线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1311
时间地点 5-3gsy/Mo  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 r9t{/})A  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 b gD Dys  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 C`#N Q*O  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 "Jwz.,Y\  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
/vV 0$vg  
特邀专家介绍 qB:`tHy  
w[+!c-A:H  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 wS^-o  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 & vIKNGJ^  
课程概要 UetmO`qju  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 -)Vj08aP  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 w:N2 xI  
课程大纲 b7,qzh  
1. Essential Macleod软件介绍 K@,VR3y /  
1.1 介绍软件 gJ7$G3&oZg  
1.2 创建一个简单的设计 evR=Z\ _  
1.3 绘图和制表来表示性能 `^}9= Q'r  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 <@=NDUI3*,  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) o99 a=x6  
1.6 特定设计的公式技术 w}i.$Qt  
1.7 交互式绘图 19vD(KC<  
2. 光学薄膜理论基础 P}I*SV0  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 =ht@7z8QM  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ?7+ 2i\L  
3. 材料管理 6GN'rVr!Z  
3.1 材料模型 ')aYkO{%sb  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 {HU48v"W  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 o EN_,cUp  
3.4 基板光学常数的提取 s^ a`=kO  
4. 光学薄膜设计优化方法 QHh#O+by#  
4.1 参考波长与g k$>T(smh  
4.2 四分之一规则 k);!H+  
4.3 导纳与导纳图 )?WoL Ejq  
4.4 斜入射光学导纳 ;$i'A&)OC  
4.5 光学薄膜设计的进展 IW#(ICeb  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 x'qgpG}?]  
4.6.1 优化目标设置 %xRS9A 4  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) S!]}}fKEFm  
4.6.3 膜层锁定和链接 MI}D%n*  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 7ou^wt+%  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 meWAm?8RI  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4HJrR^  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 %([c4el>\F  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 iiTUhO )  
5.5 如何在Function中编写脚本 [ n2udV  
6. 光学薄膜系统案例 #o RUH8  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 * y B-N;I  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 kYAvzuGRb  
6.3 Stack应用范例说明 rBf?kDt6l  
7. 薄膜性能分析 M@\'Y$)Y{  
7.1 电场分布 Fk(5y)  
7.2 公差与灵敏度分析 cOQy|v`KD,  
7.3 反演工程 t/Fe"T[,V  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 "ir*;|  
8. 真空技术 :9b RuUm  
8.1 常用真空泵介绍 =-qsz^^a-  
8.2 真空密封和检漏 qo;\dp1  
9. 薄膜制备技术 )R4<* /C:w  
9.1 常见薄膜制备技术 J (h>  
10. 薄膜制备工艺 KB = z{g  
10.1 薄膜制备工艺因素 q*O KA5  
10.2 薄膜均匀性修正技术 5o/rV.I  
10.3 光学薄膜监控技术 Pa}vmn1$  
11. 激光薄膜 ?la_ +;m  
11.1 薄膜的损伤问题 Eg*3**gTO  
11.2 激光薄膜的制备流程 w^gh&E  
11.3 激光薄膜的制备技术 .D .Rn/  
12. 光学薄膜特性测量 `cpcO  
12.1 薄膜光谱测量 6{'6_4;Fv(  
12.2 薄膜光学常数测量 [/G;XHL;?  
12.3 薄膜应力测量 )a\h5nQI)  
12.4 薄膜损伤测量 ,k!a3"4+TJ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 &}O!l'  
.KN]a"]  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
}Kt?0  
内容简介 @nu/0+8h{  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 37xxVbik  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 p0K;m%  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m+vEs,W.  
h86={@Le  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
BvF_9  
目录 Q8?D}h  
Preface 1 Z<W6Avr  
内容简介 2 ^A`(  
目录 i !\1W*6U8;  
1  引言 1 " 44?n <1  
2  光学薄膜基础 2 Tm52=+uf$  
2.1  一般规则 2 rzDJH:W{2  
2.2  正交入射规则 3 $sZHApJV+  
2.3  斜入射规则 6 OU@x1G{Cy  
2.4  精确计算 7 s.'\&B[  
2.5  相干性 8 P-[K*/bPw  
2.6 参考文献 10 e6lOmgHn5  
3  Essential Macleod的快速预览 10 zF&UdS3  
4  Essential Macleod的特点 32 *GP_ut%  
4.1  容量和局限性 33 RFY!o<   
4.2  程序在哪里? 33 ^z^e*<{WEl  
4.3  数据文件 35 OPW"AB J  
4.4  设计规则 35 `Xdxg\|  
4.5  材料数据库和资料库 37 A@(h!Cq  
4.5.1材料损失 38 S7{.liHf  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 .To:tN#  
4.5.2 材料库 41 F|TMpH/  
4.5.3导出材料数据 43 D^55:\4(  
4.6  常用单位 43 v&2@<I>  
4.7  插值和外推法 46 DA`sm  
4.8  材料数据的平滑 50 Aq%^>YAp  
4.9 更多光学常数模型 54 bpa O`[*  
4.10  文档的一般编辑规则 55 xc.D!Iav  
4.11 撤销和重做 56  /;6@M=6u  
4.12  设计文档 57 -WvgK"k  
4.10.1  公式 58 g)qnjeSs]  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 orH0M!OtS!  
