线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1080
时间地点 =7mn= w?  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 5l"v:Px  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 AA um1xl  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 rBZ 0(XSZQ  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 auTApYS53  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
bgjo_!J+Pp  
特邀专家介绍 64>o3Hb2  
~sSlfQWMzy  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 #yk m  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 Tn qspS2;R  
课程概要 gG^K\+S  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 s^b2H !~  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 {? jr  
课程大纲 ^MGgFS]G  
1. Essential Macleod软件介绍 iii2nmiK  
1.1 介绍软件 !e >EDYbY  
1.2 创建一个简单的设计 iy{*w&p  
1.3 绘图和制表来表示性能 0BM3:]=wr  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /bj D*rj  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) hp]T^  
1.6 特定设计的公式技术 g,!6, v@  
1.7 交互式绘图 VSCOuNSc  
2. 光学薄膜理论基础 ;_GS<[A3  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 nxP>IfSA  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 M3350  
3. 材料管理 ^6 F-H(  
3.1 材料模型 `2y2Bk  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 <3iL5}  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 MkG3TODfHB  
3.4 基板光学常数的提取 PG8|w[V1"  
4. 光学薄膜设计优化方法 bBBW7',[a  
4.1 参考波长与g 'dp3>4  
4.2 四分之一规则 ((TiBCF4  
4.3 导纳与导纳图 HgP9evz,0  
4.4 斜入射光学导纳 7c9-MP)  
4.5 光学薄膜设计的进展 S$Tc\ /{  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 W|oLS  
4.6.1 优化目标设置 Y=l91dxGI  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) [ 44d(P'  
4.6.3 膜层锁定和链接 ika/ GG  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 jiMI&cl  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 E4aCL#}D  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 %:2<'s2Si  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 *wcb5p  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 , [xDNl[Y|  
5.5 如何在Function中编写脚本 -9)<[>:  
6. 光学薄膜系统案例 _ 6"!y ]Q  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 j_VTa/  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 |T~C($9  
6.3 Stack应用范例说明 gN|[n.W4  
7. 薄膜性能分析 ;#G)([  
7.1 电场分布 SyFO f  
7.2 公差与灵敏度分析 Bkvh]k;F8  
7.3 反演工程 q$Z.5EN  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 u;m[,  
8. 真空技术 GU\}}j]  
8.1 常用真空泵介绍 3zU!5t g  
8.2 真空密封和检漏 <J4|FOz!=  
9. 薄膜制备技术 M/XxiF  
9.1 常见薄膜制备技术 e$M \HPc  
10. 薄膜制备工艺 S+G!o]&2  
10.1 薄膜制备工艺因素 y~CK&[H  
10.2 薄膜均匀性修正技术 !%<bLD8  
10.3 光学薄膜监控技术 &R:$h*Wt|  
11. 激光薄膜 #E%0 o  
11.1 薄膜的损伤问题 A` x_M!m  
11.2 激光薄膜的制备流程 *6 oQW  
11.3 激光薄膜的制备技术 !sA[A>  
12. 光学薄膜特性测量 ,*SoV~  
12.1 薄膜光谱测量 _Gv[ D  
12.2 薄膜光学常数测量 bLyU;  
12.3 薄膜应力测量 \M-}(>Pfk  
12.4 薄膜损伤测量 rnvKfTpZDU  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 iO)FZ%?"  
@Omgk=6  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
M}|<# i7u  
内容简介 @~v |t{G  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 eHUr!zH:  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 d?G ~k[C!a  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 iq_y80g`8h  
RO(~c-fV  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
B2\R#&X.  
目录  B@Acm  
Preface 1 X_yAx)Do  
内容简介 2 <WN?  
目录 i -I-u.!  
