线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:971
时间地点 zm^ 5WH  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 + hMF\@  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ^|%7}=e  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 j(Tk6S  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 1);E!D[  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 "I45=nf  
6E:5w9_=c  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 VD2o#.7*eu  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 [N*`3UZk"  
课程概要 2H`;?#Uq:  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 fH;lh-   
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ]+AgXUrbOD  
课程大纲 KU;m.{  
1. Essential Macleod软件介绍 M cbiO)@I  
1.1 介绍软件 \'Ca%j  
1.2 创建一个简单的设计 lKy4Nry9  
1.3 绘图和制表来表示性能 [{rne2sA  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 =&;}#A%m  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ny+_&l^R~(  
1.6 特定设计的公式技术 v|YJ2q?19  
1.7 交互式绘图 A,GJ6qp3  
2. 光学薄膜理论基础 ~bX ) %jC  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 O9MBQNwjA  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4 !M6 RL8{  
3. 材料管理 )mRKIM}*W  
3.1 材料模型 R~XNF/QMl  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 iMs(Ywak]  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 wHhIa3_v  
3.4 基板光学常数的提取 /)xQ# yfX  
4. 光学薄膜设计优化方法 Ya,(J0l  
4.1 参考波长与g SrSm%Dv  
4.2 四分之一规则 ; WsV.n  
4.3 导纳与导纳图 o|c"W}W  
4.4 斜入射光学导纳 )]m_ L$9  
4.5 光学薄膜设计的进展 m_>~e}2'A  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 0'tm.,  
4.6.1 优化目标设置 #Xd#Nc j  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) &pLCN[a  
4.6.3 膜层锁定和链接 ,DWC=:@X  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 08E,U  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 5[>N[}Ck>  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 1"HSM =p  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 wi-{&  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 =J&aN1Hgt  
5.5 如何在Function中编写脚本 N`i`[ f  
6. 光学薄膜系统案例 H.: [# a  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 >R8eAR$N  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ffE>%M*  
6.3 Stack应用范例说明 Z~Z+Yt;,9a  
7. 薄膜性能分析  .)XJ-  
7.1 电场分布 t%>x}b"2T  
7.2 公差与灵敏度分析 ;Ajy54}7  
7.3 反演工程 ^Dhu8C(  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 O\qY? )  
8. 真空技术 KdTna6nY  
8.1 常用真空泵介绍 834dsl+U  
8.2 真空密封和检漏 wKs-<b%;  
9. 薄膜制备技术 TANt*r7  
9.1 常见薄膜制备技术 /w*;|4~Bf  
10. 薄膜制备工艺 )VCRbz"[g  
10.1 薄膜制备工艺因素 QG=&{-I~[3  
10.2 薄膜均匀性修正技术 HxH=~B1"P  
10.3 光学薄膜监控技术 ;Cqjg.wkB  
11. 激光薄膜 -}2e+DyAy  
11.1 薄膜的损伤问题 wC[Bh^]  
11.2 激光薄膜的制备流程 1f`=U 0  
11.3 激光薄膜的制备技术 jo8;S?+<|?  
12. 光学薄膜特性测量 Z ]WA-Q6n  
12.1 薄膜光谱测量 E8.xmTq  
12.2 薄膜光学常数测量 }D&fw=r"M  
12.3 薄膜应力测量 IKV:J9  
12.4 薄膜损伤测量 VpMPTEZ*L  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 0Ku%9wh-  
n/]$k4h  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
)z#M_[zC>  
内容简介 [,fdNxc8  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 R7 *ek_  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \3@AC7  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \dag~b<  
{1ic* cZS  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
35[8XD  
目录 2 <@27 C5  
Preface 1 D;0xROW8{  
内容简介 2 C=/nZGG  
目录 i ;Q =EI%_tv  
1  引言 1 H-,RzL/  
2  光学薄膜基础 2 cAE.I$T(  
2.1  一般规则 2 -cHX3UAEI  
2.2  正交入射规则 3 h}U\2$5  
2.3  斜入射规则 6 }3Y3f).ZW  
2.4  精确计算 7 H19CVc\B  
2.5  相干性 8 z<F.0~)jb  
2.6 参考文献 10 :K6(`J3Y"^  
3  Essential Macleod的快速预览 10 "HQH]?!k  
4  Essential Macleod的特点 32 +$+'|w  
4.1  容量和局限性 33 KD~F5aS`[  
4.2  程序在哪里? 33 L. xzI-I@D  
4.3  数据文件 35 4%I(Z'*Cx  
4.4  设计规则 35 &,Xs=Lv mq  
4.5  材料数据库和资料库 37 J dDP  
4.5.1材料损失 38 Xx0}KJ q~"  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 5)yQrS !{:  
4.5.2 材料库 41 0F<O \  
4.5.3导出材料数据 43 f9FsZD  
4.6  常用单位 43 fx QN  
4.7  插值和外推法 46 $[Fh|%\  
4.8  材料数据的平滑 50 kE".v|@  
4.9 更多光学常数模型 54 D>O{>;y[  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ;6} *0V_!k  
4.11 撤销和重做 56 8F<Qc*'  
4.12  设计文档 57 X~Li`  
4.10.1  公式 58 %XqLyeOS  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 N3nk\)V\E  
4.10.3  沉积密度 59 PaEsz$mgy  
4.10.4 平行和楔形介质 60 B*owV%  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 e6f!6a+%  
4.10.4  性能 61 .O'gD.|^N  
4.10.5  保存设计和性能 64 kl|KFdA;  
4.10.6  默认设计 64 V\kf6E  
4.11  图表 64 >29eu^~nh  
4.11.1  合并曲线图 67 T!hU37g h?  
