线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:806
时间地点 /K+;HAUTn  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 T# tFzbr  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 B<@a&QBTg  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Rdd9JJsVd  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 T{#=A$vu  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
`-W4/7  
特邀专家介绍 :G^4/A_  
">fRM=fl  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 y^{ 4}^u-^  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 >: @\SU  
课程概要 !#olG}#[  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 EjEXev<]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ^ 6t"A  
课程大纲 :}SR{}]yXs  
1. Essential Macleod软件介绍 lY |]  
1.1 介绍软件 &s\,+d0  
1.2 创建一个简单的设计 t[b(erO'  
1.3 绘图和制表来表示性能 rX`fjS*C  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ^:O*Sx.CA  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) J04R,B  
1.6 特定设计的公式技术 -/7@ A  
1.7 交互式绘图 e6T?2`5P  
2. 光学薄膜理论基础 3] U/^f3  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 GapH^trm  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 A>:31C  
3. 材料管理 &(x>J:b  
3.1 材料模型 hNp.%XnnZ  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 c Ct5m  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 k.Z?BNP  
3.4 基板光学常数的提取 Jx4~o{Z}c  
4. 光学薄膜设计优化方法 1_n5:  
4.1 参考波长与g 4tapQgj24  
4.2 四分之一规则 `E>o:tff  
4.3 导纳与导纳图  GL&rT&  
4.4 斜入射光学导纳 7tY~8gQel  
4.5 光学薄膜设计的进展 )B5U0iIi  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 TjctK [db@  
4.6.1 优化目标设置 `-rtU  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Tl^)O^/  
4.6.3 膜层锁定和链接 Zk gj_  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ]b^bc2:  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 t{ridA}  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 vZSwX@0  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 kf)s3I/`(  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 rV I-Yb  
5.5 如何在Function中编写脚本 B8V85R  
6. 光学薄膜系统案例 fvDcE]_%H  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 C[JPohm  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 @d[)i,d:G  
6.3 Stack应用范例说明 @y# u!}  
7. 薄膜性能分析 \'nE{  
7.1 电场分布 ~^eC?F(  
7.2 公差与灵敏度分析 IS!]!s'EI  
7.3 反演工程 >PygUY d  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 bgmOX&`G  
8. 真空技术 Cz4l  
8.1 常用真空泵介绍 8 A#\V  
8.2 真空密封和检漏 w6k^|."  
9. 薄膜制备技术 /9C>{29x!  
9.1 常见薄膜制备技术 Fz_8m4  
10. 薄膜制备工艺 ?vP }#N!=d  
10.1 薄膜制备工艺因素 V ;M'd@  
10.2 薄膜均匀性修正技术 &)Iue<&2  
10.3 光学薄膜监控技术 ,<CzS,(  
11. 激光薄膜 N8]d0  
11.1 薄膜的损伤问题 8DlRD$_:&  
11.2 激光薄膜的制备流程 RYX=;n  
11.3 激光薄膜的制备技术 (Yc}V  
12. 光学薄膜特性测量 /vFdhh  
12.1 薄膜光谱测量 mz .uK2l{  
12.2 薄膜光学常数测量 n11eJEtm  
12.3 薄膜应力测量 r6`KZ TU  
12.4 薄膜损伤测量 zeHs5P8}r  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 |Iq\ZX%q  
9=MxuBl  
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>K;C?gHo  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
a 1pa#WC  
内容简介 pS)/yMlVj  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 q%}54E80  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Aj2yAg  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?-P W$p  
3sBu`R*hk  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
EWoGdH|  
目录 &1Idv}@!  
Preface 1 r;&rc:?A  
内容简介 2 Y-:{a1/RKo  
目录 i X9n},}bJ"  
