线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:600
时间地点 zMbN;tu  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 IHam4$~-  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 U`R5'Tf;  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 1"zDin!A  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 )97SnCkal  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
Dv|#u|iw  
特邀专家介绍 sF!($k;!  
|n+qMql'  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 UW N*j_9i  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 3h;{!|-3  
课程概要 -G}[AkmS  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 m+`fn;*  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 &+Z,hs9%  
课程大纲 6h|q'.Y  
1. Essential Macleod软件介绍 t[ubn+  
1.1 介绍软件 V=R 3)GC  
1.2 创建一个简单的设计 %`>nS@1zp  
1.3 绘图和制表来表示性能 Aw}"gpL  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 [B+yyBtx  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 5b*M*e&=C  
1.6 特定设计的公式技术 ]RPs|R?  
1.7 交互式绘图 3LAIl913  
2. 光学薄膜理论基础 xbdN0MAU  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 YLqGRE`W  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 L^E[J`  
3. 材料管理 7E!IF>`  
3.1 材料模型 }Mstjm  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 |v \_@09=  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 7|{}\w(I  
3.4 基板光学常数的提取 +MR.>"  
4. 光学薄膜设计优化方法  .u*0[N  
4.1 参考波长与g !TAlB kj  
4.2 四分之一规则 zz+$=(T:M  
4.3 导纳与导纳图 PPb7%2r  
4.4 斜入射光学导纳 RHmgD;7`  
4.5 光学薄膜设计的进展 {_7 i8c<s=  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能  a][f  
4.6.1 优化目标设置 ,5i`-OI  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) JSkLEa~<  
4.6.3 膜层锁定和链接 _7H7 dV  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 < vL,*.zd  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Wr<j!>J6Ki  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 >pU$wq|i  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Lx\ 8Z=  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 _2h S";K  
5.5 如何在Function中编写脚本 [<2<Y  
6. 光学薄膜系统案例 '10oK {m$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 s8ywKTR-  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 -wp|RD,}(  
6.3 Stack应用范例说明 @OV|]u  
7. 薄膜性能分析 k_sg ?(-!o  
7.1 电场分布 5* j?E  
7.2 公差与灵敏度分析 `7[EKOJ3g  
7.3 反演工程 ,=UK}*e"  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 rX4j*u2u  
8. 真空技术 U}6B*Xx'  
8.1 常用真空泵介绍 k,85Y$`'  
8.2 真空密封和检漏 Fpm|_f7  
9. 薄膜制备技术 '?!zG{x  
9.1 常见薄膜制备技术 ",^Mxm{  
10. 薄膜制备工艺 gYNjzew'  
10.1 薄膜制备工艺因素 Q3 u8bx|E  
10.2 薄膜均匀性修正技术 W ?qmp|YD  
10.3 光学薄膜监控技术 5 xppKt  
11. 激光薄膜 M^O2\G#B  
11.1 薄膜的损伤问题 ;1:Js0=;H  
11.2 激光薄膜的制备流程 x.f]1S7h[  
11.3 激光薄膜的制备技术 W~zbm]  
12. 光学薄膜特性测量 3?c3<`TW  
12.1 薄膜光谱测量 f({Ei`|  
12.2 薄膜光学常数测量 N!ls j \-  
12.3 薄膜应力测量 B P2=2)Q  
12.4 薄膜损伤测量 zfc'=ODX  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 uEktQ_u[  
87BHq)  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
6HZ`.o:f  
内容简介 b:Wm8pp?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 spdvZU=}  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]!I7Y.w6  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 pnjXf.g"O  
eZSNNgD<:  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
+_; l|uhT;  
目录 v-#Q7T  
Preface 1 SSPHhAeH8  
内容简介 2 ^5H >pat  
目录 i ,{BaePMp  
1  引言 1 t/cY=Wp  
2  光学薄膜基础 2 U&Wt%U{  
2.1  一般规则 2 AfX}y+Ah  
2.2  正交入射规则 3 Bk*F_>X"  
2.3  斜入射规则 6 iH/6M  
2.4  精确计算 7 + Af"f' )  
2.5  相干性 8 W8ouO+wK  
2.6 参考文献 10 W+PJZn  
3  Essential Macleod的快速预览 10 U^Q:Y}^  
4  Essential Macleod的特点 32 o=50>$5jlS  
4.1  容量和局限性 33 # WAZ9,t  
4.2  程序在哪里? 33 XZ sz/#  
4.3  数据文件 35 vgsJeV`}I  
4.4  设计规则 35 hEBY8=gK  
4.5  材料数据库和资料库 37 JT-J#Ag  
4.5.1材料损失 38 Kla'lCZ  
4.5.1材料数据库和导入材料 39  f4Xk,1Is  