4.11.2  自适应绘制 68 G2kr~FG  
4.11.3  动态绘图 68 9b !+kJD  
4.11.4  3D绘图 69 dxkXt  k  
4.12  导入和导出 73 0n_Cuh\  
4.12.1  剪贴板 73 g2hxWf"  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 kvdzD6T 9  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 m4n J9<-  
4.13  背景 77 M)#R_(Q5{  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 KW.S)+<H&  
4.15  生成Rugate 84 ~ S R:,R  
4.16  参考文献 91 3yXF| yV  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 VbtFM=Dg  
5.1  Jobs 92 4kA/W0 VG  
5.2  创建一个新Job(工作) 93  { Lt \4h  
5.3  输入材料 94 }d)>pH  
5.4  设计数据文件夹 95 cJm!3X  
5.5  默认设计 95 R$*{@U  
6  细化和合成 97 fh \<tnY  
6.1  优化介绍 97 2&]UFg:8Q  
6.2  细化 (Refinement) 98 &K`[SX=  
6.3  合成 (Synthesis) 100 fZXJPy;n  
6.4  目标和评价函数 101 }_M .-Xm  
6.4.1  目标输入 102 -?!Z/#i4  
6.4.2  目标 103 LIVVb"V|,  
6.4.3  特殊的评价函数 104 QHsS|\u  
6.5  层锁定和连接 104 @yB!?x  
6.6  细化技术 104 k-T_,1l{  
6.6.1  单纯形 105 ^$_a_ft#  
6.6.1.1 单纯形参数 106 g?i_10Xlp  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 -b(:kAwStk  
6.6.2.1 Optimac参数 108 q[b-vTzI  
6.6.3  模拟退火算法 109 -2tX 15,  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 sj`9O-?49  
6.6.4  共轭梯度 111 \x x<\8Qr_  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 c?eV8h1G  
6.6.5  拟牛顿法 112 "F|OJ@ M  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 *Yvfp{B  
6.6.6  针合成 113 X<(h)&E  
6.6.6.1 针合成参数 114 4%p5X8|\ih  
6.6.7 差分进化 114 TRAs5I%  
6.6.8非局部细化 115 iAT&C`,(&  
6.6.8.1非局部细化参数 115 S_6`.@B}  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 pp#Kb 2*  
6.7.1  细化 116 9))%tYN  
6.7.2  合成 117 E[htNin.B~  
6.8  参考文献 117 ?Yg K]IxD  
7  导纳图及其他工具 118 h.4;-&  
7.1  简介 118 =YZp,{T  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 dlK#V)  
7.2.1  四分之一波长规则 119 c.,:r X0S  
7.2.2  导纳图 120 p0$K.f| ^  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &N*S   
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 jL%-G  
7.5  斜入射导纳图 141 Fm,A<+l@u  
7.6  对称周期 141 `-s+  zG  
7.7  参考文献 142 8o4<F%ot  
8  典型的镀膜实例 143 aiw~4ix  
8.1  单层抗反射薄膜 145 /n?5J`6  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 zG@9-s* L  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @'R4zJ&+S  
8.4  W-膜层 148 vo uQ.utl  
8.5  V-膜层 149 x7Ly,  
8.6  V-膜层高折射基底 150 \D,0  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 C+ r--"Z  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +2B{"Czm  
8.9  四层抗反射薄膜 153 52l|  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 _ZzPy;[i?  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qJ"dkT*  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 -1S+fUkiK/  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ID'@}69.S  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 #B`"B  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 jDgiH}  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $./JA) `  
8.17  1/4波长堆栈 162 k%NY,(:(  
8.18  陷波滤波器 163 y @Y@"y  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164  T_jwj N  
8.20  褶皱 165 N##3k-0Ao  
8.21  消偏振分光器1 169 og. dYs7W4  
8.22  消偏振分光器2 171 z O$SL8U  
8.23  消偏振立体分光器 172 *[W!ng  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Ao`9fI#q  
8.25  立体偏振分束器1 174 Gk799SDL  
8.26  立方偏振分束器2 177 (sJ{27b_  
8.27  相位延迟器 178 r]BB$^@@V  
8.28  红外截止器 179 i]hFiX  
8.29  21层长波带通滤波器 180 %Dsa ~{  
8.30  49层长波带通滤波器 181 RJF1~9  
8.31  55层短波带通滤波器 182 XuR!9x^5  
8.32  47 红外截止器 183 E;VW6[M  
8.33  宽带通滤波器 184 wzo-V^+q  
8.34  诱导透射滤波器 186 i0p"q p  
8.35  诱导透射滤波器2 188 a_QO)  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 'n!;7*  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 L-@j9hU{  
8.35  增益平坦滤波器 193 b0LQ$XM>8  
8.38  啁啾反射镜 1 196 q* Ns]f'a  
8.39  啁啾反射镜2 198 7gD$Q  
8.40  啁啾反射镜3 199 <diI*H<G  
8.41  带保护层的铝膜层 200 $Xz9xzOR  
8.42  增加铝反射率膜 201 cQgmRHZ]  
8.43  参考文献 202 4d0PW#97.  
