线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1053
时间地点 g [L  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 +TX/g~  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 #93}E Y  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 j jY{Uq  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 &oN/_7y  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
n7iE8SK|k  
特邀专家介绍 [x_s/"Md;  
*zQOJsg"e  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 oyvtZ/@  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 h$&rE@N|  
课程概要 l2/ @<0P  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 *8-p7,D  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 qS]G&l6QF  
课程大纲 chLeq  
1. Essential Macleod软件介绍 !; WbOnLP  
1.1 介绍软件 SCq3Ds^  
1.2 创建一个简单的设计 NsmVddj  
1.3 绘图和制表来表示性能 lU$X4JBzS  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 2f{kBD  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) HD00J]y_   
1.6 特定设计的公式技术 W-Of[X{<  
1.7 交互式绘图 s`vSt* ]K  
2. 光学薄膜理论基础 U.Hdbmix  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 u}CG>^0C  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 f\'G`4e  
3. 材料管理 04\Ta  
3.1 材料模型 N cM3P G  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 =1Sy@MbH3  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ?N _)>&b  
3.4 基板光学常数的提取 vU 9ek:.l  
4. 光学薄膜设计优化方法 )@$ &FFIu  
4.1 参考波长与g n)CH^WHL&  
4.2 四分之一规则 &#,v_B)a_E  
4.3 导纳与导纳图 BvJ\x)  
4.4 斜入射光学导纳 ~2 Oc K  
4.5 光学薄膜设计的进展 k+txb?  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 3N3*`?5c<  
4.6.1 优化目标设置 ]ut?&&*  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) hXnw..0"  
4.6.3 膜层锁定和链接 y4r2}8fi  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 kaC+I"4c  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )|:8zDuJ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ck~ '`<7  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ir+8:./6  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Bxt_a.LthH  
5.5 如何在Function中编写脚本 Di])<V  
6. 光学薄膜系统案例 QpJ IDM/  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 5iv@@1c  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Xky@[Td*  
6.3 Stack应用范例说明 (xQI($Wq*M  
7. 薄膜性能分析 o{g@Nk'f  
7.1 电场分布 !|(Ao"]  
7.2 公差与灵敏度分析 ZR2\ dH*  
7.3 反演工程 QU%N*bFW%P  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 9JXhHAxD  
8. 真空技术 K"I{\/x@  
8.1 常用真空泵介绍 l`qP~ k#  
8.2 真空密封和检漏 ]%||KC!O  
9. 薄膜制备技术 Y` q!V=  
9.1 常见薄膜制备技术 xpz`))w  
10. 薄膜制备工艺 _rG-#BKW8L  
10.1 薄膜制备工艺因素 7s!AH yZ  
10.2 薄膜均匀性修正技术 WQTendS  
10.3 光学薄膜监控技术 A` =]RJ  
11. 激光薄膜 b sMC#xT  
11.1 薄膜的损伤问题 nE^wxtY  
11.2 激光薄膜的制备流程 Ho>p ^p  
11.3 激光薄膜的制备技术 ~6MMErSj  
12. 光学薄膜特性测量 iPz1eUj  
12.1 薄膜光谱测量 6\XP|n-0+0  
12.2 薄膜光学常数测量 37~rm  
12.3 薄膜应力测量 <BQ%8}  
12.4 薄膜损伤测量 z 3Zu C{  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 G1A$PR  
-z&9 DWH  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
A?\h|u<  
内容简介 "3v7gtGG  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 .5Q5\qc=  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 & 8zk3  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 XpOCQyFnM  
l#mtND3  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ADTU{6UPS  
目录 =SA 4\/  
Preface 1 +V6j`  
内容简介 2 Cx$9#3\  
目录 i $B*qNYpPy.  
1  引言 1 EWSr@}2j .  
