线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1038
时间地点 | C;=-|  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 <y2U3; t  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 Xy|So|/bKd  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 IXMop7~  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 VuhGx:Xl  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
?K$(817  
特邀专家介绍 =V, mtT  
U2tV4_ e  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 1y4|{7bb  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 x*/t yZg6  
课程概要 b$d;Qx  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 !=*g@mgF  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 r_)' Ps  
课程大纲 xBThq?N?  
1. Essential Macleod软件介绍 0rQMLx  
1.1 介绍软件 |B?m,U$A!  
1.2 创建一个简单的设计  <$A  
1.3 绘图和制表来表示性能 p,5i)nEFj  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 v+W&9>  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) *.ll<p+(-  
1.6 特定设计的公式技术 1E[J%Rh\ l  
1.7 交互式绘图 .KB^3pOpx  
2. 光学薄膜理论基础 /kZebNf6H  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 O40?{v'  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 s [RAHU  
3. 材料管理 !fV+z%:  
3.1 材料模型 &&5aM  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 m4[;(1  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 a5dLQx b  
3.4 基板光学常数的提取 4qb/da E:Z  
4. 光学薄膜设计优化方法 gDQ^)1k  
4.1 参考波长与g B?eCe}*f;B  
4.2 四分之一规则 j2t7'bO_  
4.3 导纳与导纳图 JK7G/]j+Ez  
4.4 斜入射光学导纳 GL>O4S<`  
4.5 光学薄膜设计的进展 !{+,B5 Hc  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 5N#aXG^9  
4.6.1 优化目标设置 fbyd"(V 8r  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) |%BOZT  
4.6.3 膜层锁定和链接 b <tNk]7  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 n2"a{Ofhlf  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 qJf?o.Pv  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 KaLzg5is  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 HDz5&7* .  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 {X!r8i  
5.5 如何在Function中编写脚本 SpIv#?  
6. 光学薄膜系统案例 |QF7 uV  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 &pxg. 3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 W- $Z(Z XL  
6.3 Stack应用范例说明 E'f{i:O "~  
7. 薄膜性能分析 Ij7p' a  
7.1 电场分布 *[Imn\hu  
7.2 公差与灵敏度分析 0G(/Wb"/  
7.3 反演工程 PF0_8,@U  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 [CTnXb  
8. 真空技术 eFB5=)ld  
8.1 常用真空泵介绍 :;v~%e{k  
8.2 真空密封和检漏 ^7`BP%6  
9. 薄膜制备技术 6lZ3tdyNo  
9.1 常见薄膜制备技术 3xy<tqfr  
10. 薄膜制备工艺 WSP I|#Xr%  
10.1 薄膜制备工艺因素 zF@/K`  
10.2 薄膜均匀性修正技术 _f7 9wx\B  
10.3 光学薄膜监控技术 "-E\[@/  
11. 激光薄膜 =?5]()'*n  
11.1 薄膜的损伤问题 h! ,v/7=  
11.2 激光薄膜的制备流程 FBG4pb9=~  
11.3 激光薄膜的制备技术 b35fs]}u-6  
12. 光学薄膜特性测量 Qry@ s5  
12.1 薄膜光谱测量  > ^O7  
12.2 薄膜光学常数测量 tb 5`cube  
12.3 薄膜应力测量 mwO6g~@ `  
12.4 薄膜损伤测量 qRu~$K  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 RV1coC.g4x  
B4ZBq%Z_  
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xPdG*OcX!  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
`T1  
内容简介 V~qNyOtA]  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 I !- U'{  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 q#~ (/  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 MnmVl"(/  
2V]UJ<  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
xKbXt;l2  
目录 EX*HiZU>  
Preface 1 )J=!L\  
内容简介 2 ?C]vS_jAh  
目录 i v6|RJt?  
1  引言 1 }YQX~="  
2  光学薄膜基础 2 yER(6V'\iQ  
2.1  一般规则 2 x exaQuK  
2.2  正交入射规则 3 A]*}HZ ,  
2.3  斜入射规则 6 ip\sXVR  
2.4  精确计算 7 2 'l'8  
2.5  相干性 8 ~"gA,e-)  
2.6 参考文献 10 C-xr"]#]  
3  Essential Macleod的快速预览 10 *9 {PEx  
4  Essential Macleod的特点 32 7lTC{7C57  
4.1  容量和局限性 33 UJUEYG  
4.2  程序在哪里? 33 hy1oq7F(Q  
4.3  数据文件 35 cs48*+m  
4.4  设计规则 35 0mp/Le5  
4.5  材料数据库和资料库 37 $L `d&$Vh  
4.5.1材料损失 38 yHYsZ,GE  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 "37lx;CH  
4.5.2 材料库 41 _IMW {  
4.5.3导出材料数据 43 ; T\%|O=Ke  
4.6  常用单位 43 Q)#B0NA;T  
4.7  插值和外推法 46 kb%;=t2  
4.8  材料数据的平滑 50 q$L%36u~/  
4.9 更多光学常数模型 54 7jrt7[{  
4.10  文档的一般编辑规则 55 T}Tp$.gB  
4.11 撤销和重做 56 rE7G{WII  
4.12  设计文档 57 alJ)^OSIe  
4.10.1  公式 58  y`iBFC;_  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 TJd)K$O>  
4.10.3  沉积密度 59 xh-o}8*n"  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ,O5NLg-  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 thh. A  
4.10.4  性能 61 ;7*[Bcj.  