9  多层膜 204 G:u[Lk#6K  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 A8c'CMEm  
9.2  内部透过率 204 QE< 63|  
9.3 内部透射率数据 205 V%e'H>EC  
9.4  实例 206 *tz"T-6O  
9.5  实例2 210 |4X:>Ut]  
9.6  圆锥和带宽计算 212 w{2V7*+l  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 1K^/@^  
10  光学薄膜的颜色 216 kwGj 7'  
10.1  导言 216 YDjQ&EH  
10.2  色彩 216 f_D1zU^  
10.3  主波长和纯度 220 *|euC"5c  
10.4  色相和纯度 221 gA~Ih  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 M9bb,`X>Q  
10.6 色差 226 -BQM i0  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 I \ vu?$w  
10.8  颜色渲染指数 234 z ; :E~;  
10.9  色差计算 235 0lmoI4bW}s  
10.10  参考文献 236 {v;Y}o-p  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 {hg,F?p '  
11.1  短脉冲 238 _e~EQ[,  
11.2  群速度 239 O_F<VV*MFQ  
11.3  群速度色散 241 Fo?2nQ<  
11.4  啁啾(chirped) 245 x0Tb7y`  
11.5  光学薄膜—相变 245 m&2< ?a}l  
11.6  群延迟和延迟色散 246 <ezvz..g  
11.7  色度色散 246 $D9JsUij  
11.8  色散补偿 249 PJA 1/"  
11.9  空间光线偏移 256 J"6_H =s   
11.10  参考文献 258 er l_Gg  
12  公差与误差 260 &)xoR4!2  
12.1  蒙特卡罗模型 260 5f}63as  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 2&$A x  
12.2.1  误差工具 267 O$$s]R6  
12.2.2  灵敏度工具 271 r<&d1fM;X  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ) I-8 .  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 %\r4c*O1q  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 (O&ooM* o  
12.3  参考文献 276 o5Pq>Y2T  
13  Runsheet 与Simulator 277 .f(x9|K^  
13.1  原理介绍 277 og2]B\mN4  
13.2  截止滤光片设计 277 BszkQ>#6  
14  光学常数提取 289 g&BF#)7C  
14.1  介绍 289 /:U\U_j  
14.2  电介质薄膜 289 DJrA@hm/Y  
14.3  n 和k 的提取工具 295 m:p1O3[R  
14.4  基底的参数提取 302 Wv(VV[?/&  
14.5  金属的参数提取 306 i/)Uj-*G)  
14.6  不正确的模型 306 }4eSB  
14.7  参考文献 311 mI"|^!L  
15  反演工程 313 oWx! 'K6]V  
15.1  随机性和系统性 313 =C<_rBY  
15.2  常见的系统性问题 314 uiDR}   
15.3  单层膜 314 [[[p@d/Y  
15.4  多层膜 314 JRU)AMMU&  
15.5  含义 319 c1MALgK~}\  
15.6  反演工程实例 319 /A <L  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 G.T}^ xHmL  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 IU Dp5MIuR  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 7z F29gC  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Mg^GN -l  
16.2  应力工具 335 E>SnH  
16.3  均匀性误差 339 j>?c]h{-  
16.3.1  圆锥工具 339 &*MwKr<y  
16.3.2  波前问题 341 Ej6vGC.,  
16.4  参考文献 343 FeSe^^dW  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 EkjO4=~UC  
17.1  引言 345 @uT\.W:Q2  
17.2  操作数 345 [gH vI  
18  如何在Function中编写脚本 351 a7OD%yQ  
18.1  简介 351 LA"`8  
18.2  什么是脚本? 351 XQlK}AK  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 }@a_x,O/x}  
18.4  基础 352 [",W TZ:  
18.4.1  Classes(类别) 352 oryoGy=(yk  
18.4.2  对象 352 ^U:pv0Qz  
18.4.3  信息(Messages) 352 P) GBuW  
18.4.4  属性 352 ic?6p  
18.4.5  方法 353 #Du1(R  
18.4.6  变量声明 353 /lAt&0  
18.5  创建对象 354 9<\wa/#  
18.5.1  创建对象函数 355 IY,&/MCh  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 F!'b_ gmz  
18.5.3 丢弃对象 356 kF6X?mqgD  
18.5.4  总结 356 Q@ /wn  
18.6  脚本中的表格 357 >RF[0s'-  
18.6.1  方法1 357 JBi<TDm/  
18.6.2  方法2 357 dO rgqz`e  
18.7 2D Plots in Scripts 358 hD # Yz<  
18.8 3D Plots in Scripts 359 <E$5LP;:  
18.9  注释 360 LuR.;TiW  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 *9?-JBT&F  
18.11  一个更高级的脚本 362 )}n`MRDB  
18.12  <esc>键 364 7(Y!w8q&^  
18.13 包含文件 365 wdl6dLu  
18.14  脚本被优化调用 366 ,j9}VnW)  