2  光学薄膜基础 2 YHJ'  
2.1  一般规则 2 LZbRQ"!!o  
2.2  正交入射规则 3 zj%cd;  
2.3  斜入射规则 6 69N1 mP  
2.4  精确计算 7 pn+D@x#IA  
2.5  相干性 8 }`#j;H$i  
2.6 参考文献 10 Qh/lT$g  
3  Essential Macleod的快速预览 10 :m)c[q8  
4  Essential Macleod的特点 32 X5|?/aR}  
4.1  容量和局限性 33 K,Lr +  
4.2  程序在哪里? 33 R%Kl&c  
4.3  数据文件 35 !d/`[9jY  
4.4  设计规则 35 KwY`<t1lA;  
4.5  材料数据库和资料库 37 [ e$]pN%  
4.5.1材料损失 38 G1,Ro1  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ( ?atGFgu  
4.5.2 材料库 41 Q,ZkeWQ7%  
4.5.3导出材料数据 43 9 Wxq)  
4.6  常用单位 43 4mki&\lw`  
4.7  插值和外推法 46 AviT+^7E  
4.8  材料数据的平滑 50 T@2f&Un^  
4.9 更多光学常数模型 54 ^Z#<tN;  
4.10  文档的一般编辑规则 55 SZNFE  
4.11 撤销和重做 56 3 t~X:  
4.12  设计文档 57 pIk4V/ fy  
4.10.1  公式 58 s9^"wN YQ  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 T[`QO`\5O  
4.10.3  沉积密度 59 0;. e#(`-  
4.10.4 平行和楔形介质 60 aMe%#cLI  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 PGC07U:B  
4.10.4  性能 61 Yk(NZ3O  
4.10.5  保存设计和性能 64 K+(m'3`  
4.10.6  默认设计 64 y}s 0J K  
4.11  图表 64 eW<!^Aer  
4.11.1  合并曲线图 67 0tn7Rkiw  
4.11.2  自适应绘制 68 !H2C9l:rd  
4.11.3  动态绘图 68 \Qe'?LRu{  
4.11.4  3D绘图 69 !&W"f#_Z  
4.12  导入和导出 73 uOy\{5s8  
4.12.1  剪贴板 73 1 8l~4"|fk  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 pP=_@ 3 D  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 U`},)$  
4.13  背景 77 C`=`Ce~|d  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (cbB %  
4.15  生成Rugate 84 O% j,:t'"  
4.16  参考文献 91 rElG7[+)p  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 P7M0Ce~iW  
5.1  Jobs 92 7!]k#|u  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 hfVzzVX:  
5.3  输入材料 94 6EW"8RG`  
5.4  设计数据文件夹 95 p;)klH@X  
5.5  默认设计 95 9}7oKlyk  
6  细化和合成 97 cHfK-R  
6.1  优化介绍 97 Y+S~b  
6.2  细化 (Refinement) 98 = m!!  
6.3  合成 (Synthesis) 100 XF0*d~4  
6.4  目标和评价函数 101 GcU(:V2o  
6.4.1  目标输入 102 .>cL/KaP  
6.4.2  目标 103 lUm}nsp=X  
6.4.3  特殊的评价函数 104 [xH2n\7  
6.5  层锁定和连接 104 u!156X?[eU  
6.6  细化技术 104 pw(*X,gj  
6.6.1  单纯形 105 5wVi{P5+  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Av\ 0GqF  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 f]^J,L9qz  
6.6.2.1 Optimac参数 108 cfF-e93T  
6.6.3  模拟退火算法 109 J@&$U7t  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 8DmX4*  
6.6.4  共轭梯度 111 #&HarBxx  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 lVO(9sl*i  
6.6.5  拟牛顿法 112 YjMbd?v  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 DXw9@b  
6.6.6  针合成 113 2gNBPd)I  
6.6.6.1 针合成参数 114 S a#d?:L  
6.6.7 差分进化 114 `OF g.R|  
6.6.8非局部细化 115 h_}BmJh_  
6.6.8.1非局部细化参数 115 c9F[pfi(  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 WHh2fN'A5  
6.7.1  细化 116 wN%DM)*k  
6.7.2  合成 117 _@}MGWlAPt  
6.8  参考文献 117 U~QCN[gh  
7  导纳图及其他工具 118 5#A1u Nb  
7.1  简介 118 E,nYtn|B  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 xHR+((  
7.2.1  四分之一波长规则 119  \1c`)  
7.2.2  导纳图 120 i(TDJ@}  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 A1&>L9nUx  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 1+y6W1m^R  
7.5  斜入射导纳图 141 )l81R  
7.6  对称周期 141 b&_u O  
7.7  参考文献 142 )QJU ]G  
8  典型的镀膜实例 143 "!4>gg3r  
8.1  单层抗反射薄膜 145 AF{7<v>/P  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 e&VR>VJEA  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 _s#/f5<:B  
8.4  W-膜层 148 B3k],k  
8.5  V-膜层 149 AfbA.-  
8.6  V-膜层高折射基底 150 y*TNJJ|  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 L@x8hUG"  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 sfBjA  
8.9  四层抗反射薄膜 153 E6d8z=X(  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Y+5A2Z)f[  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 `W;cft4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 GF,|;)ly  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ($ 1<Dj:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 [Z`:1_^0}  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 77[;J  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 d$C|hT  