1  引言 1 ^<'=]?xr  
2  光学薄膜基础 2 h{M.+I$}C  
2.1  一般规则 2 D& #ph%U,P  
2.2  正交入射规则 3 0N*~"j;r#M  
2.3  斜入射规则 6 62%=%XD  
2.4  精确计算 7 /=ro$@  
2.5  相干性 8 9mH/xP:y  
2.6 参考文献 10 }Z}4_/E  
3  Essential Macleod的快速预览 10 rQPV@J]:  
4  Essential Macleod的特点 32 XQL]I$?  
4.1  容量和局限性 33 elm]e2)F  
4.2  程序在哪里? 33 >`c-Fqk  
4.3  数据文件 35 '0>w_ge4  
4.4  设计规则 35 +&hd3  
4.5  材料数据库和资料库 37 8;]U:tv  
4.5.1材料损失 38 ojZvgF  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 c2<JS:!*  
4.5.2 材料库 41 P_ x9:3  
4.5.3导出材料数据 43 r%~/y  
4.6  常用单位 43 0')O4IHH  
4.7  插值和外推法 46 MHkTN  
4.8  材料数据的平滑 50 0 lsX~d'W  
4.9 更多光学常数模型 54 p+ bT{:  
4.10  文档的一般编辑规则 55 7nAB^~)6l  
4.11 撤销和重做 56 bjEm=4FI;  
4.12  设计文档 57 BiUbg6T.G  
4.10.1  公式 58 7 xm>+(  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0(!D1G{ul  
4.10.3  沉积密度 59 #Y;_W;#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 8n^v,s>  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 fB3W} dr  
4.10.4  性能 61 qkN{l88  
4.10.5  保存设计和性能 64 oO8V0VE\  
4.10.6  默认设计 64 L<**J\=7M  
4.11  图表 64 z tLP {q#  
4.11.1  合并曲线图 67 K7H` Yt  
4.11.2  自适应绘制 68 Bdd>r# ]  
4.11.3  动态绘图 68 O_jf)N\pi  
4.11.4  3D绘图 69 w(KB=lA2  
4.12  导入和导出 73 #4e Taik  
4.12.1  剪贴板 73 ~ g\GC  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 WM_wkvY l  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 IMDGinHAy  
4.13  背景 77 _Hn-bp[?>  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 m:,S1V_jl  
4.15  生成Rugate 84 q'%-8t  
4.16  参考文献 91 d)&}% 2ku  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 n$fYgZKn  
5.1  Jobs 92 IP E2t  
5.2  创建一个新Job(工作) 93  k_;+z  
5.3  输入材料 94 X>`e(1`_O  
5.4  设计数据文件夹 95 uIkB&  
5.5  默认设计 95 J`*!U4  
6  细化和合成 97 M/X&zr  
6.1  优化介绍 97 5P'<X p  
6.2  细化 (Refinement) 98 }x^q?;7xW  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ;LM,<QJ  
6.4  目标和评价函数 101 VYb6#sl  
6.4.1  目标输入 102 6ZCSCBW  
6.4.2  目标 103 V~> x \  
6.4.3  特殊的评价函数 104 8MH ZWi  
6.5  层锁定和连接 104 VgHVj)ir  
6.6  细化技术 104 Tq7cZe"6  
6.6.1  单纯形 105 ~hSr06IY  
6.6.1.1 单纯形参数 106 D.hj9  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 4#oLf1  
6.6.2.1 Optimac参数 108 gxS*rzCG  
6.6.3  模拟退火算法 109 7n,*3;I  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 O|opNr  
6.6.4  共轭梯度 111 [nO\Q3c|@$  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *-gd k9  
6.6.5  拟牛顿法 112 `J%iFm/5*  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 &"(xd@V)]A  
6.6.6  针合成 113 tp-PE?  
6.6.6.1 针合成参数 114 Uk=-A @q  
6.6.7 差分进化 114 +5|wd6  
6.6.8非局部细化 115 6^M!p4$hF  
6.6.8.1非局部细化参数 115 >8$]g  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 .]_ (>^6  
6.7.1  细化 116 h7iI=[_V  
6.7.2  合成 117 "Cz8nG  
6.8  参考文献 117 XN@F6Gj  
7  导纳图及其他工具 118 ^{3,ok*Nf  
7.1  简介 118 DdY89R 6  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Z Sj[GI  
7.2.1  四分之一波长规则 119 TmZ% ;TN  
7.2.2  导纳图 120 L{py\4z'_  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +=v6 *%y"V  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 H B}!Lf#*P  
7.5  斜入射导纳图 141 " Zo<$p3]  
7.6  对称周期 141 3]=j!_yJf  
7.7  参考文献 142 2m]C mdV^  
8  典型的镀膜实例 143 2WK]I1_  
8.1  单层抗反射薄膜 145 rq;Xcc  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 `*5_`^t   
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %s}c#n)N  
8.4  W-膜层 148 aNX M~;5~  
8.5  V-膜层 149 2 1b  
8.6  V-膜层高折射基底 150 8<gYB$* S  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 u|v2J/_5Y  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 $IZ02ZM$  
