线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1285
时间地点 LU+}iA)  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 L`"V_ "Q#0  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 % \Mc6  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 hY|-l%2f  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /&zlC{:G92  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
VI?kbq jo  
特邀专家介绍 8+8L'Yv;  
XUTsW,WC  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ^SW0+O  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 5jHr?C  
课程概要 'Ej+Jczzpp  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ;3+_aoY  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 0N_u6*@  
课程大纲 5TLE%#G@+  
1. Essential Macleod软件介绍 3(_:"?xA  
1.1 介绍软件 z[0tM&pv  
1.2 创建一个简单的设计 <aY>fg d/1  
1.3 绘图和制表来表示性能 k zC4V  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 >~L0M  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) .H Pa\b\L>  
1.6 特定设计的公式技术 \Yh*ywwP#  
1.7 交互式绘图 nxe9^h7m  
2. 光学薄膜理论基础 ':]Hj8t_  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 `@8O|j  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 +NVXFjPC  
3. 材料管理 RM>A9nv$\  
3.1 材料模型  vPAL,  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 I!T=$Um  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 g-4ab|F  
3.4 基板光学常数的提取 12tk$FcY8*  
4. 光学薄膜设计优化方法 W#\{[o  
4.1 参考波长与g v1=N?8Hz1  
4.2 四分之一规则 4<Kxo\\S  
4.3 导纳与导纳图 b(t8TR#-  
4.4 斜入射光学导纳 ;9' ] na  
4.5 光学薄膜设计的进展 sK8sxy  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 `x;m@\R  
4.6.1 优化目标设置 dnkHx  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) _%(.OR  
4.6.3 膜层锁定和链接 o $'K}U  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 g @NwW&  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 _} K3}}  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 C$4{'J-ZH  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 pUa\YO1J  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 c-U]3`;Q  
5.5 如何在Function中编写脚本 ~RV"_8`V9  
6. 光学薄膜系统案例 z>)lp$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 oWEzzMRz  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等  /#zs  
6.3 Stack应用范例说明 Y$s4 *)%  
7. 薄膜性能分析 dFmpx%+p  
7.1 电场分布 ,P=.x%  
7.2 公差与灵敏度分析 ?} lqu7S  
7.3 反演工程 ,.0B0Y-X  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 pl/ek0QX  
8. 真空技术 tJA"BP3f  
8.1 常用真空泵介绍 O`T_'.Lk  
8.2 真空密封和检漏 |XV`A)=f  
9. 薄膜制备技术 t<"%m)J  
9.1 常见薄膜制备技术 I@TH^8(  
10. 薄膜制备工艺 }$LnjwM;,  
10.1 薄膜制备工艺因素 {7%(m|(  
10.2 薄膜均匀性修正技术 0[ (kFe  
10.3 光学薄膜监控技术 tJmy}.t1  
11. 激光薄膜 n%Oq"`w4  
11.1 薄膜的损伤问题 M*D@zb0ia  
11.2 激光薄膜的制备流程 )Br#R:#  
11.3 激光薄膜的制备技术 gw^W6v  
12. 光学薄膜特性测量 8fktk?|  
12.1 薄膜光谱测量 2#N?WlYw<S  
12.2 薄膜光学常数测量 dx+xs&  
12.3 薄膜应力测量 `G%h=rr^c  
12.4 薄膜损伤测量 !M(SEIc4A  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 JP^\   
Ao#bREm  
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AnK X4Q  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
Wevd6)\  
内容简介 \fp'=&tp~a  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #^(Yw|/K  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 sE ^YOT<  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0.2stBw  
xzOn[.Fi  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
]c bXI  
目录 "c.-`1,t  
Preface 1 ;aD?BD__Z  
内容简介 2 Pq@ -`sw  
目录 i GVfRy@7n  
1  引言 1 VTY #{  
2  光学薄膜基础 2 &Pc.[k  
2.1  一般规则 2 Yq4nmr4  
2.2  正交入射规则 3 T Qx<lw  
2.3  斜入射规则 6 ?*ZQ:jH  
2.4  精确计算 7 3Tp8t6*nL  
2.5  相干性 8 *`LrvE@t  
2.6 参考文献 10 Mpco8b-b  
3  Essential Macleod的快速预览 10 \v$zU  
4  Essential Macleod的特点 32 +KWO`WR  
4.1  容量和局限性 33 C6h[L  
4.2  程序在哪里? 33 oOaLD{g>  
4.3  数据文件 35 D7m uf  
4.4  设计规则 35 @(+\*]?^&  
4.5  材料数据库和资料库 37 d_ x jW  
4.5.1材料损失 38 3to!C"~\K-  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 J3e'?3w[  
4.5.2 材料库 41 ,Q.[Lc=w  
4.5.3导出材料数据 43 '-Oh$hqCx|  
4.6  常用单位 43 VJl0UM3{J  
4.7  插值和外推法 46 f( 5; Rf(  
4.8  材料数据的平滑 50 k8@bQ"#b  
4.9 更多光学常数模型 54 jbUg?4k!  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Zg0nsNA   
4.11 撤销和重做 56 `^ a:1^  
4.12  设计文档 57 #p]V?  
