线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1349
时间地点 N9v1[~ bv_  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 0DJ+I  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 cj1cZ-  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 |%' nVxc4r  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 6Q${U7%7  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
#N`~xZ|$  
特邀专家介绍 lw< c2 C  
E/%9jDTQ  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 L{8xlx`  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 28UU60  
课程概要 o !vE~  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 <=>=.kmGt  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 %|^fi8!:|  
课程大纲 Uk6HQQ  
1. Essential Macleod软件介绍 }Nf%n@  
1.1 介绍软件 |v({-*7  
1.2 创建一个简单的设计 ,.}]ut/Tm  
1.3 绘图和制表来表示性能 t({W [JL  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 n\^Tq<] a  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) lLF-{  
1.6 特定设计的公式技术 _t Yx~J2.Q  
1.7 交互式绘图 1*@'-mj  
2. 光学薄膜理论基础 j 4^97  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 "-+\R}q$  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 T-U}QM_e  
3. 材料管理 OHhsP}/  
3.1 材料模型 `#;e)1  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Ndi9FD3im  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 !Ikt '5/  
3.4 基板光学常数的提取 x3o ]U)^  
4. 光学薄膜设计优化方法 ' <@3i[M  
4.1 参考波长与g 7G/1VeVjB  
4.2 四分之一规则 /assq+H  
4.3 导纳与导纳图 f)^_|8  
4.4 斜入射光学导纳 n}!PO[m~  
4.5 光学薄膜设计的进展 AMyIAZnYq)  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 w%JTTru  
4.6.1 优化目标设置 iqe%=%ZR  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) x7eQ2h6O  
4.6.3 膜层锁定和链接 @tZ&2RY1  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 (q(~de  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .O0 +H+  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4UW_Do  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ZHm7Isa1  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 >8qQK r\"  
5.5 如何在Function中编写脚本 U'<KC"f:'!  
6. 光学薄膜系统案例 3%(N[&LU  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 g.zEn/SM  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 FXi{87F2  
6.3 Stack应用范例说明 2kIa*#VOJ  
7. 薄膜性能分析 ".<DAs j  
7.1 电场分布 H?)w!QX  
7.2 公差与灵敏度分析 4Za7^c.  
7.3 反演工程 ,Q HU_jt  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 4<lRPsvgc  
8. 真空技术 k{Me[B  
8.1 常用真空泵介绍 6 1F(<!  
8.2 真空密封和检漏 !3*(N8_|#  
9. 薄膜制备技术 tavpq.0O  
9.1 常见薄膜制备技术 G"Sd@%W(  
10. 薄膜制备工艺 s#)5h0t#du  
10.1 薄膜制备工艺因素 *rIk:FehLB  
10.2 薄膜均匀性修正技术 !>zo _fP  
10.3 光学薄膜监控技术 ! 3 f?:M  
11. 激光薄膜 3G`aHTWk  
11.1 薄膜的损伤问题 >U]C/P[+  
11.2 激光薄膜的制备流程 dAkgR~  
11.3 激光薄膜的制备技术 >76\nGO  
12. 光学薄膜特性测量 Q=/</|  
12.1 薄膜光谱测量 `O[};3O&  
12.2 薄膜光学常数测量 y*tZ !m2Gg  
12.3 薄膜应力测量 |ayVjqJ*  
12.4 薄膜损伤测量 ^7 &5 z&o  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 t ]_VG  
s3R(vd  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
[g:$K5\64  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
A<qTg`gA  
内容简介 F pa_qjL;  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 JSTuXW  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 P#XID 2;  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 b;cdIl!3  
.R./0Ot tx  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ysQ,)QoiR{  
目录 GJtZ&H  
Preface 1 z2QP)150  
内容简介 2 }5}.lJ:  
目录 i T QSzx%i2  
1  引言 1 :]^P1sH[  
2  光学薄膜基础 2 2gq9k}38  
2.1  一般规则 2 |,!IZ- th  
2.2  正交入射规则 3 .QN>z-YA6:  
2.3  斜入射规则 6 iTAx=SG  
2.4  精确计算 7 VI'hb'2  
2.5  相干性 8 '{ V0M<O  
2.6 参考文献 10 g#t[LI9(F[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 qCqFy#Ms\  
4  Essential Macleod的特点 32 Q^e}?v%=%3  
4.1  容量和局限性 33 6T#+V37  
4.2  程序在哪里? 33 i*NH'o/  
4.3  数据文件 35 h9Y%{v  
4.4  设计规则 35 zN:K%AiGxe  
4.5  材料数据库和资料库 37 P)MDPI+~  
4.5.1材料损失 38 ZsOIH<}S  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 t<|NLk.  
