线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:946
时间地点 mH5[(?   
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 taqmtXU=(  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 YZQF*fj  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 >SaT?k1E  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ;}QM#5Xdt  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
2; ~jKR[~  
特邀专家介绍 2pV@CT  
Pef$-3aP>E  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 [ @`Ki  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ~#nbD-*#  
课程概要 q+?>shqsZ  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ;ep@ )Y  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 y)0wM~E;2  
课程大纲 g"|Z1iy|9  
1. Essential Macleod软件介绍 (#5TM1/A  
1.1 介绍软件 !1fAW! 8  
1.2 创建一个简单的设计 CT#u+]T  
1.3 绘图和制表来表示性能 jb0LMl}/A  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 0)nY- f0  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) o.x<h";  
1.6 特定设计的公式技术 #xe-Yw1!  
1.7 交互式绘图 &N\4/'wV  
2. 光学薄膜理论基础 `cn}}1Lg]  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 0 \}%~e  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 O cJ(i#Q~<  
3. 材料管理 '1[Bbs  
3.1 材料模型 mYw9lM  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 PYJ8\XZ1_N  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 i5G"@4(  
3.4 基板光学常数的提取 :9f/d;Mo3  
4. 光学薄膜设计优化方法 +Qo]'xKr  
4.1 参考波长与g wxIWh>pZa  
4.2 四分之一规则 ^rIe"Kx  
4.3 导纳与导纳图 o}VW%G"  
4.4 斜入射光学导纳 )]P%=  
4.5 光学薄膜设计的进展 4Up \_  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 9w08)2$ Na  
4.6.1 优化目标设置 ?0VETa ~m  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) -:NFF'  
4.6.3 膜层锁定和链接 bZ_vb? n  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 J~(M%] &k^  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 V{+5Fas^l  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Mr u  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +y\mlfJ.-b  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 +u]L# ].;  
5.5 如何在Function中编写脚本 =VPJ m\*V  
6. 光学薄膜系统案例 LG> lj$hO  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 v''F\V )  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 XTPf~Te,=  
6.3 Stack应用范例说明 z3 Ro*yJU  
7. 薄膜性能分析 #Y;tobB  
7.1 电场分布 A.>TD=Nz  
7.2 公差与灵敏度分析 &<\i37y  
7.3 反演工程 8@Hl0{q  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 $ ";NS6 1  
8. 真空技术 !3T,{:gyrI  
8.1 常用真空泵介绍  1@p'><\  
8.2 真空密封和检漏 4E~!$Ustx  
9. 薄膜制备技术 $S_G:}tna  
9.1 常见薄膜制备技术 jo ^+  
10. 薄膜制备工艺 dlB?/J<  
10.1 薄膜制备工艺因素 <|R`N)AV;  
10.2 薄膜均匀性修正技术 A<|]>[ax  
10.3 光学薄膜监控技术 ts=KAdcJ  
11. 激光薄膜 ?84B0K2N s  
11.1 薄膜的损伤问题 <$ oI  
11.2 激光薄膜的制备流程 ed6eC8@  
11.3 激光薄膜的制备技术 ?PSVVU q,Z  
12. 光学薄膜特性测量 OZed+t=  
12.1 薄膜光谱测量 f{j (H?5  
12.2 薄膜光学常数测量 ,a1 1&"xl  
12.3 薄膜应力测量 (TQhO$,  
12.4 薄膜损伤测量 u~VvGLFf5,  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Weu%&u-  
qsTB)RdjP%  
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AKkr )VgY  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 =%IBl]Z!"  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 sUEvL( %nY  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $`O%bsjX  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 E,g5[s@  
@/yJTMcf  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
w=MiJr#3^  
目录 8M9}os  
Preface 1 i$b Het  
内容简介 2 hfQx$cv6  
目录 i +kN/-UsB  
1  引言 1 ^g eC?m  
2  光学薄膜基础 2 Wo[*P\8  
2.1  一般规则 2 k),!%6\(  
2.2  正交入射规则 3 =i:6&Y~VGq  
2.3  斜入射规则 6 vE=)qn=a  
2.4  精确计算 7 y %4G[Dz  
2.5  相干性 8 9;B6<`e/U  
2.6 参考文献 10 h..D1(M  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Z+?V10$  
4  Essential Macleod的特点 32 c4AkH|  
4.1  容量和局限性 33 @M!Wos Rk  
4.2  程序在哪里? 33 >nA6w$  
4.3  数据文件 35 +o7Np| Ou  
4.4  设计规则 35 B]-~hP  
4.5  材料数据库和资料库 37 3+` <2TP  
4.5.1材料损失 38 ck"lX[d1  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 A0>u9Bn"Qw  
4.5.2 材料库 41 Sy?O(BMo  
4.5.3导出材料数据 43 Nt^9N #+N  
4.6  常用单位 43 EX.`6,:+2  
4.7  插值和外推法 46 +o94w^'^$b  
4.8  材料数据的平滑 50 5\6S5JyIL  
4.9 更多光学常数模型 54 O?I~XM'S  
4.10  文档的一般编辑规则 55 4gRt^T-?  
