线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:472
时间地点 kCima/+_  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 7"ylN"syZ  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 p+, 1Fi  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 2.[_t/T  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 p= !#],[  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
%&^Q(f  
特邀专家介绍 Vh"MKJ'R^  
79)A%@YHQQ  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 _9D|u<D  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 H4M{_2DO  
课程概要 }qc#lz  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 z>4 D~HX  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 8AT;8I<K  
课程大纲 JNh=fvO2i  
1. Essential Macleod软件介绍 j((hqJr  
1.1 介绍软件 :e1'o  
1.2 创建一个简单的设计 JXpoCCe  
1.3 绘图和制表来表示性能 - #3{{  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Q]< (bD.7  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) YecT 96%  
1.6 特定设计的公式技术 \% }raI;Y@  
1.7 交互式绘图 yZq?B  
2. 光学薄膜理论基础 CV'&4oq  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Xo2^N2I  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 bfFmTI$,  
3. 材料管理 S8\+XJ  
3.1 材料模型 |<sf:#YzY&  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 m"n.Dz/S  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 [}z?1Gj;W(  
3.4 基板光学常数的提取 Yt -W1vl  
4. 光学薄膜设计优化方法 )))2f skZ  
4.1 参考波长与g XJe/tR  
4.2 四分之一规则 K} +S+ *_  
4.3 导纳与导纳图 S|HY+Z6n'  
4.4 斜入射光学导纳 BsKbn@'uC  
4.5 光学薄膜设计的进展 $4=Ne3 y  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 aC`Li^  
4.6.1 优化目标设置 ~%`EeJwT  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) d+tj%7  
4.6.3 膜层锁定和链接 V|TA:&:7  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 'f 3HKn<L  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 djUihcqA`  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 tyB)HF  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 9qEOgJ  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 v{o? #Sk1  
5.5 如何在Function中编写脚本 D-6  
6. 光学薄膜系统案例 oew|23Ytb  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 A^-iHm  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 =nzFd-P  
6.3 Stack应用范例说明 [a@ B =E  
7. 薄膜性能分析 B~?c3:6  
7.1 电场分布 HL@TcfOe~  
7.2 公差与灵敏度分析 cv= \g Z  
7.3 反演工程 |"Z-7@/k$i  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Mq@}snp"S  
8. 真空技术 mmHJ h\2v  
8.1 常用真空泵介绍 QP:9%f>=  
8.2 真空密封和检漏 |~eY%LB  
9. 薄膜制备技术 @l{I[pp  
9.1 常见薄膜制备技术 }wfI4?}j}  
10. 薄膜制备工艺 WHP;Neb6  
10.1 薄膜制备工艺因素 AuAT]`  
10.2 薄膜均匀性修正技术 y1iX!m~)  
10.3 光学薄膜监控技术 *<r%aeG$em  
11. 激光薄膜 usy,V"{  
11.1 薄膜的损伤问题 bo1I&I  
11.2 激光薄膜的制备流程 6GzzG P^  
11.3 激光薄膜的制备技术 -,^WaB7u\  
12. 光学薄膜特性测量 45) D+  
12.1 薄膜光谱测量 -bA!PeI  
12.2 薄膜光学常数测量 as(*B-_n~  
12.3 薄膜应力测量 7H%_sw5S.  
12.4 薄膜损伤测量 3T1P$E" m  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 !Av1Leb9$  
ZOuR"9]  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
HyEa_9  
内容简介 3p_b8K_bG  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^!}F%  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 yX'IZk#_L  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <GaT|Hhc=  
,E?4f @|X  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
wu2:'y>n  
目录 b/nOdFO@  
Preface 1 wWTQ6~Y%d  
内容简介 2 f*<ps o  
目录 i &dRjqn^&X  
1  引言 1 A#35]V06  
2  光学薄膜基础 2 0wFh%/:  
2.1  一般规则 2 &2{]hRM  
2.2  正交入射规则 3 $6!i BX@  
2.3  斜入射规则 6 4)^vMG&  
2.4  精确计算 7 Fc'[+L--Q  
2.5  相干性 8 P>wZ~Hjk  
2.6 参考文献 10 "15=ET  
3  Essential Macleod的快速预览 10 BSKEh"f  
4  Essential Macleod的特点 32 DWrbp  
4.1  容量和局限性 33 z h%qS~8Yv  
4.2  程序在哪里? 33 ~^$MA$/p  
4.3  数据文件 35 q 5p e~  
4.4  设计规则 35 ZoxS*Xk  
4.5  材料数据库和资料库 37 <Oa9oM},d  
4.5.1材料损失 38 $)*xC!@6X  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Pbe7SRdr^  
4.5.2 材料库 41 ?E7=:h(@t  
4.5.3导出材料数据 43 9|=nV|R'6  
4.6  常用单位 43 {y6C0A*  
4.7  插值和外推法 46 U:n*<l-k}  
4.8  材料数据的平滑 50 :B.G)M\  
4.9 更多光学常数模型 54 A"4@L*QV  
4.10  文档的一般编辑规则 55 k 4B_W  
4.11 撤销和重做 56 ~<,Sh~Ana.  