4.5.2 材料库 41 A3iFI9Iv  
4.5.3导出材料数据 43 Ksy -e{n  
4.6  常用单位 43 kAC&S!n  
4.7  插值和外推法 46 5&q8g;XiEM  
4.8  材料数据的平滑 50 )>`G  
4.9 更多光学常数模型 54 JaL%qco  
4.10  文档的一般编辑规则 55 .sj^{kGE  
4.11 撤销和重做 56 6w(6}m.L^  
4.12  设计文档 57 Yo("U8:XX  
4.10.1  公式 58 LG1r]2  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 5yiK+-iTs  
4.10.3  沉积密度 59 -QmO1U  
4.10.4 平行和楔形介质 60 [ zEUH:9D  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 DFd%9*N  
4.10.4  性能 61 371 TvZ4  
4.10.5  保存设计和性能 64 _oUHJ~&,  
4.10.6  默认设计 64 I{*<4a7q  
4.11  图表 64 .On|uC)!  
4.11.1  合并曲线图 67 Lg*B>=  
4.11.2  自适应绘制 68 pD01,5/  
4.11.3  动态绘图 68 2U:H545]]  
4.11.4  3D绘图 69 GrAujc5|  
4.12  导入和导出 73 frT]5?{  
4.12.1  剪贴板 73 0#S W!b|%  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 T<w5vqFDu  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 y1bbILWej  
4.13  背景 77 }woo%N P  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $[/&74#0HX  
4.15  生成Rugate 84 Tp_L%F  
4.16  参考文献 91 S!3S4:]B^  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 p-zXp K"  
5.1  Jobs 92 u( wGl_  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 e*;c(3>(  
5.3  输入材料 94 B{C??g8/  
5.4  设计数据文件夹 95 X90J!  
5.5  默认设计 95 -:Ia^{YN  
6  细化和合成 97 d)R:9M}v  
6.1  优化介绍 97 j/nWb`#y  
6.2  细化 (Refinement) 98 sh`s /JRf  
6.3  合成 (Synthesis) 100 N.]qU d  
6.4  目标和评价函数 101 \7l-@6 '7  
6.4.1  目标输入 102 qLT>Mz)$ %  
6.4.2  目标 103 Yl#Rib  
6.4.3  特殊的评价函数 104 k'IYA#T6  
6.5  层锁定和连接 104 S<WdZ=8sA  
6.6  细化技术 104 krC{ed  
6.6.1  单纯形 105 ~D5\O6mU-  
6.6.1.1 单纯形参数 106 k25WucQ  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 =|%Cu&  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $n+w$CI)  
6.6.3  模拟退火算法 109 5c^Z/ Jl$c  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 :I:!BXQT$  
6.6.4  共轭梯度 111 hDcEGU_  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 IuOgxm~Y  
6.6.5  拟牛顿法 112 )6Ny1x+  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?F6pEt4  
6.6.6  针合成 113 C0 /g1;p(  
6.6.6.1 针合成参数 114 `(f!*Ru@/z  
6.6.7 差分进化 114 A Q+]|XYo_  
6.6.8非局部细化 115 M5*{  
6.6.8.1非局部细化参数 115 5K<5kHpvJ{  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 q|v(Edt|_[  
6.7.1  细化 116 @1 U&UH  
6.7.2  合成 117 T:IW%?M  
6.8  参考文献 117 *hQTO=WF  
7  导纳图及其他工具 118 g|<]B$yN#  
7.1  简介 118 _jNj-)RB_  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 |/2y-[;:  
7.2.1  四分之一波长规则 119 |iR T! ]  
7.2.2  导纳图 120 8ZKo_I\  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )Lwc  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 rfgI$eu   
7.5  斜入射导纳图 141 |pmZ.r  
7.6  对称周期 141 `xywho%/Y  
7.7  参考文献 142 8&Oa_{1+Q  
8  典型的镀膜实例 143 91q8k=p  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ltgc:&=|@  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 GW$.lo1|)  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 EvWzq%z l  
8.4  W-膜层 148 a_ `[Lj  
8.5  V-膜层 149 e#Z$o($t  
8.6  V-膜层高折射基底 150 @*qz(h]\  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 't_[dSO  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 wmTq` XH)  
8.9  四层抗反射薄膜 153 (d<4"!  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ;[W"mlM  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )E,\H@A  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 RheRe  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157  -Y H<  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Ci<ATho  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 *3&fqBg  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 >2Jdq  
8.17  1/4波长堆栈 162 u6_@.a}  
8.18  陷波滤波器 163 B?)@u|0  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 6X\ 2GC9  
8.20  褶皱 165 E6,4RuCK  
8.21  消偏振分光器1 169 C%U`"-%n@7  