4.10.3  沉积密度 59 BK9x`Oo2  
4.10.4 平行和楔形介质 60 s}9tK(4v  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 p''"E$B/(  
4.10.4  性能 61 1Dp @n  
4.10.5  保存设计和性能 64 f~nt!$  
4.10.6  默认设计 64 l/zC##1+.  
4.11  图表 64 bDBO+qA  
4.11.1  合并曲线图 67 W#I:j: p  
4.11.2  自适应绘制 68 V}fKV6 v9  
4.11.3  动态绘图 68 =4<S8Cp  
4.11.4  3D绘图 69 r/hyW6e_  
4.12  导入和导出 73 .*-w UBr  
4.12.1  剪贴板 73 9<h]OXv  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ikN!ut  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 68<Z\WP  
4.13  背景 77 Kt,yn A  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 zX [ r  
4.15  生成Rugate 84 )9L pX  
4.16  参考文献 91 SiqX1P  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 {lTxB'W@d  
5.1  Jobs 92 $KWYe{#  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 1"&;1Ts  
5.3  输入材料 94 h^+C)6(58n  
5.4  设计数据文件夹 95 Ocwp]Mut&  
5.5  默认设计 95 b>= Wq  
6  细化和合成 97 Ldhk^/+  
6.1  优化介绍 97 30 [#%_* o  
6.2  细化 (Refinement) 98 7X{bB  
6.3  合成 (Synthesis) 100 *UBP]w  
6.4  目标和评价函数 101 $dh4T";  
6.4.1  目标输入 102 &49$hF g6"  
6.4.2  目标 103 ? x"HX|n  
6.4.3  特殊的评价函数 104 [AZ aT  
6.5  层锁定和连接 104 W .`Xm(y  
6.6  细化技术 104 ] @)!:<+  
6.6.1  单纯形 105 gFs/012{  
6.6.1.1 单纯形参数 106 T3 9C lH  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107  6Z&u  
6.6.2.1 Optimac参数 108 .3&a{IxM]  
6.6.3  模拟退火算法 109 mw(c[.*%  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 &^7uv0M<y  
6.6.4  共轭梯度 111 WVWS7N\  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ihiuSF<NaQ  
6.6.5  拟牛顿法 112 ]oeuIRyQ  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Q:kVCm/;  
6.6.6  针合成 113 Y62u%':X  
6.6.6.1 针合成参数 114 TD{=L*{+  
6.6.7 差分进化 114 r%F(?gKXkd  
6.6.8非局部细化 115 $xA J9_2P  
6.6.8.1非局部细化参数 115 |O(-CDQe  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 O}MZ-/z=o~  
6.7.1  细化 116 b H"}w$!>r  
6.7.2  合成 117 i}`_H^  
6.8  参考文献 117 M U?{?5  
7  导纳图及其他工具 118 &I RA=nJ  
7.1  简介 118 VX;zZ`BJ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 cZe'!CQS  
7.2.1  四分之一波长规则 119 n{64g+  
7.2.2  导纳图 120 au~]  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 9^PRX  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 *M wfod  
7.5  斜入射导纳图 141 )WVItqQKV  
7.6  对称周期 141 \5Vp6^  
7.7  参考文献 142 tE]5@b,R  
8  典型的镀膜实例 143 x2C/L  
8.1  单层抗反射薄膜 145 7|QGY7Tf  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 )X~Pr?52?  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8 "_Bq  
8.4  W-膜层 148 4ZI!,lv*  
8.5  V-膜层 149 \P l,' 1%  
8.6  V-膜层高折射基底 150 )W8L91-  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 OL=ET)Y  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,!6M* |  
8.9  四层抗反射薄膜 153 _%wK}eH+sy  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ]{!!7Zz  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 As@ihB+(\  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 pbDw Lo]  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 1C_'H.q<=  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 T-9k<,>?  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ^:4L6  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $ViojW>  
8.17  1/4波长堆栈 162 T?X^0UdJj  
8.18  陷波滤波器 163 k42b:W5%  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 xLx"*jyL  
8.20  褶皱 165 ~`t%M?l  
8.21  消偏振分光器1 169 !8xKf*y  
8.22  消偏振分光器2 171  yS[z2:!  