4.12  设计文档 57 U5<@<j(@  
4.10.1  公式 58 Cs4hgb|  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 P}@*Z>j:#  
4.10.3  沉积密度 59 &@6 GI<  
4.10.4 平行和楔形介质 60 XG&K32_fs  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 El (/em  
4.10.4  性能 61 e+@xs n3  
4.10.5  保存设计和性能 64 )6{P8k4Zr  
4.10.6  默认设计 64 GV8)Kor%  
4.11  图表 64 M&yqfb[  
4.11.1  合并曲线图 67 $<OhGk-  
4.11.2  自适应绘制 68 5B*qbM  
4.11.3  动态绘图 68 ,I`_F,  
4.11.4  3D绘图 69 |I^y0Q:K  
4.12  导入和导出 73 a$m_D!b~_  
4.12.1  剪贴板 73 _- %d9@x  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 _z8;lt   
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ~`R1sSr"  
4.13  背景 77 ~@P)tl>  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wmYvD<  
4.15  生成Rugate 84 (Es{la G  
4.16  参考文献 91 Ttv'k*$cP  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 WZ?!!   
5.1  Jobs 92 H]Wp%"L  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 +< KNY  
5.3  输入材料 94 }V]eg,.BJ  
5.4  设计数据文件夹 95 R 1'`F{56  
5.5  默认设计 95 1;Xgc@  
6  细化和合成 97 $]*d#`Sy{%  
6.1  优化介绍 97 A5XR3$5P  
6.2  细化 (Refinement) 98 c7qwNs*f  
6.3  合成 (Synthesis) 100 [5Y<7DS  
6.4  目标和评价函数 101 a)S7}0|R  
6.4.1  目标输入 102 GuO`jz F  
6.4.2  目标 103 =M<z8R  
6.4.3  特殊的评价函数 104 RH1uVdJ1  
6.5  层锁定和连接 104 wL2XNdo}<  
6.6  细化技术 104 ,4Y*:JU4  
6.6.1  单纯形 105 QlD6i-a  
6.6.1.1 单纯形参数 106 xvDI 4x&  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 &&PgOFD  
6.6.2.1 Optimac参数 108 #C\4/g? =,  
6.6.3  模拟退火算法 109 |+NuYz?  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 -0 0}if7  
6.6.4  共轭梯度 111 R2LK.bTVn  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 m:{tgcE  
6.6.5  拟牛顿法 112 F_ljx  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 *{5>XH{ x  
6.6.6  针合成 113 c_1/W{  
6.6.6.1 针合成参数 114 (p |DcA]BX  
6.6.7 差分进化 114 %;O}FyP  
6.6.8非局部细化 115 Wsm`YLYkt!  
6.6.8.1非局部细化参数 115 5f{|"LG&  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 U CY2 ]E  
6.7.1  细化 116 3ATjsOL  
6.7.2  合成 117 -_~)f{KN@  
6.8  参考文献 117 SI*^f\lu  
7  导纳图及其他工具 118 jvs[ /  
7.1  简介 118 f0oek{  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 V8"Wpl9Cz  
7.2.1  四分之一波长规则 119 QIV%6q+*R  
7.2.2  导纳图 120 Np)aS[9W  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 0H:dv:#WAI  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 @2e2^8X7f  
7.5  斜入射导纳图 141 DU{bonR`  
7.6  对称周期 141 ',mW`ZN  
7.7  参考文献 142 Fu)Th|5GZ  
8  典型的镀膜实例 143 ax@H"d&  
8.1  单层抗反射薄膜 145 (ZPXdr  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 2 F?kjg,  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8(xw?|D7  
8.4  W-膜层 148 &KqVN]1+^  
8.5  V-膜层 149 +t]Xj1Q  
8.6  V-膜层高折射基底 150 U:lv^ QPG  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 nq;#_Rkr  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 z[&s5"  
8.9  四层抗反射薄膜 153 qY(:8yC36  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 r4eUZ .8R  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 9?`RR/w  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 +?d}7zh  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 dr })-R  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158  T-8J   
8.15十五层宽带抗反射膜 159 9 P"iuU  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 PZM42"[&  
8.17  1/4波长堆栈 162 JJf<*j^G  
8.18  陷波滤波器 163 Lko`F$5X  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8tQ|-l *  
8.20  褶皱 165 .3wY\W8Dr-  
8.21  消偏振分光器1 169 Iql5T#K+  
8.22  消偏振分光器2 171 0BTLcEqgZ  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^M Ey,  