4.5.2 材料库 41 4kBaB  
4.5.3导出材料数据 43 ^G4 P y<s  
4.6  常用单位 43 |G?htZF  
4.7  插值和外推法 46 *v9 2  
4.8  材料数据的平滑 50 J%x\=Sv  
4.9 更多光学常数模型 54 :c8&N-`  
4.10  文档的一般编辑规则 55 |y0(Q V  
4.11 撤销和重做 56 <kGU,@6PF  
4.12  设计文档 57 M}yDXJx  
4.10.1  公式 58 \P.I)n`8 y  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 sE:M@`2L  
4.10.3  沉积密度 59 77\] B  
4.10.4 平行和楔形介质 60 P(+&OoY2  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 2w["aVr =  
4.10.4  性能 61 3~uW I%I`  
4.10.5  保存设计和性能 64 %p2Sh)@M  
4.10.6  默认设计 64 )%`^xR  
4.11  图表 64 *=(lyx_O  
4.11.1  合并曲线图 67 /J=v]<87a  
4.11.2  自适应绘制 68 ,.kha8v  
4.11.3  动态绘图 68 $npT[~U5  
4.11.4  3D绘图 69 y%%}k  
4.12  导入和导出 73 qU#1i:(F*  
4.12.1  剪贴板 73 1JztFix  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 7UdM  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 y#U+c*LB  
4.13  背景 77 ] lrWgm  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 4lKq{X5<  
4.15  生成Rugate 84 [n \2  
4.16  参考文献 91 xlA$:M&  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92  %-c*C$  
5.1  Jobs 92 :9QZPsL  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 2E}*v5b,  
5.3  输入材料 94 0=AVW`J  
5.4  设计数据文件夹 95 7Rd'm'l)  
5.5  默认设计 95 (O.d>  
6  细化和合成 97 FB{KH .  
6.1  优化介绍 97 mF,Y?ax  
6.2  细化 (Refinement) 98 6]W=nAD  
6.3  合成 (Synthesis) 100 i*/Yz*<  
6.4  目标和评价函数 101 LUM@#3&  
6.4.1  目标输入 102 59"UL\3  
6.4.2  目标 103 .k%[4:Fe  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Hn5|B 3vN  
6.5  层锁定和连接 104 `f*Q$Ulqx  
6.6  细化技术 104 ^j31S*f&:  
6.6.1  单纯形 105 8,? h~prc  
6.6.1.1 单纯形参数 106 e\!0<d  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Z -W(l<  
6.6.2.1 Optimac参数 108 6L"%e!be6  
6.6.3  模拟退火算法 109 0yuS3VY)  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 57umx`m  
6.6.4  共轭梯度 111 O(D ~_O.  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?0v-qj+  
6.6.5  拟牛顿法 112 #xX5,r0  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 /v- 6WSN  
6.6.6  针合成 113 DAcQz4T`  
6.6.6.1 针合成参数 114 pe]A5\4c  
6.6.7 差分进化 114 C71qPb|$R  
6.6.8非局部细化 115 !cO]<CWPq  
6.6.8.1非局部细化参数 115 95A1:A^t  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 .Le?T&_  
6.7.1  细化 116 G Uon/G8  
6.7.2  合成 117 cx&>#8s&  
6.8  参考文献 117 ST:A<Da"  
7  导纳图及其他工具 118 [lWQ'DZ  
7.1  简介 118 $$ Oey)*  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 0 q} *S~  
7.2.1  四分之一波长规则 119 +nXK-g;)'  
7.2.2  导纳图 120 xv(9IEjt0  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "Zl5<  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 JBE!j-F  
7.5  斜入射导纳图 141 x:),P-~w  
7.6  对称周期 141 }<@b=_>S  
7.7  参考文献 142 S- pV_Ff  
8  典型的镀膜实例 143 ~<_2WQ/$  
8.1  单层抗反射薄膜 145 HCyv]LR  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 D~hg$XzK  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 }1Gv)l7  
8.4  W-膜层 148 Z>)Bp /-  
8.5  V-膜层 149 jQ2Ot<  
8.6  V-膜层高折射基底 150 PsnWWj?c  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ^p[rc@+  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 >O*IQ[r-  
8.9  四层抗反射薄膜 153 :=u?Fqqws  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 /?@3.3sl_  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^l9N48]|?  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 _ba>19csq%  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 fVF2-Rh=  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 _jLL_GD  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 6$kqaS##  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 q"\Z-D0B4  
8.17  1/4波长堆栈 162 }uJu>'1[G  
8.18  陷波滤波器 163 v|uAzM{73  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 \fG#7_wt  
8.20  褶皱 165 #$18*?tLv|  
8.21  消偏振分光器1 169 7 n8"/0kc:  
8.22  消偏振分光器2 171 b\yXbyjZ3.  
