线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:898
时间地点 49o\^<4b  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 x'@W=P 7   
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 x@h tx?   
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 PmHd9^C  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 -:MmSeG7gO  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
+|6`E3j%  
特邀专家介绍 &9RH}zv6  
ze&#i6S  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 d$}&nV/A)  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 )&>L !,z  
课程概要 RF:04d  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 L/~D<V  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ?fV?|ZGZI  
课程大纲 a_Jb> }  
1. Essential Macleod软件介绍 YUCC*t  
1.1 介绍软件 GjEqU;XBi  
1.2 创建一个简单的设计 E-^2"j >o  
1.3 绘图和制表来表示性能 yX`#s]M  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Wj&nUp{  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) vTdUuj3N  
1.6 特定设计的公式技术 sMP:sCRC  
1.7 交互式绘图 &Y+e=1a+  
2. 光学薄膜理论基础 )Bo]=ZTJ^  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 cM3jnim  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 $(3uOsy   
3. 材料管理 >Co)2d]  
3.1 材料模型  s'TY[  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 CI^[I\$&  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 (Izf L1  
3.4 基板光学常数的提取 iA9 E^  
4. 光学薄膜设计优化方法 RpYcD  
4.1 参考波长与g 8fh4%#,C%  
4.2 四分之一规则 E:)Cp  
4.3 导纳与导纳图 )9B:Y;>)  
4.4 斜入射光学导纳 U9 bWU'  
4.5 光学薄膜设计的进展 }-74 f  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 X &D{5~qC  
4.6.1 优化目标设置 ~q 7;8<U  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Ps3~{zH`  
4.6.3 膜层锁定和链接 +p z}4M`  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~ ltg  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 uaaf9SL?  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 P3!Atnv2  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 =G4u#t)  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 9Sz7\W0  
5.5 如何在Function中编写脚本 6T_K9  
6. 光学薄膜系统案例 GWdSSr>  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 b!^@PIX  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 >g]ON9CGH  
6.3 Stack应用范例说明 >La><.z~  
7. 薄膜性能分析 &<Zdyf?[Ou  
7.1 电场分布 aBxiK[[`  
7.2 公差与灵敏度分析 %m`zWg-  
7.3 反演工程 $Asr`Q1i   
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 +P)ys#=  
8. 真空技术 cI:-Z{M7z  
8.1 常用真空泵介绍 0q#"clw  
8.2 真空密封和检漏 k3>YBf`fC  
9. 薄膜制备技术 6]n/+[ ks  
9.1 常见薄膜制备技术 JhP\u3 QE  
10. 薄膜制备工艺 35_)3 R)  
10.1 薄膜制备工艺因素 RYy,wVh}  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [EOVw%R  
10.3 光学薄膜监控技术 yQ%"U^.m  
11. 激光薄膜 #K4*6LI  
11.1 薄膜的损伤问题 ugLlI2 nJ  
11.2 激光薄膜的制备流程 "(f`U.  
11.3 激光薄膜的制备技术 Ac`;st%l.  
12. 光学薄膜特性测量 +rc SL8C  
12.1 薄膜光谱测量 %j5ywr:  
12.2 薄膜光学常数测量 ~KPv7WfG  
12.3 薄膜应力测量 0[Eb .2I  
12.4 薄膜损伤测量  z)w-N  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 p0VUh!  
u R:rO^  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 I2[]A,f ,  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 n_23EcSy  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 cP rwW 6  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 y}"7e)|t%  
FnE6?~xa  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
-c+]Wm"\  
目录 "HK/u(z)  
Preface 1 PVYyE3`UB  
内容简介 2 5k$vlC#[H  
目录 i _ck[&Q  
1  引言 1 tTuX\;G  
2  光学薄膜基础 2 d1G8*YO@  
2.1  一般规则 2 >2lwWXA  
2.2  正交入射规则 3 L'E^c,-x~  
2.3  斜入射规则 6 f<=Fe:1.  
2.4  精确计算 7 U>Gg0`>  
2.5  相干性 8 rQr!R$t/[  
2.6 参考文献 10 GLUUY0  
3  Essential Macleod的快速预览 10 (MLhaux-  
4  Essential Macleod的特点 32 z9 ($.  
4.1  容量和局限性 33 #fDs[  
4.2  程序在哪里? 33  f^b K=#  
4.3  数据文件 35 L0"~[zB]N  
4.4  设计规则 35 m4m<nnM  
4.5  材料数据库和资料库 37 QJBr6   
4.5.1材料损失 38 RN9;kB)c  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 6q/ ?-Qcy  
4.5.2 材料库 41 2?DRLF]  
4.5.3导出材料数据 43 |He=LQ }0  
4.6  常用单位 43 %!|O.xxRR  
4.7  插值和外推法 46 +ts0^;QO2{  
4.8  材料数据的平滑 50 <+tD z(  
4.9 更多光学常数模型 54 s\3q!A?S3  
4.10  文档的一般编辑规则 55 m;,xmEp  
4.11 撤销和重做 56 \#Up|u:  
4.12  设计文档 57 ~ ?^/u8  
4.10.1  公式 58 lFq{O;q7}  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 FHg0E++?  