4.10.5  保存设计和性能 64 t3WiomNCc  
4.10.6  默认设计 64  ,i NXK  
4.11  图表 64 U)TUOwF  
4.11.1  合并曲线图 67 `%bypHeSp  
4.11.2  自适应绘制 68 5PCqYN(:B  
4.11.3  动态绘图 68 e)IzQ7Zex  
4.11.4  3D绘图 69 ux-/>enc  
4.12  导入和导出 73 =HK!(C  
4.12.1  剪贴板 73 yZ7&b&2nLn  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 iO$8:mxm0?  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 PN%zIkbo  
4.13  背景 77 OG~gFZr)6  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 5&g@3j]  
4.15  生成Rugate 84 YRk(u7:0  
4.16  参考文献 91 gk4;>}  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Jumgb  
5.1  Jobs 92 >~rTqtKd  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ,oe <  
5.3  输入材料 94 a~`eQ_N D  
5.4  设计数据文件夹 95 R+:yVi[F]U  
5.5  默认设计 95 )6MfRw  
6  细化和合成 97 9)yJ: N#F  
6.1  优化介绍 97 cU (D{~  
6.2  细化 (Refinement) 98 J( TkXNm  
6.3  合成 (Synthesis) 100 wo}H'Q}Hj  
6.4  目标和评价函数 101 hW' )Sp  
6.4.1  目标输入 102 ~\SGb_2  
6.4.2  目标 103 3Aip}<1  
6.4.3  特殊的评价函数 104 0 JS?;fk  
6.5  层锁定和连接 104 ' {OgN}'{  
6.6  细化技术 104 hNiE\x  
6.6.1  单纯形 105 234p9A@  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ~D+bh~  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 dbLZc$vPj  
6.6.2.1 Optimac参数 108 iXkF1r]i  
6.6.3  模拟退火算法 109 ;}WeTA_-[  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 GAzU?a{S  
6.6.4  共轭梯度 111 ^0 )g/`H^>  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 SGRp3,1\4%  
6.6.5  拟牛顿法 112  ~NgA  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Ty\R=y}}  
6.6.6  针合成 113 YaqR[F  
6.6.6.1 针合成参数 114 pad*oPH,  
6.6.7 差分进化 114 %Xg4b6<9  
6.6.8非局部细化 115 ;;Y! ^^g  
6.6.8.1非局部细化参数 115 6- YU[HF  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 YqD=>P[O  
6.7.1  细化 116 2W(s(-hD  
6.7.2  合成 117 /N+dQe  
6.8  参考文献 117 P5V}#;v  
7  导纳图及其他工具 118 o[4}h:> dq  
7.1  简介 118 "cGk)s  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 .sW|Id )  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ]mq|w  
7.2.2  导纳图 120 g-k|>-h  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 @;4zrzQi7  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 `hm-.@f,9  
7.5  斜入射导纳图 141 z9Mfd#5?>P  
7.6  对称周期 141 l30EKoul)  
7.7  参考文献 142 \K{ z  
8  典型的镀膜实例 143 xu%k~4cB,  
8.1  单层抗反射薄膜 145 =BeygT^  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 zk+9'r`-D  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 (m}'4et~L  
8.4  W-膜层 148 Q*cf(  
8.5  V-膜层 149 2.y-48Nz  
8.6  V-膜层高折射基底 150 {WS;dX4  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ]0OR_'?,  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 :4w ?#  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ?R 'r4P,  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 :Ov6_x]*  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 M0"_^?  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 zI uJ-8T"  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ttQGoUkj  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 MJ)RvNF  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ">nxHU  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 )q4[zv9  
8.17  1/4波长堆栈 162 >6-`}G+|  
8.18  陷波滤波器 163 H41?/U,{  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ;;t yoh~t  
8.20  褶皱 165 4"ZP 'I;  
8.21  消偏振分光器1 169 nFCC St$  
8.22  消偏振分光器2 171 (mB&m@-N  
8.23  消偏振立体分光器 172 V Q@   
8.24  消偏振截止滤光片 173  /maJtX'  
8.25  立体偏振分束器1 174 Yh7t"=o  
8.26  立方偏振分束器2 177 ?j.,Nw4FC  
8.27  相位延迟器 178 -i|}m++  
8.28  红外截止器 179 lVa%$F{Pq  
8.29  21层长波带通滤波器 180 1GRCV8 "Z^  
8.30  49层长波带通滤波器 181 !BF; >f`  
8.31  55层短波带通滤波器 182 1I6px$^E\  
8.32  47 红外截止器 183 q i;1L Kc  
8.33  宽带通滤波器 184 ,p a {qne  
8.34  诱导透射滤波器 186 /nsX]V6i  
8.35  诱导透射滤波器2 188 h#*dI`>l-  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 .{^5X)  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 T::85  
8.35  增益平坦滤波器 193 qR{=pR  
8.38  啁啾反射镜 1 196 wlvgg  
8.39  啁啾反射镜2 198 Ax@$+/Z!  