8.23  消偏振立体分光器 172 j(m.$:  
8.24  消偏振截止滤光片 173 (gP)%  
8.25  立体偏振分束器1 174 R=gb'  
8.26  立方偏振分束器2 177 l`oZ) ?ur  
8.27  相位延迟器 178 c 0,0`+2~  
8.28  红外截止器 179 T ]t'39  
8.29  21层长波带通滤波器 180 f .Q\Z'S^  
8.30  49层长波带通滤波器 181 o /j*d3  
8.31  55层短波带通滤波器 182 63\/ * NNB  
8.32  47 红外截止器 183 &e @2  
8.33  宽带通滤波器 184 \MyLc/Gh5  
8.34  诱导透射滤波器 186 J]{QB^?  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ''yB5#^w(  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 "I3@m%qv  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 > V-A;S:  
8.35  增益平坦滤波器 193 't:; irLW.  
8.38  啁啾反射镜 1 196 \k.{-nh  
8.39  啁啾反射镜2 198 e?0l"  
8.40  啁啾反射镜3 199 [tlI!~Z  
8.41  带保护层的铝膜层 200 \pPY37l  
8.42  增加铝反射率膜 201 >0/i[k-dk  
8.43  参考文献 202 C _'%N lJ'  
9  多层膜 204 idLWe9gC  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 4 {y)TZ  
9.2  内部透过率 204 wH>a~C:  
9.3 内部透射率数据 205 Gr*r=s  
9.4  实例 206 J1( 9QN[w  
9.5  实例2 210 7%5z p|3  
9.6  圆锥和带宽计算 212 wjH zE  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 (?n=33}Ci  
10  光学薄膜的颜色 216 +ieY:H[  
10.1  导言 216 xN5)   
10.2  色彩 216 *=8JIs A>!  
10.3  主波长和纯度 220 u_@f$  
10.4  色相和纯度 221 CDsSrKhx  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 J"!vu.[  
10.6 色差 226 ")SFi^]  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 m8A#~i .  
10.8  颜色渲染指数 234 94h]~GqNi  
10.9  色差计算 235 -.1y(k^4E  
10.10  参考文献 236 gwLf'  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 7I&&bWB  
11.1  短脉冲 238 kjIAep0rT  
11.2  群速度 239 uZNTHD  
11.3  群速度色散 241 v\c>b:AofD  
11.4  啁啾(chirped) 245 %'b M){  
11.5  光学薄膜—相变 245 ~-ia+A6GIV  
11.6  群延迟和延迟色散 246 <CS(c|7  
11.7  色度色散 246 YN/|$sMD|  
11.8  色散补偿 249 L uq#9(P  
11.9  空间光线偏移 256 I3a NFa}  
11.10  参考文献 258 "Lzi+1  
12  公差与误差 260 _GV:HOBi  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ?^7t'`zk  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 K18}W*$ d  
12.2.1  误差工具 267 X3{G:H0\p  
12.2.2  灵敏度工具 271 caIL&G,  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 @@R7p  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Xnt~]k\"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 +[M6X} TQ  
12.3  参考文献 276 W<bGDh  
13  Runsheet 与Simulator 277 I4'5P}1yp  
13.1  原理介绍 277 DVG(V w  
13.2  截止滤光片设计 277 qyZ" %Kz  
14  光学常数提取 289 ( Z619w  
14.1  介绍 289 FEW14 U'O  
14.2  电介质薄膜 289 o*b] p-  
14.3  n 和k 的提取工具 295 O8+7g+J=!  