4.10.3  沉积密度 59 <<zI\+V  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;rHO&(h-  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 2`bdrRD0  
4.10.4  性能 61 n}nEcXb  
4.10.5  保存设计和性能 64 'i|rj W(  
4.10.6  默认设计 64 }NCL>l;q  
4.11  图表 64 EgM*d)X  
4.11.1  合并曲线图 67 d) ahF[82  
4.11.2  自适应绘制 68 K5 KyG  
4.11.3  动态绘图 68 iiC!|`k"  
4.11.4  3D绘图 69 yVJ%+d:6  
4.12  导入和导出 73 Q[u6|jRt  
4.12.1  剪贴板 73 2A:,;~UH  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ^@6q  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 iK;opA"  
4.13  背景 77 4. qtp`  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 *?% k#S  
4.15  生成Rugate 84 cgT  
4.16  参考文献 91 /-M@[p&  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 <L0#O(L  
5.1  Jobs 92 LKF/u` 0dP  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 >U!*y4  
5.3  输入材料 94 } cNW^4F  
5.4  设计数据文件夹 95 7 hw .B'7  
5.5  默认设计 95 dcfe_EuT  
6  细化和合成 97 LIpEQ7;  
6.1  优化介绍 97 el PE%'  
6.2  细化 (Refinement) 98 T)iW`vZg8  
6.3  合成 (Synthesis) 100 |U' I/A  
6.4  目标和评价函数 101 ; H0{CkH  
6.4.1  目标输入 102 >Aq:K^D/3F  
6.4.2  目标 103 [iS$JG-  
6.4.3  特殊的评价函数 104 K|r Lkl9  
6.5  层锁定和连接 104 G4-z3e,crr  
6.6  细化技术 104 }IaA7f  
6.6.1  单纯形 105 #f,y&\Xmf  
6.6.1.1 单纯形参数 106 hZ$t$3  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 4'>1HW  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ;0%OB*lcgE  
6.6.3  模拟退火算法 109 P 7D!6q  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 {MBTP;{*~  
6.6.4  共轭梯度 111 6g:|*w  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Bi%x`4Lf  
6.6.5  拟牛顿法 112 b^CNVdo'  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ~N0 sJ%  
6.6.6  针合成 113 vGd1w%J-  
6.6.6.1 针合成参数 114 \?fIt?  
6.6.7 差分进化 114 7(a2L&k^  
6.6.8非局部细化 115 Dl\`  
6.6.8.1非局部细化参数 115 bn9;7`>.  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 m_NCx]#e   
6.7.1  细化 116 mEAXM 1J|  
6.7.2  合成 117 Jh/ E@}'  
6.8  参考文献 117 2umv|]n+l|  
7  导纳图及其他工具 118 YA]5~ ZE\  
7.1  简介 118 _2ef LjXQ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Tl("IhkC  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ef"?|sn  
7.2.2  导纳图 120 S~OhtHwK  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 3`.P'Fh(k  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ~l E _L1-c  
7.5  斜入射导纳图 141 1R%1h9I4'  
7.6  对称周期 141 )7cb6jCU  
7.7  参考文献 142 #s5N[uK^m  
8  典型的镀膜实例 143 &:#h$`4  
8.1  单层抗反射薄膜 145 w}cY6O,1  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 va)%et0!  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 N@T.T=r  
8.4  W-膜层 148 LRb, VD:/Y  
8.5  V-膜层 149 ~.g3ukt  
8.6  V-膜层高折射基底 150 B 9dt=j3j2  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 [5d2D,)  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 clO,}Ph>  
8.9  四层抗反射薄膜 153 J>vMo@  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 *?p|F&J  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4Ft1@  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ?=Pd  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 6=GZLpv  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 j7QX ,_Q  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 #\rwLpC1u  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 f:JlZ&  
8.17  1/4波长堆栈 162 /B3R1kNf|  
8.18  陷波滤波器 163 \E1U@6a  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 je,}_:7  
8.20  褶皱 165 %q 3$|>  
8.21  消偏振分光器1 169 +C]&2zc.  
