92+8zX  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 )G? qX.D  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 DL]tg [w{  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 v9$!v^U"D  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 =W(*0"RM  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 <=uYfi3,  
8.17  1/4波长堆栈 162 .8hI ad  
8.18  陷波滤波器 163 Mf}M/Fh  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 G=dzP}B'WA  
8.20  褶皱 165 2|1fb-AR  
8.21  消偏振分光器1 169 %x)b Z=An  
8.22  消偏振分光器2 171 5~Y`ikwxL  
8.23  消偏振立体分光器 172 f0<zK !  
8.24  消偏振截止滤光片 173 L74Mz]v  
8.25  立体偏振分束器1 174 E+td~&x  
8.26  立方偏振分束器2 177 jYsAL=oh,*  
8.27  相位延迟器 178 {4"V)9o-1>  
8.28  红外截止器 179 }`"`VLh  
8.29  21层长波带通滤波器 180 4 1_gak;  
8.30  49层长波带通滤波器 181 <v"o+  
8.31  55层短波带通滤波器 182 !-gU~0  
8.32  47 红外截止器 183 n,la<N]  
8.33  宽带通滤波器 184 &W `xZyb3  
8.34  诱导透射滤波器 186 >}5?`.K~Q*  
8.35  诱导透射滤波器2 188 )?n'ZhsX  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 rg/{5f  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 lame/B&nc  
8.35  增益平坦滤波器 193 Z$oy;j99y  
8.38  啁啾反射镜 1 196 |<%!9Z  
8.39  啁啾反射镜2 198 3v* ~CQy9  
8.40  啁啾反射镜3 199  cby#  
8.41  带保护层的铝膜层 200 L`NIYH<^  
8.42  增加铝反射率膜 201 _k-_&PR  
8.43  参考文献 202 xNz(LZ.c  
9  多层膜 204 J[ds.~ $  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 b@:OlZ~ %  
9.2  内部透过率 204 Io6/Fv>!  
9.3 内部透射率数据 205 T U%@_vYR  
9.4  实例 206 MNT~[Z9L5G  
9.5  实例2 210 $ /VQsb  
9.6  圆锥和带宽计算 212 d@%"B($nR  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 >J"IN I  
10  光学薄膜的颜色 216 8^mE<  
10.1  导言 216 &H(yLd[  
10.2  色彩 216 ]`^! ]Ql  
10.3  主波长和纯度 220 :qYp%Ub  
10.4  色相和纯度 221 OLw]BJXYaE  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 LZ*8YNp1'  
10.6 色差 226 mh }M|h5Im  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9hp&HL)BOa  
10.8  颜色渲染指数 234 Uqr>8|t?  
10.9  色差计算 235 Vns3859$8  
10.10  参考文献 236 p|UL<M9{a]  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ?H{[u rLn  
11.1  短脉冲 238 y@P%t9l  
11.2  群速度 239 (Wzp sDte  
11.3  群速度色散 241 igO>)XbsM  
11.4  啁啾(chirped) 245 9>}&dQ8  
11.5  光学薄膜—相变 245 K+g[E<x\=  
11.6  群延迟和延迟色散 246 )m%uSSx#  
11.7  色度色散 246 "CJVtO  
11.8  色散补偿 249 UBvp3 2p  
11.9  空间光线偏移 256 ]TV_ p[L0B  
11.10  参考文献 258 O&%'j  
12  公差与误差 260 |OQ]F  
12.1  蒙特卡罗模型 260 /qpSmRL  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ~/OY1~c  
12.2.1  误差工具 267 <O#&D|EMd|  
12.2.2  灵敏度工具 271 *dBy<dIy  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 }\4yU=JP K  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 mvn- QP~"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 XqH@3Ehk  
12.3  参考文献 276 "~KDm(D  
13  Runsheet 与Simulator 277 XcR=4q|7  
13.1  原理介绍 277 X+vKY  
13.2  截止滤光片设计 277 .qBc;u  
14  光学常数提取 289 !pU$'1D  
14.1  介绍 289 Y2|i>5/|<  
14.2  电介质薄膜 289 TykT(=  
14.3  n 和k 的提取工具 295 8PI%Z6  
14.4  基底的参数提取 302 \S}/2]* 1  
14.5  金属的参数提取 306 q'D Ts9Bj  
14.6  不正确的模型 306 1;B~n5C.   
