线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1062
时间地点 ? NK} q\$  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 'MlC 1HEp  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 #e|kA&+8M  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 BV:,b S  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 CrQ& -!Eh  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
+~]g&Mf6o  
特邀专家介绍 ")buDU6_  
n=MYv(Pp}  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 5E(P,!-.  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 D4-U[l+K>  
课程概要 <xNM@!'\h  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 [6qP;  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 y_r6T XnGL  
课程大纲 f#MN-1[67  
1. Essential Macleod软件介绍 +'4dP#  
1.1 介绍软件 Db:WAjU  
1.2 创建一个简单的设计 tC~itU=V  
1.3 绘图和制表来表示性能 {<BK@U  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 \./2Qc,  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 2p[3Ap  
1.6 特定设计的公式技术 |mA*[?ye@  
1.7 交互式绘图 yln.E vJjD  
2. 光学薄膜理论基础 |{"7/~*[  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 B 1.@K}  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8RD)yRJ  
3. 材料管理 :AGQkJb  
3.1 材料模型 :M`BVZ1t  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 5E|2 S_)G  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 i*>yUav"  
3.4 基板光学常数的提取 _xsYcw~)  
4. 光学薄膜设计优化方法 [D\AVx&  
4.1 参考波长与g !d_A?q'hN  
4.2 四分之一规则 t9{EO#o' k  
4.3 导纳与导纳图 ajr8tp'  
4.4 斜入射光学导纳 @ U|u _S@  
4.5 光学薄膜设计的进展 (#`o >G(  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 =c 4U%d2  
4.6.1 优化目标设置 mg]dKp  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) xn[di-L F  
4.6.3 膜层锁定和链接 C(hg"_W ou  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 A/aQpEb%  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 #1k,t  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 T]`" Xl8  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 1jVcL)szU  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 .m51/X&*n  
5.5 如何在Function中编写脚本 H0 t1& :  
6. 光学薄膜系统案例 u> Hx#R<*%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 AR^Di`n!  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 [8#l~ |U  
6.3 Stack应用范例说明 &9tsk#bA.g  
7. 薄膜性能分析 H;ib3?  
7.1 电场分布 SF7 Scd  
7.2 公差与灵敏度分析 hI 0l2OE  
7.3 反演工程 i=@*F$,  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ]ghPbS@  
8. 真空技术 *uR'eXW  
8.1 常用真空泵介绍 i YkNtqn/  
8.2 真空密封和检漏 <KX#;v!I  
9. 薄膜制备技术 Vo()J4L  
9.1 常见薄膜制备技术 g= 8e.Y*Fr  
10. 薄膜制备工艺 KivzgNz  
10.1 薄膜制备工艺因素 C/G[B?:h  
10.2 薄膜均匀性修正技术 'z/hj>B<  
10.3 光学薄膜监控技术 zT8K})#  
11. 激光薄膜 H#K|SSqY?  
11.1 薄膜的损伤问题 |.5d^z  
11.2 激光薄膜的制备流程 `^ok5w"oi  
11.3 激光薄膜的制备技术 10(N|2'q  
12. 光学薄膜特性测量 mDUS9>  
12.1 薄膜光谱测量 3( kZfH~  
12.2 薄膜光学常数测量 *v&RGY[>  
12.3 薄膜应力测量 F2=97 =R  
12.4 薄膜损伤测量 zF7T5 Ge  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 = 1C9lKm  
t)h3GM  
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::6@mFLR  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
D@e:Fu1\R  
内容简介 i fUgj8i_  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 .E(Ucnz/  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 IV76#jL  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 "\ md  
ryP z q}#  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
$v,_8{ !  
目录 QMP:}  
Preface 1 CAfG3;  
内容简介 2 p6p_B   
目录 i !WN r09`  
1  引言 1 E@p9vf->  
2  光学薄膜基础 2 u56cT/J1  
2.1  一般规则 2 G6FknYj  
2.2  正交入射规则 3 rnUe/HjH  
2.3  斜入射规则 6 >K3Lww)Ln  
2.4  精确计算 7 =x> KA*O1  
2.5  相干性 8 kq+L63fZ  
2.6 参考文献 10 xQ4Q'9  
3  Essential Macleod的快速预览 10 6Y=)12T  
4  Essential Macleod的特点 32 o/&Q^^Xj^~  
4.1  容量和局限性 33 Y&nY]VV  
4.2  程序在哪里? 33 WukD|BCC  
4.3  数据文件 35 c ;VW>&,B  
4.4  设计规则 35 q4{ 6@q  
4.5  材料数据库和资料库 37 9#+X?|p+0  
4.5.1材料损失 38 eG.?s ;J0  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 W>.qGK|l  
4.5.2 材料库 41 I?gbu@o  
4.5.3导出材料数据 43 z@2NAC  
4.6  常用单位 43 o&zeOJW  
4.7  插值和外推法 46 )9s[-W,e  
4.8  材料数据的平滑 50 k# /_Zd  
4.9 更多光学常数模型 54 ?o2L  
4.10  文档的一般编辑规则 55 z,vjY$t:/  
4.11 撤销和重做 56 BO^e.iB/  
4.12  设计文档 57 o4xZaF4+  
4.10.1  公式 58 EyhQjs aT  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 P6 9S[aqW  
4.10.3  沉积密度 59 `3~w#?+=*  
4.10.4 平行和楔形介质 60 'j|;M  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 U.&=b<f(0r  
4.10.4  性能 61 -g~$HTsGm  
4.10.5  保存设计和性能 64 ."${.BPn~  
4.10.6  默认设计 64 @l 1 piz8  
4.11  图表 64 Y:O%xtGi  
4.11.1  合并曲线图 67 DF<_Ns!  