1  引言 1 +cS%b}O`$  
2  光学薄膜基础 2 LWQ.!;HYp  
2.1  一般规则 2 S&]AIG)  
2.2  正交入射规则 3 {[~cQgCI  
2.3  斜入射规则 6 l<fZt#T  
2.4  精确计算 7 PMER~}^  
2.5  相干性 8 H4[];&]xr  
2.6 参考文献 10 #w\Bc\  
3  Essential Macleod的快速预览 10 T=6fZ;7  
4  Essential Macleod的特点 32 W`HO Q  
4.1  容量和局限性 33 +X)n}jh  
4.2  程序在哪里? 33 :<$B o  
4.3  数据文件 35 4 [2^#t[  
4.4  设计规则 35 !QK ~l  
4.5  材料数据库和资料库 37 ~Pq(Ta  
4.5.1材料损失 38 X2>qx^jT  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 T~B'- >O  
4.5.2 材料库 41 VJ1(|v{D4[  
4.5.3导出材料数据 43 rv>K0= t0  
4.6  常用单位 43 1<Fh aK  
4.7  插值和外推法 46 QJ{to%  
4.8  材料数据的平滑 50  X$:r  
4.9 更多光学常数模型 54 n3w(zB  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Z|&Y1k-h  
4.11 撤销和重做 56 /">A3bq  
4.12  设计文档 57 )Ih '0>=  
4.10.1  公式 58 '\yp}r'u  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 'Oyx X  
4.10.3  沉积密度 59 axT-  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ub^v ,S8O  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 NPjh2 AJm  
4.10.4  性能 61 &^WJ:BvA|^  
4.10.5  保存设计和性能 64 |)'gQvDM  
4.10.6  默认设计 64 Z Z1s}TG  
4.11  图表 64 2w>l nJ-  
4.11.1  合并曲线图 67 uM3F[p%V^  
4.11.2  自适应绘制 68 mIu-  
4.11.3  动态绘图 68 1QHCX*_  
4.11.4  3D绘图 69 2K/+6t}  
4.12  导入和导出 73 Yv0;UKd  
4.12.1  剪贴板 73 6L--FY>.-  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 &%YFO'>>}  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 XRU^7@Ylks  
4.13  背景 77 Efo,5  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 _ PC}`Y'&  
4.15  生成Rugate 84 UPtWj8h  
4.16  参考文献 91 y?BzZ16\bL  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Jz(!eTVs  
5.1  Jobs 92 )*&I|L<1  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 I{Pny/d`  
5.3  输入材料 94 _H#l&bL@C  
5.4  设计数据文件夹 95 -!]Ie4"  
5.5  默认设计 95 DwTqj=l  
6  细化和合成 97 z?C;z7eT  
6.1  优化介绍 97 *h ~Y=#`8*  
6.2  细化 (Refinement) 98 j!c[$;  
6.3  合成 (Synthesis) 100 \L14rQ t  
6.4  目标和评价函数 101 z!09vDB^  
6.4.1  目标输入 102 {bF95Hs-  
6.4.2  目标 103 D8+68_BEM  
6.4.3  特殊的评价函数 104 rV LUT  
6.5  层锁定和连接 104 oYWcX9R  
6.6  细化技术 104 C9oF*{  
6.6.1  单纯形 105 Kgi| 7w  
6.6.1.1 单纯形参数 106 i?^C c\gH  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 mPR(4Ol.  
6.6.2.1 Optimac参数 108 j\w>}Pc  
6.6.3  模拟退火算法 109 :P$I;YY=A  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 p{:r4!*L  
6.6.4  共轭梯度 111 QiU!;!s  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ck,.4@\tK  
6.6.5  拟牛顿法 112 $mA+ 4ISK  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 B!jINOg  
6.6.6  针合成 113 A:"J&TbBx  
6.6.6.1 针合成参数 114 51oZ w%os=  
6.6.7 差分进化 114 ^'8T9N@U  
6.6.8非局部细化 115 vfT<%Kl!'  
6.6.8.1非局部细化参数 115 amI$0  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 M4a- +T"  
6.7.1  细化 116 $q}}w||e~0  
6.7.2  合成 117 -C$Z%I7 0  
6.8  参考文献 117 02]9 OnWw  
7  导纳图及其他工具 118 T W?O  
7.1  简介 118 W-Cf#o  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 #&\hgsw/T  
7.2.1  四分之一波长规则 119 p9<OXeY   
7.2.2  导纳图 120 W%]sI n  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [woR9azC  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 g0.D36  
7.5  斜入射导纳图 141 YWA:741  
7.6  对称周期 141 @URLFMFi  
7.7  参考文献 142 SEY  
8  典型的镀膜实例 143 2aUz.k8o  
8.1  单层抗反射薄膜 145 C]UBu-]#S  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 NF=FbvNe  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 to Ei4u)m  
8.4  W-膜层 148 `+b>@2D_  
8.5  V-膜层 149 q>&F%;q1]  
8.6  V-膜层高折射基底 150 pj,.RcH@o  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 P9J3Ii!  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 !l'Az3'J|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 9/w'4bd  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 <p(&8P  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 :=04_5 z  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 9frx60  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 0_bt*.w I+  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 /qF7^9LtaY  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 S[UHx}.  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 a34'[R  
8.17  1/4波长堆栈 162 3m4?l ~  
8.18  陷波滤波器 163 EU,4qO  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 q{f%U.  
