线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:990
时间地点 G_Ay   
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 C2<CWPn<  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ecX/K.8l  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 s(&;q4|  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 0ZC,BS`D^  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 n+D#k 8{  
y1BgK>R  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 2D([Z-<i  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ~]8p_;\  
课程概要 Sd:.KRTu.  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 !Zbesp KZ  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 d `j?7Z  
课程大纲 ); 6,H.v  
1. Essential Macleod软件介绍 _1jw=5^P\i  
1.1 介绍软件 8,o17}NY,  
1.2 创建一个简单的设计 {@r*+~C3  
1.3 绘图和制表来表示性能 EX?h0Uy  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 V+w u  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) }#=Od e  
1.6 特定设计的公式技术 16@);Ot  
1.7 交互式绘图 HP a|uDVv  
2. 光学薄膜理论基础 9b6!CNe!  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 [BBpQN.^q6  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 $Kq<W{H3ut  
3. 材料管理 ,.g}W~S)  
3.1 材料模型 Q-zdJt  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 >$ F:*lO  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 +zRh fIJHH  
3.4 基板光学常数的提取 V2yveNz\7  
4. 光学薄膜设计优化方法 ;o$;Z4:.D  
4.1 参考波长与g =s'7$D}0.  
4.2 四分之一规则 w{'2q^>6*  
4.3 导纳与导纳图 v3JPE])/  
4.4 斜入射光学导纳 ^t78jfl  
4.5 光学薄膜设计的进展 ma9ADFFT  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 2q %K)h  
4.6.1 优化目标设置 }f}IA\8]  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 3#Y3Dz`  
4.6.3 膜层锁定和链接 *?8RXer  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 yx0Q+Sm1:  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 rR!U;  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 V:\]cGA{  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 M}!A]@  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 F14(;'Az  
5.5 如何在Function中编写脚本 h#{T}[  
6. 光学薄膜系统案例 ) p^  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 {Bvm'lq`  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 IT1P Pm  
6.3 Stack应用范例说明 b~W)S/wF$P  
7. 薄膜性能分析 / Dw@d,&[  
7.1 电场分布 ogeRYq,g  
7.2 公差与灵敏度分析 (/fT]6(  
7.3 反演工程 +t>XxYScx  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 0VIZ=-e  
8. 真空技术 79z)C35~  
8.1 常用真空泵介绍 >Zdi5') 5  
8.2 真空密封和检漏 /p$=Cg[K  
9. 薄膜制备技术 ? : md  
9.1 常见薄膜制备技术 5w-JPjH  
10. 薄膜制备工艺 m;h<"]<  
10.1 薄膜制备工艺因素 G{A)H_o*  
10.2 薄膜均匀性修正技术 01nsdZ-  
10.3 光学薄膜监控技术 XTj73 MWY  
11. 激光薄膜 jm> U6  
11.1 薄膜的损伤问题 (zmNa}-  
11.2 激光薄膜的制备流程 .b _?-Fv  
11.3 激光薄膜的制备技术 [` 'd#pR  
12. 光学薄膜特性测量 q5?L1  
12.1 薄膜光谱测量 s$3`X(Pn  
12.2 薄膜光学常数测量 U"B.:C2  
12.3 薄膜应力测量 h^d\xn9GT#  
12.4 薄膜损伤测量 .M+v?A d  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 4OEKx|:5n  
SKJW%(|3  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
A^cU$V%?W  
内容简介 fkBLrw  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 6oA~J]<  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jnDQ{D  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 j=Q$K #sBt  
9ET/I$n  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
*N'hA5.z  
目录 <c\]Ct  
Preface 1 QmHwn)Ly  
内容简介 2 :K;T Q  
目录 i p6[#f96^u  
1  引言 1 (h|ch#  
2  光学薄膜基础 2 .d e  
2.1  一般规则 2 wlL8X7+:  
2.2  正交入射规则 3  s<d!+<  
2.3  斜入射规则 6 N Z)b:~a  
2.4  精确计算 7 dQ`:8S K  
2.5  相干性 8 mb~./.5F  
2.6 参考文献 10 4$F:NW,v:)  
3  Essential Macleod的快速预览 10 +]_nbWL(%  
4  Essential Macleod的特点 32 ~xE=mg4le  
4.1  容量和局限性 33 f^u^-l  
4.2  程序在哪里? 33 '5V^}/  
4.3  数据文件 35 eB7>t@ED  
4.4  设计规则 35 k}-]W@UCa?  