4.11.2  自适应绘制 68 Q!c*2hI  
4.11.3  动态绘图 68 I_Q'+d  
4.11.4  3D绘图 69 Xcb\N  
4.12  导入和导出 73 \\_Qv  
4.12.1  剪贴板 73 "[76>\'H  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 uCx\Bt"VI  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 mhL,:UE  
4.13  背景 77 6:Ra3!V"v  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 VK8 5A  
4.15  生成Rugate 84 e(sQgtM6  
4.16  参考文献 91 t ;(kSg.  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Pl U!-7  
5.1  Jobs 92 z"|^Y|`m  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 C;_10Rb2ut  
5.3  输入材料 94 ^8DC W`V  
5.4  设计数据文件夹 95 Jjv, )@yo  
5.5  默认设计 95 !9B)/Xi  
6  细化和合成 97 |+%K89W  
6.1  优化介绍 97 RV-7y^[]^  
6.2  细化 (Refinement) 98 -3A#a_fu  
6.3  合成 (Synthesis) 100 B+ +:7!  
6.4  目标和评价函数 101 |:C=j/f   
6.4.1  目标输入 102 HKV]Rn  
6.4.2  目标 103 ht ` !@B  
6.4.3  特殊的评价函数 104 +v/_R{ M  
6.5  层锁定和连接 104 *:wu{3g}M`  
6.6  细化技术 104 w[t!?(![>  
6.6.1  单纯形 105 p "u5wJ_  
6.6.1.1 单纯形参数 106 A~u-Iv(U  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 G}d@^9FkE  
6.6.2.1 Optimac参数 108 bmFnsqo  
6.6.3  模拟退火算法 109 lIz"mk  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 |,|b~>  
6.6.4  共轭梯度 111 zGF_ c9X  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 wj /OYnMw  
6.6.5  拟牛顿法 112 4$C:r&K  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 UT%^!@u  
6.6.6  针合成 113 h5>JBLawQP  
6.6.6.1 针合成参数 114 m z) O  
6.6.7 差分进化 114 /2 ')u|  
6.6.8非局部细化 115 -:&qNY:Vp  
6.6.8.1非局部细化参数 115 % [b~4,c1  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 =otJf~  
6.7.1  细化 116 ?"\X46Gz;  
6.7.2  合成 117 yc?+L ;fN  
6.8  参考文献 117 adRvAq]mA  
7  导纳图及其他工具 118 @Pb!:HeJE  
7.1  简介 118 `L/\F,  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 n]jZ2{g+   
7.2.1  四分之一波长规则 119 [kaj8  
7.2.2  导纳图 120 9v=5x[fE  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 lku}I4  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 eKsc ["  
7.5  斜入射导纳图 141 fo@ 2@  
7.6  对称周期 141 { <f]6  
7.7  参考文献 142 0j@gC0xu)|  
8  典型的镀膜实例 143 v@(Y:\>  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Ey4%N`H-^  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 v47Y7s:uQ  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 =J:6p-\*  
8.4  W-膜层 148 bS[;d5  
8.5  V-膜层 149 \4zb9CxOZ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 &==X.2XW  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 :+: vBrJm  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 d2Pqi* K  
8.9  四层抗反射薄膜 153 R9%Um6  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 lu2"?y[2  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 QpbyC_:;$4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 XR3=Y0YDf  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9Kf# jZ  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 8K$q6V%#  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 _\uyS',  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 @ W[LA<  
8.17  1/4波长堆栈 162 w_4/::K*  
8.18  陷波滤波器 163 ]#x!mZ!  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?Zu2=<DU  
8.20  褶皱 165 :!Ea.v  
8.21  消偏振分光器1 169 V 3?x_pp  
8.22  消偏振分光器2 171 Gpv9~&  
8.23  消偏振立体分光器 172 S&N[@G  
8.24  消偏振截止滤光片 173 X} <p|P+  
8.25  立体偏振分束器1 174 >..C^8 "  
8.26  立方偏振分束器2 177 ;c};N(2  
8.27  相位延迟器 178 XpS].P9  
8.28  红外截止器 179 `0'Bg2'  
8.29  21层长波带通滤波器 180 bLSXQStB  
8.30  49层长波带通滤波器 181 bruM#T@}  
8.31  55层短波带通滤波器 182 @'XxMO[Z!<  
8.32  47 红外截止器 183 C 0@tMB7  
8.33  宽带通滤波器 184 gK7bP'S8H  
8.34  诱导透射滤波器 186 w=Cq v~  
8.35  诱导透射滤波器2 188 /1OzX'5f  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 !5FZxmUup  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 +OM`c7M:  
8.35  增益平坦滤波器 193 q3Tp /M.  