8.20  褶皱 165 vII&v+C  
8.21  消偏振分光器1 169 #;juZ*I  
8.22  消偏振分光器2 171 e#k9}n^+  
8.23  消偏振立体分光器 172 %dZD;Vhg  
8.24  消偏振截止滤光片 173 .Gl&K|/{j  
8.25  立体偏振分束器1 174 o]#Q6J  
8.26  立方偏振分束器2 177 R_*b<~[/  
8.27  相位延迟器 178 )iy>sa{  
8.28  红外截止器 179 e%G- +6  
8.29  21层长波带通滤波器 180 8{Y ?;~G  
8.30  49层长波带通滤波器 181 P<kTjG  
8.31  55层短波带通滤波器 182 &F\J%#{  
8.32  47 红外截止器 183 nvD"_.KrJ  
8.33  宽带通滤波器 184 ;JFE7\-mC  
8.34  诱导透射滤波器 186 ,@!8jar@w}  
8.35  诱导透射滤波器2 188 nx=#QLi  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 l{#m"S7J^  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 w;QDQ fx0  
8.35  增益平坦滤波器 193 aEdF Z  
8.38  啁啾反射镜 1 196 #2DH_P  
8.39  啁啾反射镜2 198 wRPBJ-C)  
8.40  啁啾反射镜3 199 Xkl^!,  
8.41  带保护层的铝膜层 200 qx{.`AaZW  
8.42  增加铝反射率膜 201 T-&CAD3 ,O  
8.43  参考文献 202 0 P/A  
9  多层膜 204 B\|>i~u(  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 joDfvY*[  
9.2  内部透过率 204 `P/*x[?  
9.3 内部透射率数据 205 QY+#Vp<`  
9.4  实例 206 kRiWNEw  
9.5  实例2 210 V@>?lv(\  
9.6  圆锥和带宽计算 212 `1EBnL_1  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 w^|,[G ^}H  
10  光学薄膜的颜色 216 CX':nai  
10.1  导言 216 %~p_bKd~  
10.2  色彩 216 ZX-9BJ`Q  
10.3  主波长和纯度 220 .ET;wK  
10.4  色相和纯度 221 eiEZtu  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 1>%SSQ  
10.6 色差 226 K- }k-S  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 FZ=6x}QZ  
10.8  颜色渲染指数 234 ts;_T..L  
10.9  色差计算 235 'dWJ#9C  
10.10  参考文献 236 YGWb!|Z$  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 *~!xeL  
11.1  短脉冲 238 oTI*mGR1Z  
11.2  群速度 239 C2<y(GU[Bh  
11.3  群速度色散 241 f=K1ZD  
11.4  啁啾(chirped) 245 !a~x |pjJ  
11.5  光学薄膜—相变 245 Nr`nL_DQ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 nNhN:?  
11.7  色度色散 246 ynOp7ZN$  
11.8  色散补偿 249 d`~#uN {  
11.9  空间光线偏移 256 B10p7+NBF  
11.10  参考文献 258 Ka_UVKwMro  
12  公差与误差 260 _D,8`na>K  
12.1  蒙特卡罗模型 260 J+IW  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 @0 -B&w  
12.2.1  误差工具 267 /kw4":{]  
12.2.2  灵敏度工具 271 Dx <IS^>i  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 'R,d?ikY  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 #eUfwd6.Y  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 |Y'$+[TE  
12.3  参考文献 276 {t=Nnc15K  
13  Runsheet 与Simulator 277 Z$ftG7;P0  
13.1  原理介绍 277 M%B[>pONb7  
13.2  截止滤光片设计 277 SAH\'v0  
14  光学常数提取 289 ;*Rajq  
14.1  介绍 289 \^#1~Kx  
14.2  电介质薄膜 289 izC>-  
14.3  n 和k 的提取工具 295 2#(7,o}Y5  
14.4  基底的参数提取 302 mlVv3mVyR<  
14.5  金属的参数提取 306 Q%eBm_r;  
14.6  不正确的模型 306 .vW~(ZuD  
14.7  参考文献 311 !r LHPg  
15  反演工程 313 'nT#3/rL  
15.1  随机性和系统性 313 ?1N0+OW   
15.2  常见的系统性问题 314 &\"fH+S  
15.3  单层膜 314 p +T&9  
15.4  多层膜 314 1)YFEU&]  
15.5  含义 319 ;! 9_5Ar%  
15.6  反演工程实例 319 ! 4oIx`  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 z=K5~nU  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 3?O| X+$p  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 <oXsn.'\  
16.1  光学性质的热致偏移 329 J,D{dYLDD  
16.2  应力工具 335 T^nX+;:|  
16.3  均匀性误差 339 xlwsZm{V  
16.3.1  圆锥工具 339 9{TOFjsF  
16.3.2  波前问题 341 K[kmfXKu  
16.4  参考文献 343 I !(yU  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 6AwnmGL(;;  
17.1  引言 345 I L\mFjZ'  
17.2  操作数 345 >bZ#  
18  如何在Function中编写脚本 351 #KK(Z \;  
18.1  简介 351 e{} o:r  
18.2  什么是脚本? 351 f.f4<_v'h  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 PaDT)RrEM  
18.4  基础 352 :5*<QJuI#A  
18.4.1  Classes(类别) 352 *C:+N>  
18.4.2  对象 352 > Qtyw.n  
18.4.3  信息(Messages) 352 E, v1F!  