4.5  材料数据库和资料库 37 )ZN(2z  
4.5.1材料损失 38 Kny%QBoiw  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 @?Fx  
4.5.2 材料库 41 ret0z|  
4.5.3导出材料数据 43 H):-! ?:  
4.6  常用单位 43 }ymc5-  
4.7  插值和外推法 46 }R`Irxv4  
4.8  材料数据的平滑 50 w'|&5cS  
4.9 更多光学常数模型 54 srsK:%`  
4.10  文档的一般编辑规则 55 :;q>31:h  
4.11 撤销和重做 56 zfirb  
4.12  设计文档 57 |@+8]dy:l  
4.10.1  公式 58 Ou? r {$(b  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Y=3X9%v9g  
4.10.3  沉积密度 59 0Ux<16#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 U|9U(il  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 "NJ ,0A  
4.10.4  性能 61 z^gi[ mi  
4.10.5  保存设计和性能 64 ~~ U<  
4.10.6  默认设计 64 yV8-  
4.11  图表 64 kAY@^vi  
4.11.1  合并曲线图 67 z2.*#xTZn  
4.11.2  自适应绘制 68 w[e0wh`.  
4.11.3  动态绘图 68 x3gwG)Sf  
4.11.4  3D绘图 69 L#`7FaM?  
4.12  导入和导出 73 UBL(Nr  
4.12.1  剪贴板 73 >1m)%zt  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 )-)ss"\+Ju  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 (LRNU)vD7$  
4.13  背景 77 HgYc@P*b  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 |OOXh[y  
4.15  生成Rugate 84 [ k!-;mi   
4.16  参考文献 91 dFx2>6AZt  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 T=^jCH &  
5.1  Jobs 92 L7s>su|c(  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 KlY,NSlQ  
5.3  输入材料 94 2]2{&bu  
5.4  设计数据文件夹 95 LjSLg[i  
5.5  默认设计 95 FwXKRZa  
6  细化和合成 97 (QhG xuC  
6.1  优化介绍 97  V+peO  
6.2  细化 (Refinement) 98 z~BD(FDI  
6.3  合成 (Synthesis) 100 | A3U@>6  
6.4  目标和评价函数 101 $Z,i|K;  
6.4.1  目标输入 102 ||yXp2  
6.4.2  目标 103 -)4uYK*  
6.4.3  特殊的评价函数 104 iJ,M-GHK  
6.5  层锁定和连接 104 dFd lB `L  
6.6  细化技术 104 >_&~!Y.Z=  
6.6.1  单纯形 105 N 9c8c  
6.6.1.1 单纯形参数 106 T"n>h  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 RP,A!pa@  
6.6.2.1 Optimac参数 108 D8)O4bh  
6.6.3  模拟退火算法 109 :0WkxEY9  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 \s.1R/TyD  
6.6.4  共轭梯度 111 0[V&8\S~'T  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 z\e>DdS  
6.6.5  拟牛顿法 112 +fC#2%VnU  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 IRlN++I!  
6.6.6  针合成 113 1P(%9  
6.6.6.1 针合成参数 114 wCV>F-  
6.6.7 差分进化 114 #DQX<:u  
6.6.8非局部细化 115 17WNJ  
6.6.8.1非局部细化参数 115 E}]I%fi  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ls[Ls  
6.7.1  细化 116 uo]Hi^r.l  
6.7.2  合成 117 xN e_qO  
6.8  参考文献 117 hq5NQi` %  
7  导纳图及其他工具 118 )`B -O::  
7.1  简介 118 t)\D  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Aqa6R+c  
7.2.1  四分之一波长规则 119 8FxcI!A@  
7.2.2  导纳图 120 Ix*BI9E  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vh<]aiY  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 T r SN00  
7.5  斜入射导纳图 141 Zx}N Fcn  
7.6  对称周期 141 9=Y,["br$_  
7.7  参考文献 142 (:_%kmu  
8  典型的镀膜实例 143 jHs<s`#h  
8.1  单层抗反射薄膜 145 B.]qrS|  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 08zi/g2 3  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {D;Xa`:O  
8.4  W-膜层 148 g2+l@$W  
8.5  V-膜层 149 ."~7 \E> t  
8.6  V-膜层高折射基底 150 >E//pr)_Km  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 s,1pZT <E  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @m+pr\h(  
8.9  四层抗反射薄膜 153 j~+[uzW98  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 n%83jep9  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 @?<N +qdH>  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 /W"Bf  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 Fv?R\`52u  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 DePV,.  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 JIyBhFI  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 !Z#_X@NFc  
8.17  1/4波长堆栈 162 P`\m9"7  
8.18  陷波滤波器 163 :)KTZ  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 fOqS|1rC  
8.20  褶皱 165 %k/ k]: s  
8.21  消偏振分光器1 169 i1b4 J  
8.22  消偏振分光器2 171 1$='`@8I  
8.23  消偏振立体分光器 172 r[.zLXgK  
8.24  消偏振截止滤光片 173 _Vdb?  
