线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1009
时间地点 ,S-h~x  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ^LMgOA(7  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 X$Vi=fvt  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 X NJ4T]><  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 "}]$ag!`q$  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
! xCo{U=  
特邀专家介绍 m^_=^z+  
gfQ?k  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ?%s>a8w  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 iQ)ydY a  
课程概要 ||Zup\QB  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ix3LB!k<  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 4_R|3L  
课程大纲 S0,\{j  
1. Essential Macleod软件介绍 Qz~uD'Rs/  
1.1 介绍软件 3P cVE\GN  
1.2 创建一个简单的设计 {a7~P0$  
1.3 绘图和制表来表示性能 x;/LOa{LR  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Z3`EXs  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) @Wu-&Lb  
1.6 特定设计的公式技术 A lU^ ,X  
1.7 交互式绘图 A]z*#+Sl  
2. 光学薄膜理论基础 9njl,Q:  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 cr1x CPJj  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ]b4WfIu  
3. 材料管理 [xMa^A>p  
3.1 材料模型 $]2)r[eA)  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 f`9Mcli !  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 >fPo_@O  
3.4 基板光学常数的提取 $83B10OQ&L  
4. 光学薄膜设计优化方法 NX @FUct;  
4.1 参考波长与g <L &EH@T  
4.2 四分之一规则 mayJwBfU  
4.3 导纳与导纳图 L44m!%q  
4.4 斜入射光学导纳 6%v9o?:~l  
4.5 光学薄膜设计的进展 ;P@]7vkff  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 f9De!"*&  
4.6.1 优化目标设置 R?{+&r.X  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) $]v}X},,  
4.6.3 膜层锁定和链接 t^rw@$"}  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ?"B] "%M&  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估  F!omkN  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 !|cg=  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ~ Z\:Nx  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 uDF;_bli)H  
5.5 如何在Function中编写脚本 G.W !   
6. 光学薄膜系统案例 kBu{ bxL  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7},A. q  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 )pnyVTKt  
6.3 Stack应用范例说明 xUo6~9s7  
7. 薄膜性能分析 OrY[  
7.1 电场分布 5(1:^:LGK  
7.2 公差与灵敏度分析 a)qan  
7.3 反演工程 ks '>?Dw  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 7u):J  
8. 真空技术 D Ez,u^   
8.1 常用真空泵介绍 CD|[PkjW  
8.2 真空密封和检漏 IPiV_c-l  
9. 薄膜制备技术 {1W:@6tl  
9.1 常见薄膜制备技术 hp\&g2_S0W  
10. 薄膜制备工艺 \o9 \i kR  
10.1 薄膜制备工艺因素 dAo;y.3  
10.2 薄膜均匀性修正技术 UX 1 )((  
10.3 光学薄膜监控技术 #/)t]&n  
11. 激光薄膜 A4K.,bZ   
11.1 薄膜的损伤问题 kB\{1;  
11.2 激光薄膜的制备流程 /ZLY@&M  
11.3 激光薄膜的制备技术 TJ|Jv8j<s  
12. 光学薄膜特性测量 Cs'LrUB?=U  
12.1 薄膜光谱测量 gYpMwC{*d  
12.2 薄膜光学常数测量 wj|Zn+{"nF  
12.3 薄膜应力测量 pSZ2>^";  
12.4 薄膜损伤测量 :2 ;Jo^6Se  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 :6^7l/p  
U|(+-R8Z  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
E-e(K8R  
内容简介 /7Q|D sa  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 =OVDJ0ozZ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 q'2vE;z Kb  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 yU?jmJ  
!3ggQG!e  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
d:H'[l.F%  
目录 JzHG5nmB  
Preface 1 \bA Yic  
内容简介 2 hlTbCl  
目录 i :!ya&o  
1  引言 1 iCt.rr~;V  
2  光学薄膜基础 2 {pzj@b 1S  
2.1  一般规则 2 ^)VwxH:s  
2.2  正交入射规则 3 7*/{m K)  
2.3  斜入射规则 6 {h<D/:^v  
2.4  精确计算 7 3r\8v`^>  
2.5  相干性 8 K|& f5w  
2.6 参考文献 10 S}m_XR]  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Ia&R/I  
4  Essential Macleod的特点 32 8~sP{V%  
4.1  容量和局限性 33 0}{xH  
4.2  程序在哪里? 33 azcPeAe  
4.3  数据文件 35 5~Y`ikwxL  
4.4  设计规则 35 f0<zK !  