14.4  基底的参数提取 302 \z>fb%YW  
14.5  金属的参数提取 306 \.0^n3y  
14.6  不正确的模型 306 I5`4Al  
14.7  参考文献 311 rV2WnAb[H&  
15  反演工程 313 |9uOUE  
15.1  随机性和系统性 313 v_<rNc,z-s  
15.2  常见的系统性问题 314 lG9bLiFY  
15.3  单层膜 314 ^hG-~z<  
15.4  多层膜 314 |nc@"OJ  
15.5  含义 319 4QH3fTv   
15.6  反演工程实例 319 };mA^xO]j  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 wrc,b{{[iM  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 VF&(8X\   
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 sGi"rg#  
16.1  光学性质的热致偏移 329 P60~ V"/P  
16.2  应力工具 335 ./- 5R|fN  
16.3  均匀性误差 339 [glLre^  
16.3.1  圆锥工具 339 u7Y WnD  
16.3.2  波前问题 341 ?h3Y)5xT  
16.4  参考文献 343 ,g%0`SO  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 $ZUdT  
17.1  引言 345 J28M@cn  
17.2  操作数 345 QCD .YFM  
18  如何在Function中编写脚本 351 iNWw;_|1  
18.1  简介 351 7TgOK   
18.2  什么是脚本? 351 K`yRr`pW  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Pnk5mK$  
18.4  基础 352 (iBNZ7sJ  
18.4.1  Classes(类别) 352 3r<~Q7e  
18.4.2  对象 352 NvD7Krqwa  
18.4.3  信息(Messages) 352 +M./@U*g  
18.4.4  属性 352 o@r7 n>G  
18.4.5  方法 353 5 f@)z"j  
18.4.6  变量声明 353 bbtGXfI+SB  
18.5  创建对象 354 g$":D  
18.5.1  创建对象函数 355 /1Qr#OJ(]  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 (jnzT=y  
18.5.3 丢弃对象 356 + @A  
18.5.4  总结 356 p?{Xu4(  
18.6  脚本中的表格 357 ls?~+\Jb  
18.6.1  方法1 357 AhCW'.  
18.6.2  方法2 357 N"pc,Q\xU  
18.7 2D Plots in Scripts 358 *!4Z#Y  
18.8 3D Plots in Scripts 359 0m7Y>0wC6T  
18.9  注释 360 QMA%$  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 S$f9m  
18.11  一个更高级的脚本 362 5<iV2Hx  
18.12  <esc>键 364 e2L0VXbb  
18.13 包含文件 365 kj|6iG  
18.14  脚本被优化调用 366 2;[D;Y}  
18.15  脚本中的对话框 368 $Ad{Z  
18.15.1  介绍 368 A ;G;^s  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 j>*S5y.{  
18.15.3  输入框函数 370 4qN{n#{+]  
18.15.4  自定义对话框 371 >L|;|X!m9\  
18.15.5  对话框编辑器 371 CWf / H)~  
18.15.6  控制对话框 377 .0p0_f=  
18.15.7  更高级的对话框 380 R]Vt Y7}i,  
18.16 Types语句 384 ~Xw"}S5  
18.17 打开文件 385 7WZrSC  
18.18 Bags 387 jL y  
18.13  进一步研究 388 _geWE0 E  
19  vStack 389 x"eRJii?  
19.1  vStack基本原理 389 anuL1f XO  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 TSA,WP\  
19.3  五棱镜 393 :fKl]XO  
19.4 光束距离 396 V @rI`~$  
19.5 误差 399 ,4 hJT  
19.6  二向分色棱镜 399 @(l^]9(V\  
19.7  偏振泄漏 404 y9_V  
19.8  波前误差—相位 405 HPpR.  
19.9  其它计算参数 405 3yANv?$a  
20  报表生成器 406 #w;v0&p  
20.1  入门 406 l_3`G-`2  
20.2  指令(Instructions) 406 ^m L@e'r  
20.3  页面布局指令 406 r}Ohkr  
20.4  常见的参数图和三维图 407 MU>k,:[  
20.5  表格中的常见参数 408 y@]_+2Vo  
20.6  迭代指令 408 du+y5dw  
20.7  报表模版 408 T _M!<J  
20.8  开始设计一个报表模版 409 J2d.f}-  
21  一个新的project 413 k[0-CB  
21.1  创建一个新Job 414 kTKq/G,Ft  
21.2  默认设计 415 ,"2s`YC  
21.3  薄膜设计 416 TP VVck-T8  
21.4  误差的灵敏度计算 420 V zBqjE_  
21.5  显色指数计算 422 A+HF@Uw}^  
21.6  电场分布 424 ^*S ,xP  
后记 426 6Vww;1 J  
u,F nAh?"  
>d~WH@o`G  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ?:Mr=]sD  
I6~pV@h^=  
《Essential Macleod中文手册》
_a_7,bk5  
XttqO f  
目  录 CPgCjtY  
INUG*JC6  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 K )[]fm  
第1章 介绍 ..........................................................1 nJbtS#`G4  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 "~`I::'c  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 FE" y\2}  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 r`%+M7  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ttXXy3G#  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 nv)2!mAh\  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 :z}MIuf  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Rfn9s(m  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 (]_1  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 whonDG4WP  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 M@h|bN  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 |4 v0:ETb$  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 9Kg21-?  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 HN_d{ 3  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 t(GR)&>.2  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 x??pBhJH  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208  ~UyV<  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 <Gav5R c  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 MWI4Y@1bS  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 sBu=e7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 0~HKiH-  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 [(o7$i29|%  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 f} Np/  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 [v$0[IuY,  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 tyfTU5"x  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 o8zy^zN$6  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311  ]E_h  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 L,SGT8lL  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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