4.10.1  公式 58 XB B>"  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *YGj^+   
4.10.3  沉积密度 59 :$gs7<z{rm  
4.10.4 平行和楔形介质 60 7G*rxn"d  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 W~a|AU8]C  
4.10.4  性能 61 wy{ sS}  
4.10.5  保存设计和性能 64 XsDZ<j%x89  
4.10.6  默认设计 64 B9$pG  
4.11  图表 64 f9 :=6  
4.11.1  合并曲线图 67 ~b0l?P*Ff  
4.11.2  自适应绘制 68 vK+!m~kDu  
4.11.3  动态绘图 68 }2:q#}"  
4.11.4  3D绘图 69 7FD,TJs  
4.12  导入和导出 73 G l2WbY  
4.12.1  剪贴板 73 e@S$[,8  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 !&3"($-U3G  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 b\zq,0%  
4.13  背景 77 J!G92A~*]  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Fy!s$!\C0  
4.15  生成Rugate 84 +nim47  
4.16  参考文献 91 ,?IXfJ`c  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ld):Am}/o  
5.1  Jobs 92 {K}Dpy  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 qh&q <M  
5.3  输入材料 94 [*I7^h%  
5.4  设计数据文件夹 95 "%S-(ue:  
5.5  默认设计 95 g1_z=(i`Z  
6  细化和合成 97 a/H5Y,b>  
6.1  优化介绍 97 5wE6gRJ  
6.2  细化 (Refinement) 98 J><hrZ  
6.3  合成 (Synthesis) 100 g& f)WQ(  
6.4  目标和评价函数 101 }NRt:JC  
6.4.1  目标输入 102 ;l<Hen*  
6.4.2  目标 103 0pl'*r*9  
6.4.3  特殊的评价函数 104 .j"heYF)  
6.5  层锁定和连接 104 +JY8"a97>  
6.6  细化技术 104 !0|&f>y  
6.6.1  单纯形 105 u,}>I%21  
6.6.1.1 单纯形参数 106 -nX{&Z3-s  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 g>eWX*Pa|  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $}5M`p\&C  
6.6.3  模拟退火算法 109 xDSiTp=)O  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 $uUyp8F  
6.6.4  共轭梯度 111 E[=&6T4  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Xc^(e?L4  
6.6.5  拟牛顿法 112 U3v~R4  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "LW\osjen  
6.6.6  针合成 113 zV;NRf) 9.  
6.6.6.1 针合成参数 114 V$;`#J$\b  
6.6.7 差分进化 114 w40*vBz  
6.6.8非局部细化 115 W<[7LdAB  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Ol<LL#<j4  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 H4{7,n  
6.7.1  细化 116 GukwN]*OY  
6.7.2  合成 117 B}* \ pdJ  
6.8  参考文献 117 z|Xt'?9&n  
7  导纳图及其他工具 118 N1'Yo:_A  
7.1  简介 118 I")Ud?v0)  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 QwF.c28[  
7.2.1  四分之一波长规则 119 q$IU!I4  
7.2.2  导纳图 120 x^Qij!mB%  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 u:J4Az^!  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ^h#A7 g  
7.5  斜入射导纳图 141 J p%J02  
7.6  对称周期 141  2t  
7.7  参考文献 142 wN6sica|  
8  典型的镀膜实例 143 9ao?\]&t  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ~x_(v,NW  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 E5c)\ D  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 }g%&}`%'  
8.4  W-膜层 148 9o6qN1A0g  
8.5  V-膜层 149 XRyeEwA;pp  
8.6  V-膜层高折射基底 150 KBI 1t$  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 %?qzP '  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W=|'&UU Ul  
8.9  四层抗反射薄膜 153 QV*la=j/  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 CUjRz5L  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ,'l.u?SKyd  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 U~c9PqjZ  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 YY'[PXP$Y  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 NA/Sv"7om  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 /^&$ma\  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 >Yv#t.!  
8.17  1/4波长堆栈 162 ,5K&f\  
8.18  陷波滤波器 163 =FFs8&PKys  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 V2tA!II-s  
8.20  褶皱 165 ilQ\+xR{b  
8.21  消偏振分光器1 169 c]z^(:_>  
8.22  消偏振分光器2 171  wJvk  
8.23  消偏振立体分光器 172 @ e7_&EGR?  