8.9  四层抗反射薄膜 153 K"%_q$[YQ  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 g%P6f  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 z+RA  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 n-/ {H4\  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 +K6j p  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 vkFq/+'U  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 k E^%w?C  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 D"x;/I  
8.17  1/4波长堆栈 162 bqmb|mD  
8.18  陷波滤波器 163 tVB9kxtE  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 }Zs y&K  
8.20  褶皱 165 Pz+2(Z  
8.21  消偏振分光器1 169 ws!pp\F  
8.22  消偏振分光器2 171 fwe4f  
8.23  消偏振立体分光器 172 pX5#!)  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ^lB=O  
8.25  立体偏振分束器1 174 m&o6j>C  
8.26  立方偏振分束器2 177 ;'E1yzX^  
8.27  相位延迟器 178 Fx6c*KNX3  
8.28  红外截止器 179 S}@J4}*u["  
8.29  21层长波带通滤波器 180 q%g!TFMg  
8.30  49层长波带通滤波器 181 G?p !*7N  
8.31  55层短波带通滤波器 182 }XJA#@  
8.32  47 红外截止器 183 8`QbUQ6  
8.33  宽带通滤波器 184 3`%]3qd}  
8.34  诱导透射滤波器 186 wZ&l6J4L  
8.35  诱导透射滤波器2 188 PV[ Bqt  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 fVb~j;  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ZDQc_{e{  
8.35  增益平坦滤波器 193 d:j65yu  
8.38  啁啾反射镜 1 196 V 6DWYs>  
8.39  啁啾反射镜2 198 _#9F@SCA  
8.40  啁啾反射镜3 199 t)!(s,;T  
8.41  带保护层的铝膜层 200 L5-p0O`R  
8.42  增加铝反射率膜 201 M>eMDCB\  
8.43  参考文献 202 <_o).hE{  
9  多层膜 204 sbeS9vE  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 >-%tvrS%  
9.2  内部透过率 204 2.,4b-^  
9.3 内部透射率数据 205 A_:CGtv:  
9.4  实例 206 Mj9Mv<io  
9.5  实例2 210 3} Xf  
9.6  圆锥和带宽计算 212 & xAwk-{W  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 F'~\!dNL  
10  光学薄膜的颜色 216 [:CV5k~xc  
10.1  导言 216 @N tiT,3k  
10.2  色彩 216 ? Zhnb0/  
10.3  主波长和纯度 220 uWtj?Q+M|  
10.4  色相和纯度 221 e-Pn,j  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;hz;|\ko5  
10.6 色差 226 ^~ 95q0hq:  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 F,[GdE;P  
10.8  颜色渲染指数 234 PVCFh$pnw  
10.9  色差计算 235 9;ZaL7>  
10.10  参考文献 236 [>IV#6$  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ]!um}8!}  
11.1  短脉冲 238 nM<B{AR5^  
11.2  群速度 239 Whd\Ub8(  
11.3  群速度色散 241 %0y_WIjz  
11.4  啁啾(chirped) 245 i9RAb tQ}  
11.5  光学薄膜—相变 245 o_i N(K  
11.6  群延迟和延迟色散 246 :637MD>5lO  
11.7  色度色散 246 8q}955Nl  
11.8  色散补偿 249 ij=_h_nA  
11.9  空间光线偏移 256 ;4MC/Q/  
11.10  参考文献 258 A$7j B4  
12  公差与误差 260 sB~|V <  
12.1  蒙特卡罗模型 260 P]~apMi:  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 762c`aP_(  
12.2.1  误差工具 267 (XU( e  
12.2.2  灵敏度工具 271 e|-%-juI  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 iAl.(j  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 f>!H<4 ]  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 'vP"& lrn  
12.3  参考文献 276 d,5,OJY2f  
13  Runsheet 与Simulator 277 -4;$NiB?  
13.1  原理介绍 277 PwC9@c%c  
13.2  截止滤光片设计 277 )8Q;u8jm1  
14  光学常数提取 289 x+Ws lN 2a  
14.1  介绍 289 ~WW!P_wI,  
14.2  电介质薄膜 289 A)5;ae  
14.3  n 和k 的提取工具 295 83i;:cn  
14.4  基底的参数提取 302 ja-,6*"k  
14.5  金属的参数提取 306 _?I6[Mz  
14.6  不正确的模型 306 aA6m5  
14.7  参考文献 311 j=up7395  
15  反演工程 313 k9*6`w  
15.1  随机性和系统性 313 <K:L.c!  
15.2  常见的系统性问题 314 !>8/Xz~-  
15.3  单层膜 314 gj@>9  
15.4  多层膜 314 1_B;r9x  
15.5  含义 319 f;`7}7C  
15.6  反演工程实例 319 Fy#7 <Hp  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 k^{}p8;3  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 d(_;@%p1X  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 W[G5+*i  
16.1  光学性质的热致偏移 329 n w  
16.2  应力工具 335 ]}Jb'(gMO4  
16.3  均匀性误差 339 \gW6E^  
16.3.1  圆锥工具 339  oB8LJZ;  
16.3.2  波前问题 341 Jwtt&" c0.  