8.40  啁啾反射镜3 199 IOH}x4  
8.41  带保护层的铝膜层 200 (C L%>5V  
8.42  增加铝反射率膜 201 5DZ#9m/  
8.43  参考文献 202 j (d~aqW  
9  多层膜 204 vr l-$ii  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 sP~<*U.7  
9.2  内部透过率 204 ?V=ZIGj  
9.3 内部透射率数据 205 }X6m:#6  
9.4  实例 206 #{6/ (X  
9.5  实例2 210 eByz-,{P  
9.6  圆锥和带宽计算 212 =nS3p6>rZ  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 3d]S!=4H"  
10  光学薄膜的颜色 216 A)!*]o>U  
10.1  导言 216 J@'wf8Ub  
10.2  色彩 216 ITBE|b  
10.3  主波长和纯度 220 6 gE7e|+  
10.4  色相和纯度 221 RqrdAkg  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 AT3Mlz~7#  
10.6 色差 226 }0z)5c  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 O/C rd/  
10.8  颜色渲染指数 234 m(!FHPvN  
10.9  色差计算 235 j^JPZ{ej ?  
10.10  参考文献 236 t*u:hex  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 q9_OGd|P  
11.1  短脉冲 238 /3T1U  
11.2  群速度 239 Q%G8U#Tm  
11.3  群速度色散 241 2ilQXy  
11.4  啁啾(chirped) 245 Gef TdO.&  
11.5  光学薄膜—相变 245 9A=,E&  
11.6  群延迟和延迟色散 246 F41=b4/  
11.7  色度色散 246 +\9NDfYIA  
11.8  色散补偿 249 `^&OF u ee  
11.9  空间光线偏移 256 T5h H  
11.10  参考文献 258 t{96p77)=  
12  公差与误差 260 Yq KCeg  
12.1  蒙特卡罗模型 260 5;EvNu  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ,qxu|9L  
12.2.1  误差工具 267 ZE}}W _  
12.2.2  灵敏度工具 271 lo+A%\1  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 8Z~EwY*  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 C'x&Py/#  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ga+dt  
12.3  参考文献 276 VPo".BvG6  
13  Runsheet 与Simulator 277 S1_RjMbYM  
13.1  原理介绍 277 K|, .C[  
13.2  截止滤光片设计 277 bH~dJFj/  
14  光学常数提取 289 ms]sD3z/W+  
14.1  介绍 289 y6a3t G  
14.2  电介质薄膜 289 Zy/_ E@C}u  
14.3  n 和k 的提取工具 295 7[)E>XRE  
14.4  基底的参数提取 302 e^voW"?%  
14.5  金属的参数提取 306 /N{*"s2)  
14.6  不正确的模型 306 !Uo4,g6r+  
14.7  参考文献 311 |BXg/gW  
15  反演工程 313 }K(TjZR  
15.1  随机性和系统性 313 mfr|:i  
15.2  常见的系统性问题 314 guR/\z$D@C  
15.3  单层膜 314 GbI/4<)l}  
15.4  多层膜 314 N!}f}oF  
15.5  含义 319 I?CZQ+}Hq  
15.6  反演工程实例 319 oB7_O-3z  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 W>r+h-kR  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ;$4\e)AB  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 @0''k  
16.1  光学性质的热致偏移 329 SXh-A1t  
16.2  应力工具 335 =3P)q"  
16.3  均匀性误差 339 jH:[2N?  
16.3.1  圆锥工具 339 {.Jlbi9!  
16.3.2  波前问题 341 3v-~K)hl?  
16.4  参考文献 343 YmG("z  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 "AqB$^S9t  
17.1  引言 345 tH4B:Bgj!  