8.24  消偏振截止滤光片 173 R\$6_  
8.25  立体偏振分束器1 174 HJ!)&xT  
8.26  立方偏振分束器2 177 I9U 8@e!X  
8.27  相位延迟器 178 dPgA~~  
8.28  红外截止器 179 gK dNgU  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Gt!Hm(  
8.30  49层长波带通滤波器 181 lb"T'} q  
8.31  55层短波带通滤波器 182 .Dr7YquW  
8.32  47 红外截止器 183 )_kEy>YscZ  
8.33  宽带通滤波器 184 *t={9h  
8.34  诱导透射滤波器 186 H-X5A\\5  
8.35  诱导透射滤波器2 188 >S?7-2X  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Ox'K C  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 eMH\]A~v"  
8.35  增益平坦滤波器 193 15DlD`QV  
8.38  啁啾反射镜 1 196 o i~,}E_  
8.39  啁啾反射镜2 198 r&L1jT.  
8.40  啁啾反射镜3 199 ~i}/  
8.41  带保护层的铝膜层 200 H@k$sZ.  
8.42  增加铝反射率膜 201 Z@Qf0 c  
8.43  参考文献 202 ]7h;MR  
9  多层膜 204 PKs$Q=Ol<|  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 #`"B YFV[E  
9.2  内部透过率 204 , -Lv3  
9.3 内部透射率数据 205 uuCVI2|  
9.4  实例 206 $,T3vX]<  
9.5  实例2 210 V<REcII.  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ^$lsmF]^  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 er!+QD,EM  
10  光学薄膜的颜色 216 _&xkj8O  
10.1  导言 216 [|HQfTp$  
10.2  色彩 216 ):Ekf2  
10.3  主波长和纯度 220 &0-Pl.M  
10.4  色相和纯度 221 e9B$"_ &2  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 :!,.c $M  
10.6 色差 226 ['0^gN$:e  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 x1:1Jj:  
10.8  颜色渲染指数 234 B#4 J![BX  
10.9  色差计算 235 a+\s0Qo<  
10.10  参考文献 236 #8bI4J{dE  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Q@UY4gA '  
11.1  短脉冲 238 lx~mn~;x  
11.2  群速度 239 + V-&?E(  
11.3  群速度色散 241 <^8OYnp  
11.4  啁啾(chirped) 245 @;d7#!:cE  
11.5  光学薄膜—相变 245 Lismo#  
11.6  群延迟和延迟色散 246 sM%.=~AN  
11.7  色度色散 246 }HZ'i;~r|9  
11.8  色散补偿 249 /p@0Q [E  
11.9  空间光线偏移 256 VU|Cct&)  
11.10  参考文献 258 ^#2Y4[@  
12  公差与误差 260 %M05& <  
12.1  蒙特卡罗模型 260 11yS2D   
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 0'*'%Iga  
12.2.1  误差工具 267 t]pJt  
12.2.2  灵敏度工具 271 .ZH5^Sv$vp  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Xec U&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 mDU-;3OqF  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 TUVqQ\oF:  
12.3  参考文献 276 H*>5ne=x  
13  Runsheet 与Simulator 277 lnntb3q  
13.1  原理介绍 277 ~3m} EL  
13.2  截止滤光片设计 277 ymyk.#Z<%  
14  光学常数提取 289 gJBk&SDgtP  
14.1  介绍 289 ,[Z;"wE  
14.2  电介质薄膜 289 >(a/K2$*1  
14.3  n 和k 的提取工具 295 2E3x=  
14.4  基底的参数提取 302 q]t^6m&-  
14.5  金属的参数提取 306 .w]S!=h  
14.6  不正确的模型 306 C/pu]%n@4  
14.7  参考文献 311 .DHRPel  
15  反演工程 313 NW;wy;;  
15.1  随机性和系统性 313 Aaix? |XN  
15.2  常见的系统性问题 314 %|3UWN  
15.3  单层膜 314 &rxR"^x\  
15.4  多层膜 314 =").W\,  
15.5  含义 319 5($ '@u  
15.6  反演工程实例 319 \(ZOt.3!J  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 u8@>ThPD  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 cj/FqU"  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 @;z}Hk0A  
16.1  光学性质的热致偏移 329 \>-%OcYlM  
16.2  应力工具 335 \<A@Nf"  
16.3  均匀性误差 339 Z?-l-s K  
16.3.1  圆锥工具 339 Q}jl1dIq  
16.3.2  波前问题 341 KcjP39@I  
16.4  参考文献 343 uJ$!lyJ6L  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 u5FlT3hY.  