4.11 撤销和重做 56 )1!jv!  
4.12  设计文档 57 /^F$cQX(  
4.10.1  公式 58 O^W.5SaR  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 d l<7jM?  
4.10.3  沉积密度 59 ?'L3B4  
4.10.4 平行和楔形介质 60 dLq)Z*r  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Hve'Z,X  
4.10.4  性能 61 ; Fi(zl  
4.10.5  保存设计和性能 64 O%KP,q&}Y  
4.10.6  默认设计 64 O=C z*j  
4.11  图表 64 ?9)-?tZ^Q  
4.11.1  合并曲线图 67 J4 Tc q  
4.11.2  自适应绘制 68 (g8<"< N?  
4.11.3  动态绘图 68 1dgy-$H~  
4.11.4  3D绘图 69 ,(  ?q  
4.12  导入和导出 73 QlmZ4fT[r  
4.12.1  剪贴板 73 hCcAAF*I;5  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 D$wl.r  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 :@H&v%h(u  
4.13  背景 77 .*bu:FuDE  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ,iQRf@#W_b  
4.15  生成Rugate 84 [-$:XOO  
4.16  参考文献 91 !N@d51T=N  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 9 Z 5!3  
5.1  Jobs 92 ?^< E#2a  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 x=%p~$C  
5.3  输入材料 94 #J,?oe=<4  
5.4  设计数据文件夹 95 2{sx"/k\A  
5.5  默认设计 95 T|{1,wP  
6  细化和合成 97 wM"P JG  
6.1  优化介绍 97 >)&]Ss5J  
6.2  细化 (Refinement) 98 *h `P+_Q7  
6.3  合成 (Synthesis) 100 1JFCYJy  
6.4  目标和评价函数 101 v9<'nU WVR  
6.4.1  目标输入 102 *QIlh""6  
6.4.2  目标 103 _8f? H#&  
6.4.3  特殊的评价函数 104 `=zlS"dQ  
6.5  层锁定和连接 104 &`RD5uml  
6.6  细化技术 104 @Weim7r  
6.6.1  单纯形 105 Ig sK7wn  
6.6.1.1 单纯形参数 106 K9*vWoP'  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 `|Wu\X  
6.6.2.1 Optimac参数 108 B3j   
6.6.3  模拟退火算法 109 41S.&-u  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 '>wr _ f  
6.6.4  共轭梯度 111 r^m8kYezQ  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 t Lz,t&h  
6.6.5  拟牛顿法 112 R@+%~"Z  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 l. 9 i `  
6.6.6  针合成 113 :?*|Dp1  
6.6.6.1 针合成参数 114 +p%!G1Yz  
6.6.7 差分进化 114 M_+"RKp  
6.6.8非局部细化 115 v|WTm#  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ~ry B*eZH  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 4DYa~ =w  
6.7.1  细化 116 R0l5"l*@+  
6.7.2  合成 117 'nrX RDb  
6.8  参考文献 117 .]0u#fz0y  
7  导纳图及其他工具 118 $ e<108)]  
7.1  简介 118 Cm~Pn "K_]  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 *u i!|;  
7.2.1  四分之一波长规则 119 1^x "P#u  
7.2.2  导纳图 120 Q (3Na6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _5nS!CN  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,#u"$Hz8p  
7.5  斜入射导纳图 141 _\d[`7#  
7.6  对称周期 141 vG{+}o#  
7.7  参考文献 142 eNwF<0}  
8  典型的镀膜实例 143 BkP'b{z|  
8.1  单层抗反射薄膜 145 %z0;77[1I  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 4Pbuv6`RK  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ;yvx-  
8.4  W-膜层 148 -&Cb^$.-x  
8.5  V-膜层 149 Z4^O`yS9+  
8.6  V-膜层高折射基底 150 fbG+.'  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 &zxqVI$4  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W7F1o[  
8.9  四层抗反射薄膜 153 mM[!g'*  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 V>$A\AWw  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {CO]wqEj  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 + Z7 L&BI  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 F1Jd-3ei  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 rwJCVkF  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 L[|($vQ"  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 (mNNTMe  
8.17  1/4波长堆栈 162 qM$4c7'4P6  
8.18  陷波滤波器 163 B"@3Qav3  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )g()b"Z #>  
8.20  褶皱 165 Yq$KYB j  
8.21  消偏振分光器1 169 Rz #&v  
8.22  消偏振分光器2 171 u{6b>c|,X  
8.23  消偏振立体分光器 172 y:m ;_U,%c  
8.24  消偏振截止滤光片 173 u . xUM  
8.25  立体偏振分束器1 174 :aIS>6  
8.26  立方偏振分束器2 177 RjcU0$Hi  
8.27  相位延迟器 178 u/I|<NAC,  
8.28  红外截止器 179 ccdP}|9e  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Z7="on4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ^n@dC?  