8.17  1/4波长堆栈 162 ;),O*Z|"v  
8.18  陷波滤波器 163 0jx~_zq-j  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 OrqJo!FEg{  
8.20  褶皱 165 8f`b=r(a>  
8.21  消偏振分光器1 169 %l$&_xV-  
8.22  消偏振分光器2 171 , $F0D  
8.23  消偏振立体分光器 172 DWevg;_]$(  
8.24  消偏振截止滤光片 173 )*AA9   
8.25  立体偏振分束器1 174 >[3,qP]E  
8.26  立方偏振分束器2 177 UHDI9>G~,  
8.27  相位延迟器 178 ,h(+\^ ?,  
8.28  红外截止器 179 U=<.P;+f9  
8.29  21层长波带通滤波器 180 uL{~(?U$  
8.30  49层长波带通滤波器 181 |$-d, ] V  
8.31  55层短波带通滤波器 182 F/,<dNJ  
8.32  47 红外截止器 183 ur quVb  
8.33  宽带通滤波器 184 :FgRe,D  
8.34  诱导透射滤波器 186 >"My\o  
8.35  诱导透射滤波器2 188 &JQ@(w  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ;w&yGm  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 /xbF1@XtL  
8.35  增益平坦滤波器 193 xbC- ueEj  
8.38  啁啾反射镜 1 196 .KMi)1L)  
8.39  啁啾反射镜2 198 ;{C{V{  
8.40  啁啾反射镜3 199 ,(Hmk(,  
8.41  带保护层的铝膜层 200 blkJm9]v  
8.42  增加铝反射率膜 201 0Y`tj  
8.43  参考文献 202 VX@G}3Ck  
9  多层膜 204 "+ JwS  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 hb\Y)HSp/  
9.2  内部透过率 204 bB :X<  
9.3 内部透射率数据 205 7 QJcRZ[lU  
9.4  实例 206 ] ,aAzjZ  
9.5  实例2 210 z7}zf@Y-qv  
9.6  圆锥和带宽计算 212 +g7nM7,1a  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 wg~`Md  
10  光学薄膜的颜色 216 0\<-R  
10.1  导言 216  s !vROJ  
10.2  色彩 216 YxqQg  
10.3  主波长和纯度 220 L/+J|_J)  
10.4  色相和纯度 221 g#2X'%&+  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 w+(wvNmNEK  
10.6 色差 226 s7.*o@G  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 5K-)X9z?  
10.8  颜色渲染指数 234 (dt_ D  
10.9  色差计算 235 =}KbE4D+8  
10.10  参考文献 236 %{_ YJXpO  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 xa*gQ%+F  
11.1  短脉冲 238 ti2_kYq  
11.2  群速度 239 "8 mulE,  
11.3  群速度色散 241 >^ar$T;Ys  
11.4  啁啾(chirped) 245 *w,gi.Y3  
11.5  光学薄膜—相变 245 TmZ[?IL,  
11.6  群延迟和延迟色散 246 beR)8sC3q  
11.7  色度色散 246 U: jf9L2  
11.8  色散补偿 249 vj$ 6  
11.9  空间光线偏移 256 N9|.D.#MF  
11.10  参考文献 258 w[G_w:$a  
12  公差与误差 260 vaZZzv{H  
12.1  蒙特卡罗模型 260 {4q:4 i  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 0>MI*fnY"  
12.2.1  误差工具 267 Bb"4^EOZ,  
12.2.2  灵敏度工具 271 F7l:*r,O  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?C2;:ol  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 j]D =\  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 !QspmCo+  
12.3  参考文献 276 jch8d(`?d  
13  Runsheet 与Simulator 277 <%7 V`,*g/  
13.1  原理介绍 277 /~5YTe( F  
13.2  截止滤光片设计 277 W A}@n  
14  光学常数提取 289 <BA&S _=4  
14.1  介绍 289 ,LO-!\L  
14.2  电介质薄膜 289 D.!7jA#  
14.3  n 和k 的提取工具 295 y ]%,Y=%X  
14.4  基底的参数提取 302 % "^XxVJ*  
14.5  金属的参数提取 306 W-QPO  
14.6  不正确的模型 306 3:#rFb  
14.7  参考文献 311 .)zISa*Xy  
15  反演工程 313 !c($C   
15.1  随机性和系统性 313 p00AcUTq  
15.2  常见的系统性问题 314 =lD]sk  
15.3  单层膜 314 (W!$6+GT  
15.4  多层膜 314 <]^D({`  
15.5  含义 319 loe>"_`Cq  
15.6  反演工程实例 319 R  |%  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 *b_54X%3  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 jsQ$.)nO  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 :L0W"$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 `0D1Nh"%k  
16.2  应力工具 335 /vMyf),2  
16.3  均匀性误差 339 fC|u  
16.3.1  圆锥工具 339 GA}^Rh`T-  
16.3.2  波前问题 341 _AbEQ\P{  
16.4  参考文献 343 $ '*BS  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 +cH(nZ*f  
17.1  引言 345 2GzpWV(  
17.2  操作数 345 j@!}r|-T  
18  如何在Function中编写脚本 351 <z)G& h@  
18.1  简介 351 D.`\ ^a  
18.2  什么是脚本? 351 j56 An6g  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ulM&kw.4i  
18.4  基础 352 ,2bAKa  
18.4.1  Classes(类别) 352 %Ege^4PE  
18.4.2  对象 352 |hoZ:  
18.4.3  信息(Messages) 352 :5J6rj;_  
18.4.4  属性 352 eov-"SJB  
18.4.5  方法 353 NkI:  
18.4.6  变量声明 353 I9>*Yy5RNS  
18.5  创建对象 354 T_T{c+,Zd$  