8.22  消偏振分光器2 171 L W;heO"  
8.23  消偏振立体分光器 172 :sP!p`dl  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Q^q1 ns;r  
8.25  立体偏振分束器1 174 .{=$!8|&I9  
8.26  立方偏振分束器2 177 {fEwA8Ir  
8.27  相位延迟器 178 9:!gI|C  
8.28  红外截止器 179 ]\xy\\b/`  
8.29  21层长波带通滤波器 180 qpsv i.S  
8.30  49层长波带通滤波器 181 TU GNq  
8.31  55层短波带通滤波器 182 LK;k'IJ  
8.32  47 红外截止器 183 4mHvgnT!WA  
8.33  宽带通滤波器 184 .p=sBLp8  
8.34  诱导透射滤波器 186 E-{^E.w1  
8.35  诱导透射滤波器2 188 X5`AGyX  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 N*`b%XGn3  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 TD9;kN1`  
8.35  增益平坦滤波器 193 Udc=,yo3Qm  
8.38  啁啾反射镜 1 196 \|Ul]1pO8  
8.39  啁啾反射镜2 198 3 HIz9F(  
8.40  啁啾反射镜3 199 c= x,ijY "  
8.41  带保护层的铝膜层 200 3` #6ACF  
8.42  增加铝反射率膜 201 jC3Vbm&ZZ  
8.43  参考文献 202 !p[9{U->o;  
9  多层膜 204 RKa}$ 7  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 \/SQ,*O  
9.2  内部透过率 204 }?@rO`:EF+  
9.3 内部透射率数据 205 zOSs[[  
9.4  实例 206 d)[;e()  
9.5  实例2 210 H> '>3]G  
9.6  圆锥和带宽计算 212 9XHz-+bQ  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 $F/EJ>  
10  光学薄膜的颜色 216 `zR+tbm  
10.1  导言 216 :KKa4=5L  
10.2  色彩 216 Z1h]  
10.3  主波长和纯度 220 e{A9r@p!  
10.4  色相和纯度 221 RC^9HuR&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Kv@e I$t5  
10.6 色差 226 [Cb` {  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 )' hH^(Yu  
10.8  颜色渲染指数 234 $&=p+  
10.9  色差计算 235 Hi yc#-4  
10.10  参考文献 236 "&/]@)TPz  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 )m&U#S _;  
11.1  短脉冲 238 eVR5Xar  
11.2  群速度 239 X<MO7I  
11.3  群速度色散 241 yCXrVN:`,  
11.4  啁啾(chirped) 245 {66fG53x  
11.5  光学薄膜—相变 245 Rm5Kkzd0o  
11.6  群延迟和延迟色散 246 =B];?%  
11.7  色度色散 246 VN 'Wq7>6  
11.8  色散补偿 249 ~=wC wA|1  
11.9  空间光线偏移 256 S#b-awk  
11.10  参考文献 258 rFZrYm  
12  公差与误差 260 Pa^A$fy\  
12.1  蒙特卡罗模型 260 bC^(U`y32  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 {Rear 2  
12.2.1  误差工具 267 Ka|eFprS  
12.2.2  灵敏度工具 271  /q@ s  
12.2.2.1 独立灵敏度 271  8*c3|  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 D&ve15wL  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 #"ftI7=42  
12.3  参考文献 276 ?,=f\Fz!  
13  Runsheet 与Simulator 277 ,=~z6[  
13.1  原理介绍 277 S|zW^|YU  
13.2  截止滤光片设计 277 t UR c bwV  
14  光学常数提取 289 LrCk*@  
14.1  介绍 289 $3d}"D  
14.2  电介质薄膜 289 s 1ge0~p3  
14.3  n 和k 的提取工具 295 GI7=x h  
14.4  基底的参数提取 302 Q*YYTmZ  
14.5  金属的参数提取 306 g2R@`./S  
14.6  不正确的模型 306 5 #]4YI;  
14.7  参考文献 311 T'#!~GpB  
15  反演工程 313 A;J MV+2N  
15.1  随机性和系统性 313 7$k8%lI;>  
15.2  常见的系统性问题 314 !$g+F(:(c  
15.3  单层膜 314 }Z`(aDH  
15.4  多层膜 314 B(DrY1ztj  
15.5  含义 319 s-W[ .r|  
15.6  反演工程实例 319 D\~e&0*  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 `aqrSH5^h  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 f&hwi:t  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 _0pO8o-x  
16.1  光学性质的热致偏移 329 k]rLjcB  
16.2  应力工具 335 .A1\J@b  
16.3  均匀性误差 339 >~\w+^2f8  
16.3.1  圆锥工具 339 *zWWmxcJa  
16.3.2  波前问题 341 S:8OQI  
16.4  参考文献 343 6S.~s6o,  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ~/IexQB&  
17.1  引言 345 33~qgK1>  
17.2  操作数 345 7@PIM5h  
18  如何在Function中编写脚本 351 _ jAo:K_Z  
18.1  简介 351 R[1BfZ6s  
18.2  什么是脚本? 351 oh#> 5cA8  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 nMoWOP'  
18.4  基础 352 DJQglt}~  
18.4.1  Classes(类别) 352 G_Ay   
18.4.2  对象 352 ^ie^VY($  
18.4.3  信息(Messages) 352 cUK\x2  
18.4.4  属性 352 ecX/K.8l  
18.4.5  方法 353 s(&;q4|  
18.4.6  变量声明 353 )~rB}>^Z  
18.5  创建对象 354 `BnP[jF  
18.5.1  创建对象函数 355 cX At :m  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 GIv){[i  
18.5.3 丢弃对象 356 z]Acs  
18.5.4  总结 356 =!ac7i\F  
18.6  脚本中的表格 357 m]IysyFFK  