4.5  材料数据库和资料库 37 /@os*c|je  
4.5.1材料损失 38 }Q7y tE  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 boh?Xt-$  
4.5.2 材料库 41 c/{FDN  
4.5.3导出材料数据 43 9g92eKS  
4.6  常用单位 43 W&z jb>0b0  
4.7  插值和外推法 46 xQy,1f3s+  
4.8  材料数据的平滑 50 GkIE;7#2kX  
4.9 更多光学常数模型 54 yNTd_XPL  
4.10  文档的一般编辑规则 55 %+7]/_JO&  
4.11 撤销和重做 56 /--p#Gh'  
4.12  设计文档 57 9KSi-2?H  
4.10.1  公式 58 xad`-vw  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @=J|%NO  
4.10.3  沉积密度 59 '<Z[e`/  
4.10.4 平行和楔形介质 60 @Mk`Tl  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 _|HhT^\P  
4.10.4  性能 61 q76POytV|  
4.10.5  保存设计和性能 64 }d$-:l ,w  
4.10.6  默认设计 64 0X$mT:=9  
4.11  图表 64 ^?z%f_ri  
4.11.1  合并曲线图 67 Cj5mM[:s  
4.11.2  自适应绘制 68 O5\r%&$xd  
4.11.3  动态绘图 68 b@:OlZ~ %  
4.11.4  3D绘图 69 Io6/Fv>!  
4.12  导入和导出 73 %36x'Dn ?  
4.12.1  剪贴板 73 yMs!6c*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 :_{8amO  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 6&3,fSP  
4.13  背景 77 =:W2NN'  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 DA=!AK>  
4.15  生成Rugate 84 $KHm5*;nd  
4.16  参考文献 91 qA*~B'  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 f~IJ4T2#N  
5.1  Jobs 92 b*|~F  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 37AVk`a  
5.3  输入材料 94 i1iP'`r  
5.4  设计数据文件夹 95 g40Hj Y  
5.5  默认设计 95 P<<$o-a"  
6  细化和合成 97 .RQra+up  
6.1  优化介绍 97 +z >)'#  
6.2  细化 (Refinement) 98 8`=?_zF  
6.3  合成 (Synthesis) 100 gY}In+S  
6.4  目标和评价函数 101 m 0HK1'  
6.4.1  目标输入 102 wjarQog5Y  
6.4.2  目标 103 P5S ]h  
6.4.3  特殊的评价函数 104 K+g[E<x\=  
6.5  层锁定和连接 104 'H1~Zhv  
6.6  细化技术 104 "CJVtO  
6.6.1  单纯形 105 0zt]DCdY  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ,GbmL8P7Y  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 OV>& `puL  
6.6.2.1 Optimac参数 108 &(F c .3m  
6.6.3  模拟退火算法 109 8f@}-  
6.6.3.1 模拟退火参数 109  T:}Q3  
6.6.4  共轭梯度 111  MlO OB  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 bQ< qdGa  
6.6.5  拟牛顿法 112 f}otIf  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 y]9R#\P/  
6.6.6  针合成 113 )'shpRB;1  
6.6.6.1 针合成参数 114 =?sG~  
6.6.7 差分进化 114 w,{h9f  
6.6.8非局部细化 115 X2w)J?pv  
6.6.8.1非局部细化参数 115 [-~pDkf:  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 1v@#b@NXM7  
6.7.1  细化 116 xJq|,":gj  
6.7.2  合成 117 l1KMEGmG  
6.8  参考文献 117 U S^% $Z:  
7  导纳图及其他工具 118 )>a~%~:  
7.1  简介 118 xATx2*@X2  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 EOPx 4+o  
7.2.1  四分之一波长规则 119 .jrNi=BP*  
7.2.2  导纳图 120 FW]tDGJOw  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 72HA.!ry  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 K:Z$V  
7.5  斜入射导纳图 141 xd Z$|{,  
7.6  对称周期 141 /$^Tou/v  
7.7  参考文献 142 I{Du/"r#  
8  典型的镀膜实例 143 F)3+IuY  
8.1  单层抗反射薄膜 145 '/ Aq2  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 An2 >]\L  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {!,K[QwcI  
8.4  W-膜层 148 T"wg/mT  
8.5  V-膜层 149 $4bc!  
8.6  V-膜层高折射基底 150 "t|)Kl  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 >?g@Nt8  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *ug~LK5Y.  