8.22  消偏振分光器2 171 Av J4\  
8.23  消偏振立体分光器 172 r),PtI0X  
8.24  消偏振截止滤光片 173 =3xE:  
8.25  立体偏振分束器1 174 xl9aV\W  
8.26  立方偏振分束器2 177 1`0#HSO  
8.27  相位延迟器 178 hf6f.Z  
8.28  红外截止器 179 z,SYw &S  
8.29  21层长波带通滤波器 180 <i\A_qqc/  
8.30  49层长波带通滤波器 181 _o3e]{  
8.31  55层短波带通滤波器 182 3 fj  
8.32  47 红外截止器 183 C)-^<  
8.33  宽带通滤波器 184 Nh?| RE0t  
8.34  诱导透射滤波器 186 uYI@ 9U  
8.35  诱导透射滤波器2 188 DbI!l`Vn4  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 F0Jx(  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 $m$;v<PSe  
8.35  增益平坦滤波器 193 U%<rn(xWXD  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ^Mkk@F&1  
8.39  啁啾反射镜2 198 J97R0  
8.40  啁啾反射镜3 199 Yf_6PGNzX  
8.41  带保护层的铝膜层 200 q6#<[ 4?  
8.42  增加铝反射率膜 201 6rti '  
8.43  参考文献 202 \/`?  
9  多层膜 204 ={2!c0s  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 R9vT[{!i  
9.2  内部透过率 204 =HDI \LD<  
9.3 内部透射率数据 205 imB#Eo4eY  
9.4  实例 206 ^?"\?M1  
9.5  实例2 210 RrrK*Fk8=  
9.6  圆锥和带宽计算 212 yY{kG2b,  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 E8\XNG)V4  
10  光学薄膜的颜色 216 C2U~=q>>  
10.1  导言 216  %V G/  
10.2  色彩 216 Ji'(`9F&a  
10.3  主波长和纯度 220 Y qdWctUY  
10.4  色相和纯度 221 F4#g?R ::U  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 's?Ai2=#  
10.6 色差 226 Fe&qwq"  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 o?Nu:&yE  
10.8  颜色渲染指数 234 : 9!%ZD  
10.9  色差计算 235 @ T ;L$x  
10.10  参考文献 236 BbOu/i|  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 0*%&>  
11.1  短脉冲 238 z$lF)r:Bc  
11.2  群速度 239 >Q E{O.Z  
11.3  群速度色散 241 ihe(F7\U  
11.4  啁啾(chirped) 245 . v)mZp  
11.5  光学薄膜—相变 245 f'(l&/4z{  
11.6  群延迟和延迟色散 246 K<sC F[  
11.7  色度色散 246 /c# `5L[  
11.8  色散补偿 249 u+9<&)X0  
11.9  空间光线偏移 256 &-yGVx  
11.10  参考文献 258 V3N0Og3  
12  公差与误差 260 o5o^TW{  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ?8@>6 IXn  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 5A Bhj*7  
12.2.1  误差工具 267 l.)}t)my}  
12.2.2  灵敏度工具 271 e;YW6}'}  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 e&q?}Ho  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ^H'a4G3  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 iTo k[uJ}  
12.3  参考文献 276 G\gMC <3  
13  Runsheet 与Simulator 277 gY AF'?  
13.1  原理介绍 277 GyI-)Bl DC  
13.2  截止滤光片设计 277 %GEJnJ  
14  光学常数提取 289  4-Z()F  
14.1  介绍 289 x|64l`Vp(:  
14.2  电介质薄膜 289 J'&# mDU  
14.3  n 和k 的提取工具 295 er.L7  
14.4  基底的参数提取 302 ybdd;t}&1  
14.5  金属的参数提取 306 >-< 8N-@"n  
14.6  不正确的模型 306 gIEl.  