17.2  操作数 345 -9?]IIVb  
18  如何在Function中编写脚本 351 R=?[Nz  
18.1  简介 351 }@)[5N# A|  
18.2  什么是脚本? 351 ;'1d1\wiDQ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 o8MZiU1Xf  
18.4  基础 352 BgT*icd8d  
18.4.1  Classes(类别) 352 UiNP3TJ'L  
18.4.2  对象 352 ckn(`I  
18.4.3  信息(Messages) 352 \;Weizq5  
18.4.4  属性 352 EU#^7  
18.4.5  方法 353 lB4WKn=?Kl  
18.4.6  变量声明 353 7tp36TE  
18.5  创建对象 354 *Pr )%  
18.5.1  创建对象函数 355 *4 n)  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 |s_GlJV.  
18.5.3 丢弃对象 356 9gIrt 6  
18.5.4  总结 356 fP1! )po  
18.6  脚本中的表格 357 :4|4=mkr  
18.6.1  方法1 357 \U_@S.  
18.6.2  方法2 357 '3;b@g,  
18.7 2D Plots in Scripts 358 rm_Nn8p,  
18.8 3D Plots in Scripts 359 :(%5:1W  
18.9  注释 360 q3`u1S7Z7  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 iy"*5<;*DD  
18.11  一个更高级的脚本 362 =(^3}x  
18.12  <esc>键 364 W g! Lfu  
18.13 包含文件 365 :T~  [  
18.14  脚本被优化调用 366 HaYo!.(Fv  
18.15  脚本中的对话框 368 2mU.7!g)  
18.15.1  介绍 368 : Dp0?&_  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 6LhTBV  
18.15.3  输入框函数 370 AQ Ojit6p  
18.15.4  自定义对话框 371 }m8q}~>tL  
18.15.5  对话框编辑器 371 -\MG}5?!  
18.15.6  控制对话框 377 ;{6~Bq9  
18.15.7  更高级的对话框 380 *1"+%Z^  
18.16 Types语句 384 Vvo 7C!$z  
18.17 打开文件 385 i30!}}N8  
18.18 Bags 387 Xa&kIq}(g  
18.13  进一步研究 388 qP ,EBE  
19  vStack 389 UF|p';oom  
19.1  vStack基本原理 389 VU#7%ufu&  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 PY'2h4IL  
19.3  五棱镜 393 - YBY[%jF>  
19.4 光束距离 396  !u hT  
19.5 误差 399 &5;"#:ORcK  
19.6  二向分色棱镜 399 {8etv:y  
19.7  偏振泄漏 404 {`_i`  
19.8  波前误差—相位 405 p<%d2@lp  
19.9  其它计算参数 405 u? EN  
20  报表生成器 406 \<K5ZIWV  
20.1  入门 406 "M0z(N kH  
20.2  指令(Instructions) 406 K NOIZj   
20.3  页面布局指令 406 /kG_*>.Z  
20.4  常见的参数图和三维图 407 n+p }\msH  
20.5  表格中的常见参数 408 jWgX_//!  
20.6  迭代指令 408 Fzcwy V   
20.7  报表模版 408 =MWHJ'3-/  
20.8  开始设计一个报表模版 409 sos5Y}  
21  一个新的project 413 8CE = 4  
21.1  创建一个新Job 414 `@%LzeGz  
21.2  默认设计 415 |[lKY+26:{  
21.3  薄膜设计 416 kf9X$d6   
21.4  误差的灵敏度计算 420 y>LBl]  
21.5  显色指数计算 422 Lj7AZ|k  
21.6  电场分布 424 &3&HY:yF  
后记 426 F[MFx^sT{  
eH,or,r  
z!\*Y =e  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Xc.`-J~Il  
?4uL-z](V  
《Essential Macleod中文手册》
"jCu6Rjd  
c",*h  
目  录 ,z6~?6m  
0 "#HJA44  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 0{mex4  
第1章 介绍 ..........................................................1 kcEeFG;DQ  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 P {'b:C  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 D'4\*4is  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 tp|d*7^i  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 W3RT{\  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 z%kULTL  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 92{\B- l  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 $d4n"+7  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 wY}@'pzX  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 V8(-  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 B<-Wea  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 u:EiwRW  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ^Dx&|UwiZa  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 z{>Rc"%\  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 p[cX O=  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Pz^544\~ou  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 I:.s_8mH}  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 EK'!}OGCG  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Ss`LLq0LO  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 I@3MO0V^  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ite~E5?#  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 28nFRr  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ~ K=b\xc^  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 }\LQ3y"[  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 H.0K?N&\?>  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ,0k;!YK  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 snJ129}A  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 KmF]\:sMD  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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