18.6.1  方法1 357 t]^_ l$  
18.6.2  方法2 357 s6=YV0w(  
18.7 2D Plots in Scripts 358 4?/7 bc  
18.8 3D Plots in Scripts 359 %HSl)zEo>C  
18.9  注释 360 3D)b*fPc  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ?z"KnR+?Q  
18.11  一个更高级的脚本 362 ~2/{3m{3A  
18.12  <esc>键 364 hkW{88  
18.13 包含文件 365 [.q(h/b  
18.14  脚本被优化调用 366 "A]Y~iQ  
18.15  脚本中的对话框 368 9DEh*%q  
18.15.1  介绍 368 =Mhg  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 (3md:r<-  
18.15.3  输入框函数 370 B; -2$ 77  
18.15.4  自定义对话框 371 o&^NwgRCF  
18.15.5  对话框编辑器 371 l_v*7d  
18.15.6  控制对话框 377 XKq@]=\F  
18.15.7  更高级的对话框 380 %{STz  
18.16 Types语句 384 [[qwaI  
18.17 打开文件 385 MB* u-N0v  
18.18 Bags 387 Isovwd  
18.13  进一步研究 388 D{AFL.r{  
19  vStack 389 'Kis hXOn]  
19.1  vStack基本原理 389 vSM_]fn  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 "E>t, D  
19.3  五棱镜 393 :HW>9nD.  
19.4 光束距离 396 m{&w{3pQk  
19.5 误差 399 `Lz1{#F2G  
19.6  二向分色棱镜 399 7<yp"5><)  
19.7  偏振泄漏 404 \>)f5 gV@  
19.8  波前误差—相位 405 _=6OP8  
19.9  其它计算参数 405 /R%^rz'w  
20  报表生成器 406 B <+K<,S  
20.1  入门 406 X&\o{w9%  
20.2  指令(Instructions) 406 6s,2NeVWa  
20.3  页面布局指令 406 w4{y "A  
20.4  常见的参数图和三维图 407 GOW"o"S  
20.5  表格中的常见参数 408 d,R6` i  
20.6  迭代指令 408 "2mFC!  
20.7  报表模版 408 ~|R[O^9B  
20.8  开始设计一个报表模版 409 p^8 JLC  
21  一个新的project 413 wZv-b*4  
21.1  创建一个新Job 414 z{6 YC~  
21.2  默认设计 415 6+ 8mV8{-8  
21.3  薄膜设计 416 BPWnck=%  
21.4  误差的灵敏度计算 420 GEtbs+[  
21.5  显色指数计算 422 g+9v$[!  
21.6  电场分布 424 >h[(w  
后记 426 @xJCn}`Zj  
zKJ. Tj W  
6{7 3p@  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 A7(M,4`6  
=xBT>h;  
《Essential Macleod中文手册》
J"bD\%  
vfXJYw+6_  
目  录 =yh3Nd:u  
QSmJ`Bm  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 x(vai1CrdH  
第1章 介绍 ..........................................................1 ! o^Ic`FhS  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 H56 ^n<tg  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 h^d\xn9GT#  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 .M+v?A d  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 4OEKx|:5n  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 SKJW%(|3  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Tc,$TCF  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %|jzEBz@  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 hBoP=X.~  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 #gI&lO*\gr  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 IM$0#2\  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 WQ.i$ID/  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ^vn\4  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ?C~X@sq  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 nF j-<!  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 UnjNR[=  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 *pK lA&_  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ?k::tNv0  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 T\cR2ZT~  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 TC@bL<1  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 wlL8X7+:  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284  s<d!+<  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 FbBX}n  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 W CoF{ *  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 W[GQ[h  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 u&tFb]1@)  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ~BtKd*~*  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Hy;901( %  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
网站维护:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1