8.24  消偏振截止滤光片 173 3"rkko?A  
8.25  立体偏振分束器1 174 Y}.Ystem  
8.26  立方偏振分束器2 177 F?4Sz#  
8.27  相位延迟器 178 I/s.xk_i  
8.28  红外截止器 179 $qm~c[x%  
8.29  21层长波带通滤波器 180 >XE`h 9  
8.30  49层长波带通滤波器 181 . U/k<v<)6  
8.31  55层短波带通滤波器 182 >q(6,Mmb  
8.32  47 红外截止器 183 f7+Cz>R  
8.33  宽带通滤波器 184 x9V {R9_gf  
8.34  诱导透射滤波器 186 pm]fQ uq  
8.35  诱导透射滤波器2 188 9<cOYY  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 #T% zfcUj  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 0.DQO;  
8.35  增益平坦滤波器 193 "ahvNx;x  
8.38  啁啾反射镜 1 196 _D-Riu>#J  
8.39  啁啾反射镜2 198 a [C&e,)}  
8.40  啁啾反射镜3 199 J{ ~Rxa  
8.41  带保护层的铝膜层 200 r_2b tpL^  
8.42  增加铝反射率膜 201 !_^g8^>2(  
8.43  参考文献 202 (cs~@  
9  多层膜 204 <lo`q<q  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 }gCHQ;U7`  
9.2  内部透过率 204 dVGbe07  
9.3 内部透射率数据 205 =_QkH!vI  
9.4  实例 206 )zJ=PF  
9.5  实例2 210 2k+16/T  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Sdc*rpH"(  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 hKksVi  
10  光学薄膜的颜色 216 :s*>W$Wp4  
10.1  导言 216 #&siHHs \  
10.2  色彩 216 .,mPdVof  
10.3  主波长和纯度 220 {tt$w>X  
10.4  色相和纯度 221 -1 W  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 J Jy{@[m  
10.6 色差 226 `C'}e  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 p>p'.#M  
10.8  颜色渲染指数 234 -,GEv%6c  
10.9  色差计算 235 E5{n?e  
10.10  参考文献 236 SDc" 4g`  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 3*WS"bt  
11.1  短脉冲 238  :]c=pH  
11.2  群速度 239 x/I;nM Y  
11.3  群速度色散 241 Yu3_=: <C  
11.4  啁啾(chirped) 245 `d*b]2  
11.5  光学薄膜—相变 245 e2Jp'93o'  
11.6  群延迟和延迟色散 246 0QoLS|voA/  
11.7  色度色散 246 h7?.2Q&S  
11.8  色散补偿 249 QymD-A"P  
11.9  空间光线偏移 256 WQt5#m; W  
11.10  参考文献 258 :qnokrGzB  
12  公差与误差 260 \!wh[qEQ\  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Yy@g9mi  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 AgsR-"uh  
12.2.1  误差工具 267 A&l7d0Z^j5  
12.2.2  灵敏度工具 271 Wz{%"o  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 bi,mM,N/  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 AbZ:(+@cP  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 "Ot{^ _e  
12.3  参考文献 276 7@P656{  
13  Runsheet 与Simulator 277 b-nYxd  
13.1  原理介绍 277 |nm2Uy/0  
13.2  截止滤光片设计 277 `a'` $'j  
14  光学常数提取 289 N84qcc  
14.1  介绍 289 `M rBav  
14.2  电介质薄膜 289 ~4^p}{  
14.3  n 和k 的提取工具 295 IJIQ" s  
14.4  基底的参数提取 302 8IJ-]wHIb  
14.5  金属的参数提取 306 o<J5!  
14.6  不正确的模型 306 & rQD`E/  
14.7  参考文献 311 kY!C_kFcn  
15  反演工程 313 Tc_do"uU  
15.1  随机性和系统性 313 sVoR?peQ  
15.2  常见的系统性问题 314 %EoH4LzT  
15.3  单层膜 314 } J(1V!EA  
15.4  多层膜 314 ~ B]jV$=  
15.5  含义 319 ?9S+Cj`  
15.6  反演工程实例 319 8uA<G/Q;  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 N 8}lt  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 VN+\>j-  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 f".q9{+p,  
16.1  光学性质的热致偏移 329 %M6 c0d[9-  
16.2  应力工具 335 +-P<CCvWz  
16.3  均匀性误差 339 8t\}c6/3"  
16.3.1  圆锥工具 339 ?cxr%`E  
16.3.2  波前问题 341 D1ZC&B_}-  
16.4  参考文献 343 k_O-5{  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 m&cvU>lC  
17.1  引言 345 %,;gP.dh7  
17.2  操作数 345 H;wR  
18  如何在Function中编写脚本 351 Yj3*)k  
18.1  简介 351 G"C;A`6  
18.2  什么是脚本? 351 O+vcs4  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 cz>mhD  
18.4  基础 352 InN{^uN  
18.4.1  Classes(类别) 352 X~zRZ0  
18.4.2  对象 352 w&C1=v -h  
18.4.3  信息(Messages) 352 m9Il\PoTq  
18.4.4  属性 352 ol#yjrv  
18.4.5  方法 353 ]|y}\7Aa  
18.4.6  变量声明 353 -%=RFgU4  
18.5  创建对象 354 e?1KbJ?.  