18.15  脚本中的对话框 368 S-'iOJ 1]  
18.15.1  介绍 368 3vNoD  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 V0ulIKck  
18.15.3  输入框函数 370 f}  eZX  
18.15.4  自定义对话框 371 [S-NGip  
18.15.5  对话框编辑器 371 C!RxMccTh  
18.15.6  控制对话框 377 YG"P:d;s  
18.15.7  更高级的对话框 380 eP[azC"G[  
18.16 Types语句 384 9[6xo!  
18.17 打开文件 385 ##1[/D(  
18.18 Bags 387 Dr,{V6^  
18.13  进一步研究 388 QZt/Rm>W0  
19  vStack 389 <iJ->$  
19.1  vStack基本原理 389 $*L@y m  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Qighvei  
19.3  五棱镜 393 cz&Qoyh{;  
19.4 光束距离 396 r?[PIf  
19.5 误差 399 Xk(c2s&  
19.6  二向分色棱镜 399 yhgHwES"  
19.7  偏振泄漏 404 9IC"p<D  
19.8  波前误差—相位 405 'zi5ihiT  
19.9  其它计算参数 405 "A,]y E  
20  报表生成器 406 y{U'\  
20.1  入门 406 !)_80O1  
20.2  指令(Instructions) 406 Y@_ i32,r  
20.3  页面布局指令 406 76mQ$ze  
20.4  常见的参数图和三维图 407 I_'vVbK+>  
20.5  表格中的常见参数 408 (9fqUbG  
20.6  迭代指令 408 FyQ  
20.7  报表模版 408 gWv/3hWWB  
20.8  开始设计一个报表模版 409 P0k|33;7L  
21  一个新的project 413 "xdXHuX  
21.1  创建一个新Job 414 o @~XX@5l  
21.2  默认设计 415 b3<<4Vf  
21.3  薄膜设计 416 G@ BrU q  
21.4  误差的灵敏度计算 420 -Ufd+(   
21.5  显色指数计算 422 }bAd@a9>3  
21.6  电场分布 424 .kBi" p&  
后记 426 YJ. 'Yc  
:7@"EW  
b ]1SuL  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 =JX.* MEB  
#@ 3RYx  
《Essential Macleod中文手册》
O&E1(M|*>  
qYGnebn@\  
目  录 !gW$A-XD  
vA;ml$  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :sk7`7v  
第1章 介绍 ..........................................................1 xHZx5GJp9  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 LN" bGe  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 `-qSvjX  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 2W$c%~j$2  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 )}]<o |'  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 K>w}(td  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 >p}d:t/  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ( y'i{:B  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 "|.>pD#0&  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 #:DDx5%x<b  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 bhnm<RZ  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 y%v<Cp@R  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 UI_|VU>J  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 J &u&G7#S  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 hy3[MOD$G  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 rm1R^ n  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 9Rb-QI  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 lVARe3#  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Gx y>aS3  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ;!Ojb  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 rs=wEMq/  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 PF1!aAvVb  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 zTAt% w5  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 s~IOc%3  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 QKE$>G  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 cx1U6A+  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 p! zC  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 B.'@~$  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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