8.31  55层短波带通滤波器 182 /.1yxb#Z?,  
8.32  47 红外截止器 183 Xxz_h*  
8.33  宽带通滤波器 184 +E7Os|m  
8.34  诱导透射滤波器 186 f"{|c@%  
8.35  诱导透射滤波器2 188 JNJ96wnX1  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 K1gZ>FEY|N  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192  W0&x0  
8.35  增益平坦滤波器 193 A=PJg!  
8.38  啁啾反射镜 1 196 sa7F-XM  
8.39  啁啾反射镜2 198 T"b'T>Y  
8.40  啁啾反射镜3 199 Q[wTV3d  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Fx3CY W  
8.42  增加铝反射率膜 201 mBrH`!  
8.43  参考文献 202 tbH` VD"u  
9  多层膜 204 yMd<<:Ap  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 or8`.h EHI  
9.2  内部透过率 204 v7h!'U[/  
9.3 内部透射率数据 205 -](NMRqfN  
9.4  实例 206 Fu z'!  
9.5  实例2 210 (/^s?`1{N?  
9.6  圆锥和带宽计算 212 xk#q_!(j  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 vGX}zzto  
10  光学薄膜的颜色 216 js$L<^7  
10.1  导言 216 v>[U*E  
10.2  色彩 216 BM vGw  
10.3  主波长和纯度 220 mnG\qsKNLK  
10.4  色相和纯度 221 ^D%hKIT  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 - K@mjN  
10.6 色差 226 \U?$ r[P  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 r'bPSu,  
10.8  颜色渲染指数 234 e2dg{n$6"  
10.9  色差计算 235 1Mtm?3Pt  
10.10  参考文献 236 xpU7ZY  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 4ZX6=-u^  
11.1  短脉冲 238 7~I*u6zY  
11.2  群速度 239 vg"$&YX9"  
11.3  群速度色散 241 -r'/PbV0  
11.4  啁啾(chirped) 245 \{@n >Mh  
11.5  光学薄膜—相变 245 BKV,V/*p  
11.6  群延迟和延迟色散 246 moOc G3=9  
11.7  色度色散 246 # h/#h\  
11.8  色散补偿 249 9'5`0$,|^  
11.9  空间光线偏移 256 `q$a p$?  
11.10  参考文献 258 QyEGK  
12  公差与误差 260 Sc/\g  
12.1  蒙特卡罗模型 260 SZ&I4-  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 okkMx"  
12.2.1  误差工具 267 %FhUjHm  
12.2.2  灵敏度工具 271 l(<=JUO;  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 r-s9]0"7~  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Bs!F |x(  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 9sI&&Jg  
12.3  参考文献 276 ,8`CsY^1  
13  Runsheet 与Simulator 277 &<>NP?j}  
13.1  原理介绍 277 nkxv,_)ZT  
13.2  截止滤光片设计 277 g.wDg  
14  光学常数提取 289 ~ubcD6f  
14.1  介绍 289 #1z/rUh`Cr  
14.2  电介质薄膜 289 QB"Tlw(  
14.3  n 和k 的提取工具 295 J/(^Z?/~P!  
14.4  基底的参数提取 302 S%p.|!  
14.5  金属的参数提取 306 us7t>EMmB  
14.6  不正确的模型 306 GpZ}xY'|w,  
14.7  参考文献 311 u==`]\_@  
15  反演工程 313 ; "K"S[  
15.1  随机性和系统性 313 7KlS9x2  
15.2  常见的系统性问题 314 iRIO~XVo  
15.3  单层膜 314 b$JrLZs$_  
15.4  多层膜 314 8JFvz(SK>  
15.5  含义 319 Gv+$7{  
15.6  反演工程实例 319 EZee kxs  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 1va~.;/rG  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 k5@PZFV  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 uz /Wbc>y  
16.1  光学性质的热致偏移 329 3Jh!YzI8  
16.2  应力工具 335 ]5',`~jkF  
16.3  均匀性误差 339 H 2JKQm_  
16.3.1  圆锥工具 339 ' 5xvR G  
16.3.2  波前问题 341 dQQ!QbI(.  