8.25  立体偏振分束器1 174 ^>,< *p  
8.26  立方偏振分束器2 177 .nj?;).  
8.27  相位延迟器 178 y)?W-5zL  
8.28  红外截止器 179 kWZ/ej  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Nw9-pQ  
8.30  49层长波带通滤波器 181 7,V!Iv^X  
8.31  55层短波带通滤波器 182 WmT}t  
8.32  47 红外截止器 183 8w{#R{w  
8.33  宽带通滤波器 184 n:5O9,umZ  
8.34  诱导透射滤波器 186 Z$OF|ZZQ  
8.35  诱导透射滤波器2 188 q|47;bK'  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Gt\K Ln  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ,z?<7F1q=  
8.35  增益平坦滤波器 193 *_4n2<W$  
8.38  啁啾反射镜 1 196 dO 1-c`  
8.39  啁啾反射镜2 198 % +kT  
8.40  啁啾反射镜3 199 Pe+ 8~0o=R  
8.41  带保护层的铝膜层 200 CX&yjT6`  
8.42  增加铝反射率膜 201 nLFx/5sL  
8.43  参考文献 202 *j_fG$10g  
9  多层膜 204 BNL8hK`D  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 yNhscAMNn  
9.2  内部透过率 204 `}k&HRn  
9.3 内部透射率数据 205 f>\bUmk(  
9.4  实例 206 / K_e;(Y_  
9.5  实例2 210 E6k?+i w  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Se^/VVm  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 :/yr(V{  
10  光学薄膜的颜色 216 $L<_uqSk  
10.1  导言 216 fG8}=xH_&  
10.2  色彩 216 4pfix1F g  
10.3  主波长和纯度 220 5CY@R  
10.4  色相和纯度 221 <FcPxZ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ecY ^C3+S  
10.6 色差 226 6mI_Q2  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Y2=Brtc[@  
10.8  颜色渲染指数 234 m' Ekp  
10.9  色差计算 235 9%3 r-U=  
10.10  参考文献 236 }Ke}rM<  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 O, ``\(P  
11.1  短脉冲 238 s{"`=dKT  
11.2  群速度 239 fcE/  
11.3  群速度色散 241 68'-1}  
11.4  啁啾(chirped) 245 we:5gK &  
11.5  光学薄膜—相变 245 `L"p)5H  
11.6  群延迟和延迟色散 246 m]-v IUpb  
11.7  色度色散 246 ;G4HMtL  
11.8  色散补偿 249 7/^TwNsv  
11.9  空间光线偏移 256 0XQ".:+h  
11.10  参考文献 258 r3c\;Ra7  
12  公差与误差 260 r7Q:l ?F2  
12.1  蒙特卡罗模型 260 o/  x5  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 }GoOE=rhY  
12.2.1  误差工具 267 h87L8qh9  
12.2.2  灵敏度工具 271 Zeme`/aBb  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 l# !@{ <  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 s!j(nUd/  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ~7ATt8T  
12.3  参考文献 276 /SPAJHh  
13  Runsheet 与Simulator 277 \[IdR^<YM  
13.1  原理介绍 277 .kB3jfw0,  
13.2  截止滤光片设计 277 XZep7d}  
14  光学常数提取 289 _ntW}})K  
14.1  介绍 289 *xv/b=  
14.2  电介质薄膜 289 9?}rpA`P  
14.3  n 和k 的提取工具 295 * 0&i'0>  
14.4  基底的参数提取 302 #)PGQ)(  
14.5  金属的参数提取 306 /SqFP L]  
14.6  不正确的模型 306 +}(B856+  
14.7  参考文献 311 2W"cTm  
15  反演工程 313 uZ0 $s$  
15.1  随机性和系统性 313 \6`%NhkM_  
15.2  常见的系统性问题 314 {o5K?Pb  
15.3  单层膜 314 tRUsZl  
15.4  多层膜 314 St7D.|  
15.5  含义 319 k9_VhR|!  
15.6  反演工程实例 319 LKf5r,C  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 :|m~<'g  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 f<> YYeY  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 {Jw<<<G  
16.1  光学性质的热致偏移 329 QzFv;  
16.2  应力工具 335 g]iy-,e  
16.3  均匀性误差 339 :WfB!4%!  