18.5.1  创建对象函数 355 p> S/6 [X  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ,eCXT=6  
18.5.3 丢弃对象 356 t7FQ.E,T  
18.5.4  总结 356 x~eEaD5m%J  
18.6  脚本中的表格 357 SI5QdX  
18.6.1  方法1 357 >,Z{wxz J  
18.6.2  方法2 357 aM!#  
18.7 2D Plots in Scripts 358 gw T,D.'Ut  
18.8 3D Plots in Scripts 359 qw1J{xoHW  
18.9  注释 360 2s%M,Nb  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 !*6z=:J  
18.11  一个更高级的脚本 362 \ 6 a  
18.12  <esc>键 364 P.DWC'IBN  
18.13 包含文件 365 v19`7qgR(  
18.14  脚本被优化调用 366 l.l~K%P'h  
18.15  脚本中的对话框 368  H>6;I  
18.15.1  介绍 368 Lm#d.AD)  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Xs@ ^D,  
18.15.3  输入框函数 370 pr(\?\a  
18.15.4  自定义对话框 371 a*y mBGF  
18.15.5  对话框编辑器 371 g1 ,  
18.15.6  控制对话框 377 %WR"85  
18.15.7  更高级的对话框 380 ]5/U}Um  
18.16 Types语句 384 Ms)zEy>[Ql  
18.17 打开文件 385 BwD1}1jp  
18.18 Bags 387 \-ws[  
18.13  进一步研究 388 <t{AY^:r  
19  vStack 389 H%aLkV!J  
19.1  vStack基本原理 389 n4y6Ua9m{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 wkA!Jv%  
19.3  五棱镜 393 HH@xn d  
19.4 光束距离 396 }j*/>m  
19.5 误差 399 ped Yf{T  
19.6  二向分色棱镜 399 +Ob#3PRy  
19.7  偏振泄漏 404 tC-KW~&  
19.8  波前误差—相位 405 k|'Mh0G0  
19.9  其它计算参数 405 [)vwg`]   
20  报表生成器 406 ~1sl.8tF  
20.1  入门 406 *?Ef}:]  
20.2  指令(Instructions) 406 RQNi&zX/  
20.3  页面布局指令 406 % 6.jh#C  
20.4  常见的参数图和三维图 407 rF3]AW(  
20.5  表格中的常见参数 408 tta0sJ8 i  
20.6  迭代指令 408 Nn1^#kc  
20.7  报表模版 408 DNBpIC5&6  
20.8  开始设计一个报表模版 409 N\p]+[6  
21  一个新的project 413 Wb4{*~  
21.1  创建一个新Job 414 9Ib(x0_  
21.2  默认设计 415 w{EU9C  
21.3  薄膜设计 416 N~_jiVD>  
21.4  误差的灵敏度计算 420 1[9j`~[([  
21.5  显色指数计算 422 Nj&%xe>].  
21.6  电场分布 424 ld:alEo  
后记 426 z ]N~_9w  
KXCmCn  
G>>u#>0  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 V_622~Tc/[  
w1(06A}/  
《Essential Macleod中文手册》
}h h^U^ia  
_rdj,F8  
目  录 _5 tqO5'  
[iy;}5XK  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Ab<Ok\e5  
第1章 介绍 ..........................................................1 Jd"s~n<>K  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 q'@Ei4  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 wD^do  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 X`QW(rq  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ! H=k7s  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 >1I2R/'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 HKN"$(Q  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Z1&GtM  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 CVG>[~}(9'  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 E?4@C"Na  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 13_~)V  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 k&iScMgCTH  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 `G0rF\[  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 &dDI*v+  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 7P^{*!  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 @EOR] ^?!]  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 e0WSHg=6@  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 6cT~irP  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 x$ J.SbW  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 L(2P|{C  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 b_gN?F7_  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ;Pqyu ?  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 7h#faOP  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 S*m`'  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 JBEgiQ/  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 AKC foJ  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Etc?;Z[F#  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 bZay/ Zkj  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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