8.9  四层抗反射薄膜 153 R%r bysP  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ZmK=8iN9J  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "Eh=@?]S_  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 87 gk  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 wMS%/l0p1  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 y r (g/0  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 |)x7qy`  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^eW<-n@^  
8.17  1/4波长堆栈 162 !do`OEQKR  
8.18  陷波滤波器 163 @yp0WB  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 QM,#:m1o  
8.20  褶皱 165 ==Gc%  
8.21  消偏振分光器1 169 ~^wSwd[  
8.22  消偏振分光器2 171 _^ hg7&dF  
8.23  消偏振立体分光器 172 zB.cOMx  
8.24  消偏振截止滤光片 173 =Rd`"]Mnfb  
8.25  立体偏振分束器1 174 <Iw{fj|  
8.26  立方偏振分束器2 177 dT| XcVKg  
8.27  相位延迟器 178 zt.k Nb  
8.28  红外截止器 179 HxI6_>n^I  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ZTmy}@l  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Xhe& "rM  
8.31  55层短波带通滤波器 182 <J509j  
8.32  47 红外截止器 183 ;"dX]":  
8.33  宽带通滤波器 184 o78u>Oy  
8.34  诱导透射滤波器 186 Q)75?mn  
8.35  诱导透射滤波器2 188 i>M%)HN  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 c5]Xqq,  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ?Y"%BS+pt  
8.35  增益平坦滤波器 193 0C4eer+D  
8.38  啁啾反射镜 1 196 uq5?t  
8.39  啁啾反射镜2 198 XgxE M1(  
8.40  啁啾反射镜3 199 _CD~5EA:  
8.41  带保护层的铝膜层 200 w8lrpbLh  
8.42  增加铝反射率膜 201 ZP"; B^J  
8.43  参考文献 202 [@@{z9c  
9  多层膜 204 WNR]GI  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Po?MTA  
9.2  内部透过率 204 M0 z%<_<}  
9.3 内部透射率数据 205 }`=7%b`-?  
9.4  实例 206 L0w6K0J4  
9.5  实例2 210 Wf c/?{  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Vh-8pF t  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 St5;X&Q  
10  光学薄膜的颜色 216 *\ii +f-  
10.1  导言 216 CPB{eQeDuv  
10.2  色彩 216 - 2)k!5X=  
10.3  主波长和纯度 220 |5u~L#P  
10.4  色相和纯度 221 !*]i3 ,{7v  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 t6Iy5)=zY  
10.6 色差 226 =.`\V]  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 [O3:?BNY  
10.8  颜色渲染指数 234 ]zx%"SUM  
10.9  色差计算 235 WI\a  
10.10  参考文献 236 @]qP:h.  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 rHKO13WF  
11.1  短脉冲 238 .x I Aep_  
11.2  群速度 239 ^ZMbJe%L  
11.3  群速度色散 241 !Z_+H<fi+I  
11.4  啁啾(chirped) 245 ('x]@  
11.5  光学薄膜—相变 245 jNj;#C)  
11.6  群延迟和延迟色散 246 A]c'T T@6  
11.7  色度色散 246 X>I3N?5  
11.8  色散补偿 249 l uP;P&  
11.9  空间光线偏移 256 'T eH(?3G  
11.10  参考文献 258 py;p7y!gxA  
12  公差与误差 260 $;5Q mKQ'  
12.1  蒙特卡罗模型 260 2^[dy>[y0  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 YR'F]FI  
12.2.1  误差工具 267 |_?e.}K  
12.2.2  灵敏度工具 271 vW?\bH7}I  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 #mV2VIX#Jv  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 W&5/1``u\  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 kQkc+sGJf  
12.3  参考文献 276 [}szM^  
13  Runsheet 与Simulator 277 GDSV:]hL  
13.1  原理介绍 277 !hVbx#bXl  
13.2  截止滤光片设计 277 Snk+ZQ-  
14  光学常数提取 289 $0$sM/%  
14.1  介绍 289 3\W/VBJJ  
14.2  电介质薄膜 289 [9 MH"\  
14.3  n 和k 的提取工具 295 5W)ST&YPL*  
14.4  基底的参数提取 302 $udhTI#,  
14.5  金属的参数提取 306 aL1%BGlmZ<  
14.6  不正确的模型 306 V'9.l6l   
14.7  参考文献 311 gqS9{K(f  
15  反演工程 313 hywcj\[  
15.1  随机性和系统性 313 Qvp"gut)%X  
15.2  常见的系统性问题 314 Q:b0M11QR  
15.3  单层膜 314 ROFZ*@CH<  
15.4  多层膜 314 z}E_ wg  
15.5  含义 319 4Ly>x>b<  
15.6  反演工程实例 319 6f +aGz  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 o 2 ng  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 8m"k3:e^  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 mB-,\{)  
16.1  光学性质的热致偏移 329 L/"MRQ"  
16.2  应力工具 335 \Kf\%Q  
16.3  均匀性误差 339 *}\M!u{J  
16.3.1  圆锥工具 339 %u!=<yn'  
16.3.2  波前问题 341 ~5,^CTAM  
16.4  参考文献 343 K/W=r  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 EHUx~Q   
17.1  引言 345 O cL7] b0  
17.2  操作数 345 uzdPA'u  
18  如何在Function中编写脚本 351 6+$2rS$1V  
18.1  简介 351 %>FtA)  
18.2  什么是脚本? 351 CM?:\$ 4  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 6qT@M0)i  
18.4  基础 352 c|/HX%Y  
18.4.1  Classes(类别) 352 ;TL.QN/l  