18.4.4  属性 352 0*AlLwO  
18.4.5  方法 353 up1aFzY|6x  
18.4.6  变量声明 353 c:6w >:  
18.5  创建对象 354 }O>Zu[8a  
18.5.1  创建对象函数 355 62 _$O"  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ~>C>LH>8  
18.5.3 丢弃对象 356 eLTNnz  
18.5.4  总结 356 &q< 8tTW5  
18.6  脚本中的表格 357 *Vc=]Z2G^  
18.6.1  方法1 357 +|H'I j$  
18.6.2  方法2 357 < 5PeI  
18.7 2D Plots in Scripts 358 yJL"uleRT  
18.8 3D Plots in Scripts 359 "_K 6=  
18.9  注释 360 m2! 7M%]GC  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 .UYpPuAkn  
18.11  一个更高级的脚本 362 yT n@p(J  
18.12  <esc>键 364 </=PN1=A  
18.13 包含文件 365 S|J8:-  
18.14  脚本被优化调用 366 -,;Ep'  
18.15  脚本中的对话框 368 5QSmim  
18.15.1  介绍 368 :mrGB3x{  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 kwL) &@  
18.15.3  输入框函数 370 &wuV}S 7  
18.15.4  自定义对话框 371 )QE_+H}p  
18.15.5  对话框编辑器 371 G8s`<:9*  
18.15.6  控制对话框 377 y|dXxd9  
18.15.7  更高级的对话框 380 d<Os TA  
18.16 Types语句 384 C|I 1 m  
18.17 打开文件 385 N93E;B  
18.18 Bags 387 9y5 \4&v  
18.13  进一步研究 388 U %ESuq#  
19  vStack 389 zoJ;5a.3B  
19.1  vStack基本原理 389 KR}0(,Y  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 BQU5[8l  
19.3  五棱镜 393 *o[%?$8T  
19.4 光束距离 396 t0>{0 5  
19.5 误差 399 `Ek!;u>  
19.6  二向分色棱镜 399 X w8i l  
19.7  偏振泄漏 404 nsT|,O  
19.8  波前误差—相位 405 ;Kf|a}m-  
19.9  其它计算参数 405 kOCxIJ!Xp=  
20  报表生成器 406 C6VoOT )\  
20.1  入门 406 =5ih,>>g  
20.2  指令(Instructions) 406 FZ9<Q  
20.3  页面布局指令 406 R`Lm"5w  
20.4  常见的参数图和三维图 407 qX(%Wn;n  
20.5  表格中的常见参数 408 [hL1 PWKs  
20.6  迭代指令 408 +29\'w,  
20.7  报表模版 408 ?I'-C?(t@1  
20.8  开始设计一个报表模版 409 JF*g!sV%  
21  一个新的project 413 `I8^QcP  
21.1  创建一个新Job 414 j/<y  
21.2  默认设计 415 hU 7fZl%yl  
21.3  薄膜设计 416 Xa@wN/"F  
21.4  误差的灵敏度计算 420 7LwS =yP  
21.5  显色指数计算 422 /[? F1Q  
21.6  电场分布 424 Q: O>kCDV  
后记 426 NVeRn  
;J(,F:N  
LJwMM  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 rk/ c  
XKX,7  
《Essential Macleod中文手册》
IxZ.2 67  
wzPw; xuG  
目  录 38rZ`O*D  
oKi1=d+T  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 EQ7n'Wqq  
第1章 介绍 ..........................................................1 S;Z3v)E-f  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 cN7z(I0[  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 nV3 7` I  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 .4<U*Xkt  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 66<\i ltUQ  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 o#P3lz  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 \Byk`} 9  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 7f%Qc %B  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 0l: pWc  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 1[BvHOI2  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 !t Oky  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 )v=G}j^  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 b8Rh|"J)d  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 qW~ R-g]  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 h+3Z.WKhwP  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 2 dD<]  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 AC:s4iacC  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ` G=L07  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 'ZH<g8:=@  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Tn0l|GRuZA  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 W)!{U(X  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 %s2"W~  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 {!1n5a3" 1  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 bo;pj$eR3R  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 i!W8Q$V  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 A>t!/_"  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 R96o8#7Uv  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 SxZ^ "\H  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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