14.7  参考文献 311 ~}ml*<z@  
15  反演工程 313 S&jesG-F  
15.1  随机性和系统性 313 ,3DXFV'uxb  
15.2  常见的系统性问题 314 9Mm!%Hu  
15.3  单层膜 314 &F$:Q:* *  
15.4  多层膜 314 X~.f7Ao[  
15.5  含义 319 9a$56GnW1  
15.6  反演工程实例 319 g&/p*c_  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .S\&L-{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Oeya%C5'  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 rEZ8eeB[3  
16.1  光学性质的热致偏移 329 C&\5'[*  
16.2  应力工具 335 g|<Sfp+;+  
16.3  均匀性误差 339 -|yb[~3  
16.3.1  圆锥工具 339 O{z}8&oR:  
16.3.2  波前问题 341 Ok-.}q>\Mv  
16.4  参考文献 343 &sVvWNO#2  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 N6oq90G  
17.1  引言 345 6~meM@  
17.2  操作数 345 2 -!L _W(  
18  如何在Function中编写脚本 351 *v%rMU7,  
18.1  简介 351 M.}7pJ7f  
18.2  什么是脚本? 351 c8 K3.&P6  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 {4 >mc'dv  
18.4  基础 352 TB6m0qX(  
18.4.1  Classes(类别) 352 X*oMFQgP  
18.4.2  对象 352 N@o?b  
18.4.3  信息(Messages) 352 ni&*E~a  
18.4.4  属性 352 QvPD8B  
18.4.5  方法 353 3#kitmV  
18.4.6  变量声明 353 d?,M/$h  
18.5  创建对象 354 3+7^uR$/I4  
18.5.1  创建对象函数 355 k5d\ w@G"~  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 {.e=qQ%P5)  
18.5.3 丢弃对象 356 ?`?T7w|3 y  
18.5.4  总结 356 wgeNs9L  
18.6  脚本中的表格 357 72oWhX=M%  
18.6.1  方法1 357 YOyX[&oi  
18.6.2  方法2 357 t6N*6ld2b  
18.7 2D Plots in Scripts 358 v *hRz;  
18.8 3D Plots in Scripts 359 gW(gJ; L,%  
18.9  注释 360 ug 7o>PX  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360  Wa/g`}  
18.11  一个更高级的脚本 362 Ft{[ae?4  
18.12  <esc>键 364 T".]m7!  
18.13 包含文件 365 TTNk r`  
18.14  脚本被优化调用 366 ^S)TO}e  
18.15  脚本中的对话框 368 }71LLzG`/  
18.15.1  介绍 368 `rY2up#%  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 jLg@FDb~  
18.15.3  输入框函数 370 ["<nq`~  
18.15.4  自定义对话框 371 OV CR0  
18.15.5  对话框编辑器 371 y9Y1PH7G  
18.15.6  控制对话框 377 V% TH7@y  
18.15.7  更高级的对话框 380 R/b4NGW@  
18.16 Types语句 384 )bOBQbj  
18.17 打开文件 385 [jx0-3s:X  
18.18 Bags 387 "T/>d%O1b  
18.13  进一步研究 388 Tq<2`*Qs  
19  vStack 389 Z~G my7h(  
19.1  vStack基本原理 389 4NEq$t$Jn  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 =#5D(0Ab  
19.3  五棱镜 393 dBC bL.!  
19.4 光束距离 396 JM$.O;y -  
19.5 误差 399 j{VGClb=T  
19.6  二向分色棱镜 399 Weoj|0|t  
19.7  偏振泄漏 404 -XoPia2  
19.8  波前误差—相位 405 ?gGt2O1J  
19.9  其它计算参数 405 !SOrCMHx  
20  报表生成器 406 PrF}a<:n:  
20.1  入门 406 6bc3 37b  
20.2  指令(Instructions) 406 UO`;&e-DB  
20.3  页面布局指令 406 3{Nbp  
20.4  常见的参数图和三维图 407 [ Mg8/Oy  
20.5  表格中的常见参数 408 {aKqXL[UP  
20.6  迭代指令 408 z~6y+  
20.7  报表模版 408 qKS;x@  
20.8  开始设计一个报表模版 409 D,l,`jv*  
21  一个新的project 413 ]6Ug>>x5  
21.1  创建一个新Job 414 F^aR+m  
21.2  默认设计 415 ]T! }XXK  
21.3  薄膜设计 416 FaTa(3$%  
21.4  误差的灵敏度计算 420 9D\4n  
21.5  显色指数计算 422 }Y(]6$uS  
21.6  电场分布 424 3{% LS"c  
后记 426 Qq-"Cg@-/  
4S0>-?{  
"e3["'  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 >r/rc`Q  
<hnCUg1  
《Essential Macleod中文手册》
=`n]/L"Q  
+#@"*yj3  
目  录 "ceed)(:  
MWk:sBCqr  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 2],_^XBvB  
第1章 介绍 ..........................................................1 <3PL@orO  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 EUYCcL'G  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 %b.UPS@I  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Gnm4gF!BI  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 WnFG{S{s  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 $S*4r&8ZD  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 iJFs0?*  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 07T70[G  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 rtJl _0`  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 .Jb$l$5'w  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ^62|d  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 +Z2MIC|Ud  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 < |O^>s;  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 DH DZ_t:  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 h5z)Lc^  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 z7.|fE)<6  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 EY`H}S!xy  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 jg  2qGC  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 5(2|tJw-H;  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 XALI<ZY  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 NY$uq+Z>  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 f"#m=_Xm  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 h 6G/O`:  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 T`/IO.2  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 p5=|Y^g !  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 B (/U3}w-  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 rR ES8/  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 +eQe%U  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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