16.4  参考文献 343 t8ZzBD!dP  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ak"W/"2:  
17.1  引言 345 d2U+%%Tdw  
17.2  操作数 345 p&$O}AX|  
18  如何在Function中编写脚本 351 fW z=bJ"V  
18.1  简介 351 0Lx,qZ'  
18.2  什么是脚本? 351 +/n<]?(T  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 )C>8B`^S  
18.4  基础 352 M3 &GO5<  
18.4.1  Classes(类别) 352 Ow50M;E  
18.4.2  对象 352 ^iqy|zNtn  
18.4.3  信息(Messages) 352 BS|$-i5L  
18.4.4  属性 352 '',g}WvRwe  
18.4.5  方法 353 $e, N5/O  
18.4.6  变量声明 353 I&wJK'GM`  
18.5  创建对象 354  &Sdf0"  
18.5.1  创建对象函数 355 H#/Hs#  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 W QqOXF  
18.5.3 丢弃对象 356 qORL 7?{  
18.5.4  总结 356 WYm<_1  
18.6  脚本中的表格 357 \OW.?1d  
18.6.1  方法1 357 H{4_,2h =m  
18.6.2  方法2 357 ;Xl {m`E+  
18.7 2D Plots in Scripts 358 :ggXVwpe  
18.8 3D Plots in Scripts 359 {HtW`r1)Tt  
18.9  注释 360 n/ZX$?tKAK  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 jR2^n`D  
18.11  一个更高级的脚本 362 3jx/1VV  
18.12  <esc>键 364 TZ#^AV=ae  
18.13 包含文件 365 & d_2WQ}  
18.14  脚本被优化调用 366 ?3y>K!D(A  
18.15  脚本中的对话框 368 p5aqlYb6r  
18.15.1  介绍 368 -)Hc^'.  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 :X}fXgeL  
18.15.3  输入框函数 370 &Lbh?C  
18.15.4  自定义对话框 371 s=>^ 8[0O  
18.15.5  对话框编辑器 371 sQmJ3 (:HO  
18.15.6  控制对话框 377 ,*.qa0E#W  
18.15.7  更高级的对话框 380 t\WU}aKML  
18.16 Types语句 384 )4R[C={  
18.17 打开文件 385 :?j]W2+kR  
18.18 Bags 387 9I[k3  
18.13  进一步研究 388 fXSuJ<G  
19  vStack 389 .aQ8I1~  
19.1  vStack基本原理 389 2 b80b50  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 i8A-h6E  
19.3  五棱镜 393 }t*:EgfI  
19.4 光束距离 396 "0Z5cQjg  
19.5 误差 399 Z#%s/TL  
19.6  二向分色棱镜 399 #x6EZnG  
19.7  偏振泄漏 404 >VppM  `  
19.8  波前误差—相位 405 VA @  
19.9  其它计算参数 405 7l4}b^>/`  
20  报表生成器 406 &ZL4/e  
20.1  入门 406 *z^Au7,&  
20.2  指令(Instructions) 406 jN!VrRA  
20.3  页面布局指令 406 %6la@i  
20.4  常见的参数图和三维图 407 OkMAqS  
20.5  表格中的常见参数 408 N%S|Ey@f   
20.6  迭代指令 408 v0(_4U]/  
20.7  报表模版 408 8p#V4liE  
20.8  开始设计一个报表模版 409 (6i4N2  
21  一个新的project 413 =@D H hg  
21.1  创建一个新Job 414 b!qlucA eE  
21.2  默认设计 415 ?e\u_3- 9  
21.3  薄膜设计 416 LbuhKL}VN  
21.4  误差的灵敏度计算 420 q ,+29  
21.5  显色指数计算 422 XUA%3Xr  
21.6  电场分布 424 1'H!S%fS  
后记 426 R5xV_;wD  
'$[a-)4  
}:S}jo7  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 +LlAGg]Z  
-b)3+#f  
《Essential Macleod中文手册》
,/"0tP&_;  
!AG oI7W}  
目  录 8Vy/n^3)  
U#%+FLX@w  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 H`,t"I  
第1章 介绍 ..........................................................1 f?TS#jG4}  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 XePGOw))O  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 8gG;A8  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 = toU?:.  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 lQv (5hIm  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 bAld'z#  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 j Y(|z*|  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 )2 b-3lz  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 E)|Bl>  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ^\r{72!y  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 R 5\|pC  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 @+a}O  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 nd[Ja_h  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 sq@c?!'  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 6Ilj7m*  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 {"*_++|  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208  yyGn <  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 X`fm5y  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 g1 =>u  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 R,fAl"wMu  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ^>^h|$  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 P0RtS1A  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 wYDdy gS  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 \odns  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 `~\8fN  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 R+2~%|{d  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 KL*+gq0k  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 79I"F'  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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