17.1  引言 345 ^UK6q2[  
17.2  操作数 345 nEm+cHHo?  
18  如何在Function中编写脚本 351 RA+k/2]y!  
18.1  简介 351 |bz,cvlP W  
18.2  什么是脚本? 351 WChJ <[]W  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 8~|PZ,oZ  
18.4  基础 352 P1ab2D  
18.4.1  Classes(类别) 352 4m6E~_:F  
18.4.2  对象 352 <tg>1,C  
18.4.3  信息(Messages) 352 u-. _;  
18.4.4  属性 352 u|D_"q~+6  
18.4.5  方法 353 rB:W\5~7  
18.4.6  变量声明 353 kSw.Q2ao  
18.5  创建对象 354 [nlW}1)46  
18.5.1  创建对象函数 355 |ldRs'c{  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 R@r"a&{/  
18.5.3 丢弃对象 356 `=Hh5;ep  
18.5.4  总结 356 O=St}B\!m  
18.6  脚本中的表格 357 #\$R^u]!  
18.6.1  方法1 357 xGeRoW(X  
18.6.2  方法2 357 pemb2HQ'4j  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ~$i36"  
18.8 3D Plots in Scripts 359 {e?D6`#x  
18.9  注释 360 b#^UP  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 jC<!Ny-$  
18.11  一个更高级的脚本 362 GKwm %A  
18.12  <esc>键 364 |L4K#  
18.13 包含文件 365 :WT O*M  
18.14  脚本被优化调用 366 /E@|  
18.15  脚本中的对话框 368 MI@id  
18.15.1  介绍 368 >_]j{}~\k  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 gX34'<Z  
18.15.3  输入框函数 370 [L,Tf_t^Y  
18.15.4  自定义对话框 371 P/?`  
18.15.5  对话框编辑器 371 s7<x~v+^  
18.15.6  控制对话框 377 F%x8y  
18.15.7  更高级的对话框 380 o+(.Pb  
18.16 Types语句 384 969*mcq'  
18.17 打开文件 385 T'l >$6  
18.18 Bags 387 @twClk.s  
18.13  进一步研究 388 +I7n6s\  
19  vStack 389 2mbZ6'p {  
19.1  vStack基本原理 389 V 3-5:z  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 FMuM:%&J]  
19.3  五棱镜 393 : \w\K:  
19.4 光束距离 396 w Maib3Q  
19.5 误差 399 ]w(i,iJ  
19.6  二向分色棱镜 399 2hl'mRW  
19.7  偏振泄漏 404 Uax- z  
19.8  波前误差—相位 405 >9(lFh0P  
19.9  其它计算参数 405 V7!x-E/  
20  报表生成器 406 *.AokY)_a  
20.1  入门 406 B8:_yAv o  
20.2  指令(Instructions) 406 <IGQBu#ZH  
20.3  页面布局指令 406 w9h\J#f  
20.4  常见的参数图和三维图 407 3ADT Yt".  
20.5  表格中的常见参数 408 HKCMKHR  
20.6  迭代指令 408 U&|=dH]-  
20.7  报表模版 408 b:Dr _|  
20.8  开始设计一个报表模版 409 2;NIUMAMM  
21  一个新的project 413 cTFyF)  
21.1  创建一个新Job 414 =m=`|Bn  
21.2  默认设计 415 Pm6/sO  
21.3  薄膜设计 416 6)kF!/J  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Bhl@\Kq  
21.5  显色指数计算 422 n0kBLn  
21.6  电场分布 424 74rz~ZM 5  
后记 426 Q_xE:#!;  
&)OX*y  
7$+n"Cfm  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 1K&z64Q5J  
q-3%.<LL  
《Essential Macleod中文手册》
K.n #;|  
Iu^# +n  
目  录 W~ XJ']e  
Sb+pB58&N  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 P}y}IR{6  
第1章 介绍 ..........................................................1 Slcf=  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 WaQCq0Enj  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Zi[@xG8dm  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 .0S.7w3dZo  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 cOth q87:  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 i=@.u=:  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 B0NKav  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 &Jv j@,>$d  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 $ckX H,l_  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 W`K XO|'p@  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 &aldnJ  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 9~bje^M  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 &F*s.gL  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 <7/_Vs)F0  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Glcl7f"<^  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 meT~b  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Id(o6j^J_  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 c 's=>-X  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 R$4&>VBu  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 7OYNH0EH  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 k5]s~* ,0  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 \1hbCv$Hf  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 [ /w{,+U  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 MQY^#N  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Q5b?- P  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 YA O, rh  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 kXA o+l  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 |\%[e@u  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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