14.7  参考文献 311 l u=a e<M  
15  反演工程 313 :X>Wd+lY:_  
15.1  随机性和系统性 313 [6GYYu\  
15.2  常见的系统性问题 314 ly0R'4j \  
15.3  单层膜 314 1M ?BSH{  
15.4  多层膜 314 r. 82RoG?G  
15.5  含义 319 MU<(O}  
15.6  反演工程实例 319 $4bc!  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 _!xrBdaJ  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 >?g@Nt8  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 i_qY=*a?y  
16.1  光学性质的热致偏移 329 *WE8J#]d  
16.2  应力工具 335 CmEqo;Is  
16.3  均匀性误差 339 zJQh~)  
16.3.1  圆锥工具 339 ZL|aB886  
16.3.2  波前问题 341 Bdo{zv&A  
16.4  参考文献 343 eORXyh\K  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 @ @[xTyA  
17.1  引言 345 x&B&lFmo 8  
17.2  操作数 345 *s6 x  
18  如何在Function中编写脚本 351 Y6{^cZ!=  
18.1  简介 351 <q63?Ms'  
18.2  什么是脚本? 351 /=2aD5r  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 --h\tj\U  
18.4  基础 352 ]b- 2:M  
18.4.1  Classes(类别) 352 -^&=I3bp  
18.4.2  对象 352 OGZD$j  
18.4.3  信息(Messages) 352 IDct!53~  
18.4.4  属性 352 VL%. maj  
18.4.5  方法 353 W(q3m;n  
18.4.6  变量声明 353 17hoX4T  
18.5  创建对象 354 C% -Tw]T$_  
18.5.1  创建对象函数 355 %=**cvVy  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 o78u>Oy  
18.5.3 丢弃对象 356 c^}G=Z1@  
18.5.4  总结 356 \Vc[/Qp7Bb  
18.6  脚本中的表格 357 *g5bdQ:Av~  
18.6.1  方法1 357 /x3*oO1  
18.6.2  方法2 357 oR#W@OK@is  
18.7 2D Plots in Scripts 358 0O3O^ 0  
18.8 3D Plots in Scripts 359 gt{kjrTv&  
18.9  注释 360 ?(ORk|)kU  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 /HIyQW\Ki-  
18.11  一个更高级的脚本 362 J[lC$X[  
18.12  <esc>键 364 SxF'2ii  
18.13 包含文件 365 _8G w Mj  
18.14  脚本被优化调用 366 gP_N|LuF"  
18.15  脚本中的对话框 368 \'|n.1Fr  
18.15.1  介绍 368 L0w6K0J4  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 BN*:*cmUl  
18.15.3  输入框函数 370 V?XQjH1X  
18.15.4  自定义对话框 371 cSL6V2F  
18.15.5  对话框编辑器 371 ^0]0ss;##R  
18.15.6  控制对话框 377 pg{VKrT`  
18.15.7  更高级的对话框 380 1$Hou   
18.16 Types语句 384 TV{GHB!p"  
18.17 打开文件 385 ElO|6kOBYG  
18.18 Bags 387 2"&GH1  
18.13  进一步研究 388 Pe`mZCd^  
19  vStack 389 ni;)6,i  
19.1  vStack基本原理 389 Ysm RY=3  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 @=kg K[t 9  
19.3  五棱镜 393 @a 9.s  
19.4 光束距离 396 8 063LWV  
19.5 误差 399 IfmQP s+f  
19.6  二向分色棱镜 399 k^ <]:B  
19.7  偏振泄漏 404 s|%R  
19.8  波前误差—相位 405  IuY9Q8  
19.9  其它计算参数 405 Nu7>G  
20  报表生成器 406 WK|5:V8E  
20.1  入门 406 AJyN lQ  
20.2  指令(Instructions) 406 py;p7y!gxA  
20.3  页面布局指令 406 $;5Q mKQ'  
20.4  常见的参数图和三维图 407 [8T{=+k  
20.5  表格中的常见参数 408 @)>Z+g  
20.6  迭代指令 408 ]i {yJ)i  
20.7  报表模版 408 sVx}(J  
20.8  开始设计一个报表模版 409 88HqP!m%P:  
21  一个新的project 413 q>_<\|?%x  
21.1  创建一个新Job 414 q7 PCMe  
21.2  默认设计 415 8-#kY}d.  
21.3  薄膜设计 416 1(p:dqGS  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Q6m8N  
21.5  显色指数计算 422 Pn!~U] A$%  
21.6  电场分布 424 ?R]`M_^&u!  
后记 426 0AHQ(+Ap  
Wt/;iq"  
Kk^*#vR  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 44KoOY_  
||hQ*X<m>  
《Essential Macleod中文手册》
prZ ,4\  
mx^Ga=: ?  
目  录 +/[M Ex=   
+q&Hj|;8r  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 )Qb,zS6  
第1章 介绍 ..........................................................1 i"&FW&W  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 "3^tVX%$\[  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 [wQ48\^  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 uZ6krI  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 +W4}&S  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 v+LJx    
第7章 设计窗口 .................................................................. 62  GK/Po51  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 HAjl[c  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ^+x?@$rq  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Et3I(X3  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Db"mq'vT  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 K/W=r  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 +gd5&  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 o*Qa*<n  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 gGM fy]]R  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 <>6j>w_|  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 $z=%e#(!I  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5{'hsC  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 AJ7w_'u=@  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 .D W>c}1  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 m?kiGC&m  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 c`<2&ke  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 2j+w5KvU  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 7IxeSxXH  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 z>N[veX%  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 VKttJok1  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 `=Ip>7T&  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 0j@mzd2  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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