18.5.1  创建对象函数 355 OA5f}+  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ~4+8p9f  
18.5.3 丢弃对象 356 \-d '9b?  
18.5.4  总结 356 S ;h&5.p  
18.6  脚本中的表格 357 UEN56@eCNf  
18.6.1  方法1 357 g@(4ujOT  
18.6.2  方法2 357 `fMpV8vv  
18.7 2D Plots in Scripts 358 94YA2_f;  
18.8 3D Plots in Scripts 359 nqeVV&b!  
18.9  注释 360 HSC6;~U  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 -U:2H7  
18.11  一个更高级的脚本 362 ?cJA^W  
18.12  <esc>键 364 kw#X]`c3  
18.13 包含文件 365 [x|)}P7%s  
18.14  脚本被优化调用 366 ]f5c\\)  
18.15  脚本中的对话框 368 U\?+s2I)v  
18.15.1  介绍 368 UI_v3c3b  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 u`+ 'lBE,  
18.15.3  输入框函数 370 d^y86pq.  
18.15.4  自定义对话框 371 _1\poAy  
18.15.5  对话框编辑器 371 k|5k8CRX  
18.15.6  控制对话框 377 @Rf^P(  
18.15.7  更高级的对话框 380 SlT7L||Ww  
18.16 Types语句 384 cPSti  
18.17 打开文件 385 "G@E6{/  
18.18 Bags 387 df yrn%^Ia  
18.13  进一步研究 388 St_S l:m$  
19  vStack 389 IG&B2*  
19.1  vStack基本原理 389 xlk5Gob*  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ]An_5J  
19.3  五棱镜 393 }q]jjs  
19.4 光束距离 396 9LHa&""  
19.5 误差 399 5DUi4 Cbgy  
19.6  二向分色棱镜 399 IBDVFA  
19.7  偏振泄漏 404 ) u-ns5  
19.8  波前误差—相位 405 # 'wL\3  
19.9  其它计算参数 405 *iYMX[$  
20  报表生成器 406 !L/tLHk+  
20.1  入门 406 4NJVW+:2  
20.2  指令(Instructions) 406 88#N~j~P  
20.3  页面布局指令 406 Z|}H^0~7S  
20.4  常见的参数图和三维图 407 i"< ZVw  
20.5  表格中的常见参数 408 {x|MA(NO  
20.6  迭代指令 408 :Fc8S9  
20.7  报表模版 408 d;<.;Od$`  
20.8  开始设计一个报表模版 409 k5q(7&C  
21  一个新的project 413 Vl-D<M+i h  
21.1  创建一个新Job 414 'Z y{mq\  
21.2  默认设计 415 u!M& ;QL  
21.3  薄膜设计 416 8z?$t-DO  
21.4  误差的灵敏度计算 420 x~%\y  
21.5  显色指数计算 422 8cB=}XgYS  
21.6  电场分布 424 @f\ X4!e*y  
后记 426 ? 1GJa]G  
y _6r/z^  
t Z+0}d  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 + 2OZJVJ  
` 4OMZMq  
《Essential Macleod中文手册》
\6U 2-m'  
4bE42c=Ca7  
目  录 w~ijD ^ g  
>=bt   
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Cy]"  
第1章 介绍 ..........................................................1 "--/v. Cs  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 e5QOB/e&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 4a#B!xW  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 9#Z zE/  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 8 qn{  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )7tV*=?Ic8  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 cl ?< 7  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 nMLU-C!t  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ?U=mcdqd  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 .vN)A *  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 JATS6-Lz`  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 <##|311o  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 $# D n4  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 >xk lt"*U,  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ex{)mE4Cd  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ',:3>{9  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ^tQPJ  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 K3j_C` Se  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 C3]\$  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 E*Pz <  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 )j]gm i"  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Q S5dP  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 &t[z  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ,G/\@x%  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 pM1=U F  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 %g!yccD9  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 0TpBSyx.  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 lO%MyP  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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