16.3.1  圆锥工具 339 UwL"%0u  
16.3.2  波前问题 341 LHHDt<+B  
16.4  参考文献 343 E? m#S  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 3ciVjH>i  
17.1  引言 345 dnX`F5zd  
17.2  操作数 345 2p3u6\y  
18  如何在Function中编写脚本 351 se n{f^U  
18.1  简介 351 wh7a|  
18.2  什么是脚本? 351 tls6rto  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ,5<`+w#a  
18.4  基础 352 C(t6;&H  
18.4.1  Classes(类别) 352 }_kI>  
18.4.2  对象 352 602eLV)  
18.4.3  信息(Messages) 352 {ZsWZJ!  
18.4.4  属性 352 $jeDVH  
18.4.5  方法 353 Zs$RKJ7  
18.4.6  变量声明 353 P=sK+}5`q  
18.5  创建对象 354 6dS1\Y  
18.5.1  创建对象函数 355 b1,T!xL  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 oIL+@}u7  
18.5.3 丢弃对象 356 $Z7|t  
18.5.4  总结 356 +} !F(c  
18.6  脚本中的表格 357 zWmo OnK  
18.6.1  方法1 357 l3pW{p  
18.6.2  方法2 357 q=0{E0@9({  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Yq hz(&*)  
18.8 3D Plots in Scripts 359 g 2 { ?EP  
18.9  注释 360 HH~  du  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 N13;hB<  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^a#&wW  
18.12  <esc>键 364 jQ\ MB  
18.13 包含文件 365 8.Own=G?  
18.14  脚本被优化调用 366 zRJKIm  
18.15  脚本中的对话框 368 hIO4%RQj_  
18.15.1  介绍 368 *6x^w%=A  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 FiU;>t<)  
18.15.3  输入框函数 370 v"('_!  
18.15.4  自定义对话框 371 d>"$^${  
18.15.5  对话框编辑器 371 ~lalc ^  
18.15.6  控制对话框 377 !lN a`  
18.15.7  更高级的对话框 380 g d}TTe  
18.16 Types语句 384 >A(?Pn{|a  
18.17 打开文件 385 rPGE-d3  
18.18 Bags 387 L z>{FOR  
18.13  进一步研究 388 `~+a=Q  
19  vStack 389 .6Lhy3x  
19.1  vStack基本原理 389 ttq< )4  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 #z^1)7  
19.3  五棱镜 393 JX@6Sg<  
19.4 光束距离 396 'S D|ObBY  
19.5 误差 399 A&lgiR*ObT  
19.6  二向分色棱镜 399 09;'z  
19.7  偏振泄漏 404 F-7b`cF9[r  
19.8  波前误差—相位 405 8 8 =c3^  
19.9  其它计算参数 405 H- qP>:  
20  报表生成器 406 |&RX>UW$W  
20.1  入门 406 KRR^?  
20.2  指令(Instructions) 406 ~Ow23N  
20.3  页面布局指令 406 AFB 7s z  
20.4  常见的参数图和三维图 407 *0@; kD=  
20.5  表格中的常见参数 408 A8Z?[,Mq!  
20.6  迭代指令 408 E?h2e~ ,]  
20.7  报表模版 408 ,, #rv-*  
20.8  开始设计一个报表模版 409 lGHu@(n<  
21  一个新的project 413 H6\ x.J^,  
21.1  创建一个新Job 414 -5_xI)i  
21.2  默认设计 415 TN@JPoH  
21.3  薄膜设计 416 pW^ ?g|_}  
21.4  误差的灵敏度计算 420 M j%|'dZz  
21.5  显色指数计算 422 H{Y=&#%d  
21.6  电场分布 424 #\ S$$gP  
后记 426 -L50kk>h  
Jq<`j<'9  
~0r.3KTl"Y  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 j{-7Pf8A  
L.%~?T[F  
《Essential Macleod中文手册》
-j=&J8Za  
Csm!\ I  
目  录 {)gd|JV*  
OQ&D?2r  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 DMZ aMY|  
第1章 介绍 ..........................................................1 n*4X/K  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 )MW}!U9G  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 c7Qa !w  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 A*U'SCg(G  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 k:@Ls  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @ZPTf>J}  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 D!T4k]^  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 9Kx:^~}20o  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 jh](s U  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 v.v%k2;  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 :#htOsP  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 Vd>.fb\U2  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 eo52X &I  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 p[cL# fBz  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 yrNc[kS/  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 zXU{p\;)\  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ;fME4Sp  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 s1$#G!'  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 qFChZ+3>  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 'wnY>hN  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ^o\p|f>f  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 n}'.6  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 LA%al @  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 z\d2T%^:g(  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 .eXA.9 |jm  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Tv)y }  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311  n(xlad  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =usDI<3r  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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