8.38  啁啾反射镜 1 196 % VZ QX_  
8.39  啁啾反射镜2 198 "eRf3Q7w:  
8.40  啁啾反射镜3 199 1T96W :   
8.41  带保护层的铝膜层 200 n^kszIu~  
8.42  增加铝反射率膜 201 "'i" @CR  
8.43  参考文献 202 (?[^##03MN  
9  多层膜 204 c:>&iB-Yu  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 m 3k}iIU7  
9.2  内部透过率 204 'a1%`rzm  
9.3 内部透射率数据 205 t.f#_C\  
9.4  实例 206 9'tOF  
9.5  实例2 210 >U?U ;i  
9.6  圆锥和带宽计算 212 2pu8')'P  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Ro1b (+H  
10  光学薄膜的颜色 216 @!;EW R]  
10.1  导言 216 AC'$~4  
10.2  色彩 216 7=V s1TVc  
10.3  主波长和纯度 220 ZMFV iE;8  
10.4  色相和纯度 221 ~x}/>-d  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 vbXZZ  
10.6 色差 226 02|f@bP.  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ? dD<KCbP,  
10.8  颜色渲染指数 234 iobL6SUZ  
10.9  色差计算 235 I)9un|+,y  
10.10  参考文献 236 ah1DuTT/G  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 &2i3"9k  
11.1  短脉冲 238 @#wBK3Ut^  
11.2  群速度 239 S4qj}`$ Yv  
11.3  群速度色散 241 4O~E4" ]  
11.4  啁啾(chirped) 245 *cNqgw#\qL  
11.5  光学薄膜—相变 245 -&3WN!egq  
11.6  群延迟和延迟色散 246 w"p,6Ew  
11.7  色度色散 246 <X5'uve  
11.8  色散补偿 249 : 5=E> !  
11.9  空间光线偏移 256 67916  
11.10  参考文献 258 g`(' k5=  
12  公差与误差 260 HkgmZw,  
12.1  蒙特卡罗模型 260 4s{_(gy  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ^g[,}t:/d  
12.2.1  误差工具 267 f(Hh(  
12.2.2  灵敏度工具 271 EqY e.dF,  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 "!\ON)l*  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 7.G1Q]6/  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 +W=  
12.3  参考文献 276 ve#*qz Y  
13  Runsheet 与Simulator 277 iGCA>5UE  
13.1  原理介绍 277 .Vy*p")"  
13.2  截止滤光片设计 277 ?B&Z x-krd  
14  光学常数提取 289 IYJS>G%*  
14.1  介绍 289 Yn0l}=, n  
14.2  电介质薄膜 289 bC[TLsh7{2  
14.3  n 和k 的提取工具 295 X<6Ro es2  
14.4  基底的参数提取 302 Y+ZQN>  
14.5  金属的参数提取 306 LdSBNg#3  
14.6  不正确的模型 306 %TO=]>q  
14.7  参考文献 311  ppwjr +  
15  反演工程 313 ]klP.&I/0  
15.1  随机性和系统性 313 @O~  
15.2  常见的系统性问题 314 IV"OzQONx  
15.3  单层膜 314 v^Vr^!3  
15.4  多层膜 314 j_r?4k  
15.5  含义 319 vY+{zGF  
15.6  反演工程实例 319 0zSRk]i.f  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .I6:iB  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 $]&0`F  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 )p,uZ`~v  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ]e*Zx;6oi  
16.2  应力工具 335 .Pp;%  
16.3  均匀性误差 339 \,U#^Vr  
16.3.1  圆锥工具 339 SAuZWA4g[  
16.3.2  波前问题 341 d+ LEi^  
16.4  参考文献 343 Xp(e/QB  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 x2P}8Idg?A  
17.1  引言 345 'Gn-8r+  
17.2  操作数 345 cBgdBPDa  
18  如何在Function中编写脚本 351 HwE1cOT  
18.1  简介 351 buIy+  
18.2  什么是脚本? 351 ER z@o_  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 nG0Uv%?{pj  
18.4  基础 352 ZcTxE]Y  
18.4.1  Classes(类别) 352 MhE'_sq  
18.4.2  对象 352 ^ X&`:f  
18.4.3  信息(Messages) 352 ] D(laqS;"  
18.4.4  属性 352 #g.J,L  
18.4.5  方法 353 cfb8kNn~+  
18.4.6  变量声明 353 IW48Sg  
18.5  创建对象 354 Je|D]w  
18.5.1  创建对象函数 355 @<GVY))R8  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ~2R3MF.C  
18.5.3 丢弃对象 356 Gi<ik~  
18.5.4  总结 356 P'4oI0Bw  
18.6  脚本中的表格 357 UV?.KVD~  
18.6.1  方法1 357 (-lu#hJ`&r  
18.6.2  方法2 357 f8>S<:  
18.7 2D Plots in Scripts 358 /0w?"2-  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ^bVY&iXNu  
18.9  注释 360 d+9T}? T:*  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 <Pg]V:=g'  
18.11  一个更高级的脚本 362 un+U_|>c  
18.12  <esc>键 364 njz:7]>e  