8.23  消偏振立体分光器 172 ybZ}  
8.24  消偏振截止滤光片 173 i8Fs0U4"  
8.25  立体偏振分束器1 174 3`58ah  
8.26  立方偏振分束器2 177 Z-(} l2\  
8.27  相位延迟器 178 k)`$%[K8  
8.28  红外截止器 179 PZys  u  
8.29  21层长波带通滤波器 180 bh6d./  
8.30  49层长波带通滤波器 181 M#OH Y *  
8.31  55层短波带通滤波器 182 r\(v+cd  
8.32  47 红外截止器 183 hPa n  
8.33  宽带通滤波器 184 i?F[||O"$  
8.34  诱导透射滤波器 186 TdQ ]G2  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Rl_.;?v"!  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 %_R$K#T^,  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 aXe{U}eow  
8.35  增益平坦滤波器 193 "hWJ3pi{o{  
8.38  啁啾反射镜 1 196 k/G7.)C  
8.39  啁啾反射镜2 198 sN m,Fmuz:  
8.40  啁啾反射镜3 199 CN7 k?JO<  
8.41  带保护层的铝膜层 200 !w q4EV  
8.42  增加铝反射率膜 201 ^8:VWJM  
8.43  参考文献 202 '!!e+\h#  
9  多层膜 204 np\st7&f6  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 tXt:HVN  
9.2  内部透过率 204 u7HvdLql  
9.3 内部透射率数据 205 %c]nWR+/  
9.4  实例 206 oEJaH  
9.5  实例2 210 tp Xa*6  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )ZGYhE  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 D!oZ?dGCo6  
10  光学薄膜的颜色 216 2\VAmPG.Zs  
10.1  导言 216 {AOG"T&<  
10.2  色彩 216 q]px(  
10.3  主波长和纯度 220 F\5X7 ditD  
10.4  色相和纯度 221 & g:%*>7P  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 A t{U~^  
10.6 色差 226 \yNQQ$B  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 u?F (1iN =  
10.8  颜色渲染指数 234 ^|#>zCt^  
10.9  色差计算 235 n@ 4@,  
10.10  参考文献 236 }|Uj"e  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 RU0i#suiz  
11.1  短脉冲 238 Uo2+:p  
11.2  群速度 239 s`"OM^[-  
11.3  群速度色散 241 vQ 4}WtvA  
11.4  啁啾(chirped) 245 1?(cmXj  
11.5  光学薄膜—相变 245 Okpwh kPL5  
11.6  群延迟和延迟色散 246 p%F8'2)}  
11.7  色度色散 246 3cqQL!Gm  
11.8  色散补偿 249 eIg+PuQD]  
11.9  空间光线偏移 256 FEF"\O|Q  
11.10  参考文献 258 cGNvEM(4AV  
12  公差与误差 260 ocF>LR%P  
12.1  蒙特卡罗模型 260 IU|kNBo  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 O~27/  
12.2.1  误差工具 267 kn}z gSO  
12.2.2  灵敏度工具 271 oV9z(!X/  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >SoO4i8  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 DzC Df@TB"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 C/G]v*MBQ  
12.3  参考文献 276 :&qhJtGo  
13  Runsheet 与Simulator 277 CbOCk:,g5  
13.1  原理介绍 277 yHNuU)Ft  
13.2  截止滤光片设计 277 O$qtq(Q%  
14  光学常数提取 289 jH>8bXQqZ  
14.1  介绍 289 R,F gl2  
14.2  电介质薄膜 289 ([R")~`(l2  
14.3  n 和k 的提取工具 295 _A{+H^,  
14.4  基底的参数提取 302 =A@>I0(7  
14.5  金属的参数提取 306 vT c7an6fy  
14.6  不正确的模型 306 ;F5"}x  
14.7  参考文献 311 -#.< 12M  
15  反演工程 313 oQT2S>cm^  
15.1  随机性和系统性 313 *KJB>W%@uM  
15.2  常见的系统性问题 314 7?J3ci\  
15.3  单层膜 314 >;4!O%F  
15.4  多层膜 314 <sX VW  
15.5  含义 319 j13DJ.xu  
15.6  反演工程实例 319 !`&\Lx_  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320  l{$[}<  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ?59'dGnz_  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 L0Y0&;y|R  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ~$<UE}qp  
16.2  应力工具 335 E!J=8C.:  
16.3  均匀性误差 339 [A5W+pDm  
16.3.1  圆锥工具 339 4w4^yQE  
16.3.2  波前问题 341 m\ S\3n  
16.4  参考文献 343 7Xg?U'X  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 w^q7n  
17.1  引言 345 ObG=>WPJa  
17.2  操作数 345 6L9, 'Bg  
18  如何在Function中编写脚本 351 5\ hd4  
18.1  简介 351 y$b]7O  
18.2  什么是脚本? 351 T95t"g?p  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 lpgd#vr  
18.4  基础 352 G.\l qYrXU  
18.4.1  Classes(类别) 352 bgF^(T35  
18.4.2  对象 352 +G*JrwJ&=  
18.4.3  信息(Messages) 352 WsI>n  
18.4.4  属性 352 R)5n 8  
18.4.5  方法 353 ''H"^oS  
18.4.6  变量声明 353 /,s[#J   
18.5  创建对象 354 g(Yb^'X/  
18.5.1  创建对象函数 355 &~~wX,6+  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ZmEEj-*7s  
18.5.3 丢弃对象 356 &GhPvrxI?  