16.4  参考文献 343 [sXn B$  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 +v)+ k  
17.1  引言 345 q&nEodv>+  
17.2  操作数 345 t!&p5wJ*Q  
18  如何在Function中编写脚本 351 IQ $/|b/  
18.1  简介 351 Yma-$ytp  
18.2  什么是脚本? 351 ,GY K3+}Z  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 b(Nxk2uv  
18.4  基础 352 [KW9J}]  
18.4.1  Classes(类别) 352 ,7n8_pU  
18.4.2  对象 352 Ge=|RAw3  
18.4.3  信息(Messages) 352 BmI'XB3'P  
18.4.4  属性 352 nj <nW5[  
18.4.5  方法 353 S^:7V[=EgI  
18.4.6  变量声明 353 \B Uno6  
18.5  创建对象 354 6[3>[ej:x  
18.5.1  创建对象函数 355 y;VmA#k`  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 w?JM;'<AYQ  
18.5.3 丢弃对象 356 y6P-:f/&*  
18.5.4  总结 356 WxJV zHtR  
18.6  脚本中的表格 357 U}<'[o V  
18.6.1  方法1 357 cq4sgQ?sW  
18.6.2  方法2 357 p1']+4r%  
18.7 2D Plots in Scripts 358 &`2$,zX#  
18.8 3D Plots in Scripts 359 {wp tOZ  
18.9  注释 360 rebWXz7  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 /y3Lc.-  
18.11  一个更高级的脚本 362 C,) e7  
18.12  <esc>键 364 S^7u`-  
18.13 包含文件 365 THcX.%ToT  
18.14  脚本被优化调用 366 1UN$eb7  
18.15  脚本中的对话框 368 >f:OU,"  
18.15.1  介绍 368 .F]"%RK[  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 qpX`Z Y^  
18.15.3  输入框函数 370 l}XnCOIT,  
18.15.4  自定义对话框 371 eEX*\1Gg  
18.15.5  对话框编辑器 371 IQyw>_~]  
18.15.6  控制对话框 377 ;0nL1R]w(  
18.15.7  更高级的对话框 380 o(@^V!}V  
18.16 Types语句 384 +<^c2diX  
18.17 打开文件 385 ?#|in}  
18.18 Bags 387 gCZm7dgo  
18.13  进一步研究 388 t]XF*fZH  
19  vStack 389 |6w {%xC?"  
19.1  vStack基本原理 389 '^`%  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 yhxZ^ (I  
19.3  五棱镜 393 E.4 X,  
19.4 光束距离 396 P] Xl  
19.5 误差 399 '=(@3ggA:  
19.6  二向分色棱镜 399 L[. )!c8k  
19.7  偏振泄漏 404 w^)_Fk3  
19.8  波前误差—相位 405 ADT8A."R[  
19.9  其它计算参数 405 K{`3,U2Wx  
20  报表生成器 406 #OsUF,NU  
20.1  入门 406 }3 S6TJ+  
20.2  指令(Instructions) 406 <(x!P=NM-  
20.3  页面布局指令 406 #F:\_!2c  
20.4  常见的参数图和三维图 407 znNv;-q  
20.5  表格中的常见参数 408 c#T0n !}  
20.6  迭代指令 408 S*(n s<L  
20.7  报表模版 408 uE&2M>2  
20.8  开始设计一个报表模版 409 _MzdbUb5,  
21  一个新的project 413 wQrD(Dv(yA  
21.1  创建一个新Job 414 S,GM!YZg  
21.2  默认设计 415 RO8]R2A  
21.3  薄膜设计 416 ZWy,NN1  
21.4  误差的灵敏度计算 420 4@"n7/<  
21.5  显色指数计算 422 ke5_lr(  
21.6  电场分布 424 l/6(V:  
后记 426 Z]k+dJ[-  
Dlx-mm_  
 r95$( N  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 3NlG,e'T2  
G~19Vv*;  
《Essential Macleod中文手册》
3.?B')  
jHM}({)-  
目  录 --g? `4  
Ov|Uux  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 q Qc-;|8  
第1章 介绍 ..........................................................1 XO"BEj<x  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 Qh,Dcg2ZM"  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 G/?j$T  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 IK|W^hH\8  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 m95;NT1N/g  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )Ga 3Ji}'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ul ag$ge  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 42 &m)  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 }OLBEhGs  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 %( o[H sl  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 a+p_47 xa  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 q-nM]Gm  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 /r mm@  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 YhJ*(oWL  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180  u9,ZY >  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 N0']t Gh2  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 F(+dX4$  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Tp fC  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 DX4"}w  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 XjV,wsZ=  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 w@\quy:  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 JnBg;D|)@  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 O^I%Xk  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 bx%P-r31  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 cT,5xp"a  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 pk2}]jx"  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 +}@6V4BRn  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ,L,?xvWG  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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