18.13 包含文件 365 Tum9Xa  
18.14  脚本被优化调用 366 \\j98(i  
18.15  脚本中的对话框 368 /}~; b#t  
18.15.1  介绍 368 T<p,KqH  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 {{FA "NW  
18.15.3  输入框函数 370 RETq S  
18.15.4  自定义对话框 371 4r@dV%:%<  
18.15.5  对话框编辑器 371 YNGG> ;L  
18.15.6  控制对话框 377 ELF,T (  
18.15.7  更高级的对话框 380 8"C;I=]8  
18.16 Types语句 384 HvITw%`  
18.17 打开文件 385 "@xF(fyg  
18.18 Bags 387 fk(l.A$  
18.13  进一步研究 388 =y3gnb6  
19  vStack 389 HJY_l  
19.1  vStack基本原理 389 69Y>iPRU  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Y(>]7  
19.3  五棱镜 393 7\'ow|)}v  
19.4 光束距离 396 4<`x*8` ,  
19.5 误差 399 |51z&dG  
19.6  二向分色棱镜 399 gE,i Cx  
19.7  偏振泄漏 404 R5QSf+/T4  
19.8  波前误差—相位 405 B_u+$Odo  
19.9  其它计算参数 405 X X>Y]P a  
20  报表生成器 406 b"Hg4i)  
20.1  入门 406 NN<kO#c+2  
20.2  指令(Instructions) 406 bSW!2#~  
20.3  页面布局指令 406 Z`fm;7NiVG  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Ji7%=_@'-#  
20.5  表格中的常见参数 408 %@<}z|.4  
20.6  迭代指令 408 ^s@?\v  
20.7  报表模版 408 9v(&3,)a  
20.8  开始设计一个报表模版 409 %eoO3"//  
21  一个新的project 413 opz.kP[e,  
21.1  创建一个新Job 414 %m'd~#pze  
21.2  默认设计 415 ]Y|Y?  
21.3  薄膜设计 416 A9lnQCsJ  
21.4  误差的灵敏度计算 420 UQl3Tq4QM  
21.5  显色指数计算 422 s[:e '#^  
21.6  电场分布 424 j)Z3m @Ii5  
后记 426 ^>?gFvWB%  
whW"cFg  
/*Z ,i&eC  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 KZn\ iwj  
OQ<|Xd I$  
《Essential Macleod中文手册》
]R^?Pa1Te4  
=G*rfV@__V  
目  录 .K(IRWuw  
4ze-N8<[  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 .M_[tl  
第1章 介绍 ..........................................................1 RdlcJxM  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 9:^SnHAa  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 \WD}@6) ~  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 8U B-(~  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 [wAI;=.  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 6 2&E]>A(i  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 'xAfcP[^  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 `gq@LP"o  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ugg08am!  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 9)p VDS  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 uX@RdkC  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 rlYAy5&  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 g7k|Ho-W  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Oy$*ZG)  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 kUAjQ>  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 x|l[fdm5  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 lz X0B&:  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 yG?,8!/]  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 i Xtar;%  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 wmFI?   
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 lmb5Z-xB  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 sHO6y0P  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 EBS04]5ul  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ,Z*?"d  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 UJ1Ui'a(!!  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 }6} Gj8Nb  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Hep]jxp+  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 m4(:H(Za  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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