18.5.4  总结 356 /<Ld'J  
18.6  脚本中的表格 357 W),l  
18.6.1  方法1 357 wN=;i#  
18.6.2  方法2 357 D`yEwpV^  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Vh|\_~9  
18.8 3D Plots in Scripts 359 R=]d%L8  
18.9  注释 360 IiJZ5'{  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ,7_4 z]jK  
18.11  一个更高级的脚本 362 N&,]^>^u  
18.12  <esc>键 364 [?k8}B)mHB  
18.13 包含文件 365 |[$~\MU  
18.14  脚本被优化调用 366 \ZI'|Ad  
18.15  脚本中的对话框 368 Gl}Qxv#$  
18.15.1  介绍 368 Iu[|<Cx  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 T,%j\0  
18.15.3  输入框函数 370 L| hx arJ  
18.15.4  自定义对话框 371 bBc[bc>R  
18.15.5  对话框编辑器 371 V  ~@^`Gd  
18.15.6  控制对话框 377 #V,R >0"  
18.15.7  更高级的对话框 380 9X$ma/P[  
18.16 Types语句 384 -7 U| a/  
18.17 打开文件 385 PcT?<HU  
18.18 Bags 387 9(4&KZpK  
18.13  进一步研究 388 u #w29Pm  
19  vStack 389 d5`3wd]]'v  
19.1  vStack基本原理 389 V)(R]BK{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 FRu]kZv2  
19.3  五棱镜 393 r SkUSe6  
19.4 光束距离 396 LJ)5W  
19.5 误差 399 @#g<IBG=*  
19.6  二向分色棱镜 399 ar9]"s+'  
19.7  偏振泄漏 404 6!'3oN{  
19.8  波前误差—相位 405 ^(HUGl_  
19.9  其它计算参数 405 <r#eL39I  
20  报表生成器 406 u&mS8i}  
20.1  入门 406 ~Wo)?q8UY,  
20.2  指令(Instructions) 406 pi<TFe@eG  
20.3  页面布局指令 406 eqw0]U\pv  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Zwz&rIQpT  
20.5  表格中的常见参数 408 ,EGQ@:3/  
20.6  迭代指令 408 ^. dsW0"0  
20.7  报表模版 408 1i[FY?6`dh  
20.8  开始设计一个报表模版 409 {8)zg<rL+M  
21  一个新的project 413 t3(]YgF  
21.1  创建一个新Job 414 Ez|oN,  
21.2  默认设计 415 Ms~{9?  
21.3  薄膜设计 416 (8.Z..PH  
21.4  误差的灵敏度计算 420 - K9c@?  
21.5  显色指数计算 422 Oy U  
21.6  电场分布 424 Bp8'pj;~  
后记 426 3RLFp\i"s  
S}p4iE"n  
MjlP+; !  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 @=}YTtq  
={K`4BD  
《Essential Macleod中文手册》
])xx<5Jt4  
:8CvRO*<  
目  录 91 =OF*w  
N(I&  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 &l3iV88  
第1章 介绍 ..........................................................1 T!Hb{Cg*  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 8!Vl   
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ^*P%=>zO  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 bFe+m1Q_  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ,lZB96r0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 xx[9~z=d  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 yE}}c{hSn  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100  GB$;n?  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 uV!^,,~  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ;\f gF@  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Vx~,Uex0+  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ]IoUwgpI)  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 su*'d:L  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 :x tXQza"-  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 g !rQ4#4  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 /YZr~|65  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 c-B cA  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 $0 vb^  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ^J$2?!~  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 |&RU/a  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 rg^'S1x|  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 0g+'/+Ho 4  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 mV3cp rRqv  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Pi]19boM.  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 :]\([Q+a  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 |Y?H A&  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 d3D] k,  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 +j< p \Kn>  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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