18.4.2  对象 352 )R7Sh51P  
18.4.3  信息(Messages) 352 AM- bs^  
18.4.4  属性 352 H9)@q3<  
18.4.5  方法 353 #I=EYl=Vvi  
18.4.6  变量声明 353 \:;MFG'  
18.5  创建对象 354 u ON(LavB  
18.5.1  创建对象函数 355 VKttJok1  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 `=Ip>7T&  
18.5.3 丢弃对象 356 8 #4K@nm5  
18.5.4  总结 356 poBeEpbs  
18.6  脚本中的表格 357 <IR#W$[  
18.6.1  方法1 357 cK'g2S  
18.6.2  方法2 357 ! VR&HEru  
18.7 2D Plots in Scripts 358 M5no4P<  
18.8 3D Plots in Scripts 359 iaL@- dg  
18.9  注释 360 cUq]PC$|  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 =\6)B{#T  
18.11  一个更高级的脚本 362 `O6#-<>  
18.12  <esc>键 364 DZ|*hQU>K  
18.13 包含文件 365 m[}P  
18.14  脚本被优化调用 366 akvi^]x  
18.15  脚本中的对话框 368 pyhXET '  
18.15.1  介绍 368 n%3!)/$  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ?L }>9$"  
18.15.3  输入框函数 370 vx9!KWy}  
18.15.4  自定义对话框 371 # `=Zc7gf  
18.15.5  对话框编辑器 371 _^FC 9  
18.15.6  控制对话框 377 ;g0s1nz  
18.15.7  更高级的对话框 380 bqbG+ g  
18.16 Types语句 384 *aCL/:  
18.17 打开文件 385 &ZD@-"@  
18.18 Bags 387 FQ>$Ps*a[  
18.13  进一步研究 388 k3bQ32()  
19  vStack 389 WX4sTxJK  
19.1  vStack基本原理 389 k'iiRRM  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 _UVpQ5pN  
19.3  五棱镜 393 _9>,9aL  
19.4 光束距离 396 jq H)o2"/  
19.5 误差 399 _%Z.Re  
19.6  二向分色棱镜 399 <);q,|eh2  
19.7  偏振泄漏 404 CtY-Gs  
19.8  波前误差—相位 405 ^(JrOh'  
19.9  其它计算参数 405 |5vcT, A  
20  报表生成器 406 eC5*Q=ai,  
20.1  入门 406 {L;sF=d  
20.2  指令(Instructions) 406 O}"oz3H  
20.3  页面布局指令 406 PMP{|yEx"  
20.4  常见的参数图和三维图 407 StJb-K/_cL  
20.5  表格中的常见参数 408 w Q[|D2;  
20.6  迭代指令 408 XH%pV  
20.7  报表模版 408 e=9/3?El  
20.8  开始设计一个报表模版 409 =%|`gZ  
21  一个新的project 413 i~Tt\UA>  
21.1  创建一个新Job 414 OH@"]Nc~  
21.2  默认设计 415 :la i0> D  
21.3  薄膜设计 416 |*?N#0s5h  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Yh95W  
21.5  显色指数计算 422 ~);4O8~.  
21.6  电场分布 424 `sm Cfh}j6  
后记 426 b%lB&}uw}  
I7vP*YE 7F  
Q+1ot,R  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 *z[vp2 TN  
bkJ bnW=  
《Essential Macleod中文手册》
|it*w\+M  
!EIH"`>!  
目  录 04U|Frc  
XEiVs\) G  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 l-w4E"n3  
第1章 介绍 ..........................................................1 E6GubU  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 _-fLD  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 | va@&;#wf  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 !5dn7Wuj  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 c^=q(V  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 :kHk'.V1(  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 St?mq* ,  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 `)a|Q  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 4>(K~v5;N  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 aX.BaK6I  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 \!-]$&,j4  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 I~l_ky|a !  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 L@\t] ~  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 q-t%spkl  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 @zS/J,:v}  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Q3>qT84  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 "dCIg{j   
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 E{6ku=2F  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 rv[BL.qV  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 >IQ&*Bb  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 @Xoh@:j\  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 _A]jiPq  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ]yKwH 9sl  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Q+f |.0r  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 u|23M,  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 8GxT!  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 U+VJiz<!  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 n^QDMyC;I  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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