线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:885
时间地点 L]|[AyNu  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 f6-OR]R5  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 0]^ke:(#  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 6 P6Pl&  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 %N }0,a0  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
F8%.-.l)  
特邀专家介绍 7Eett)4  
u!WjG@  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 exQU  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 1'>wrGr  
课程概要 b )mU9   
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 r @ IyK%  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ct#3*]  
课程大纲 w-M,@[G  
1. Essential Macleod软件介绍 h1`u-tc2x  
1.1 介绍软件 }Kc03Ue`%e  
1.2 创建一个简单的设计 mUW4d3tE  
1.3 绘图和制表来表示性能 JVgV,4 1  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 @z!|HLD+  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) kX)Xo`^Ys  
1.6 特定设计的公式技术 C:WXI;*cr  
1.7 交互式绘图 b/eJEL  
2. 光学薄膜理论基础 5bKm)|4z6  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 :yTpjC-S]  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ggn:DE "  
3. 材料管理 bW9a_myE  
3.1 材料模型 OcWzo#q4[  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 7 P$>T  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Ckc4U. t|  
3.4 基板光学常数的提取 =6N%;2`84  
4. 光学薄膜设计优化方法 HMymoh$Q  
4.1 参考波长与g =5jng.  
4.2 四分之一规则 "}(g3Iy  
4.3 导纳与导纳图 (dh{Gk4=+  
4.4 斜入射光学导纳 .+ w#n<  
4.5 光学薄膜设计的进展 eJ3w}"?9s  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 %kRQ9I".  
4.6.1 优化目标设置 KPcOW#.T  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) %3r`EIB6  
4.6.3 膜层锁定和链接 t kJw}W1@  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 nA#FGfZ{Ge  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 z[q#Dw  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 <:rbK9MIl  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ~ojH$=K>d  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 QmpP_eS >  
5.5 如何在Function中编写脚本 0$~zeG"  
6. 光学薄膜系统案例 XpLK0YI  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 X pH]CF  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 MvLmEmKb}\  
6.3 Stack应用范例说明 p*_^JU(<p  
7. 薄膜性能分析 >)sB# <e  
7.1 电场分布 Xj^Hy"HC^~  
7.2 公差与灵敏度分析 `?fY!5BA  
7.3 反演工程 3{wmKo|_X  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 <lBY  
8. 真空技术 ?Thh7#7LM  
8.1 常用真空泵介绍 mjwh40x.o  
8.2 真空密封和检漏 6/Pw'4H9$  
9. 薄膜制备技术 iksd^\]f  
9.1 常见薄膜制备技术 N^{"k,vB-  
10. 薄膜制备工艺 QX]~|?q  
10.1 薄膜制备工艺因素 ,'E+f%  
10.2 薄膜均匀性修正技术 5w# Ceg9  
10.3 光学薄膜监控技术 sfv{z!mo  
11. 激光薄膜 7vRFF@eq}  
11.1 薄膜的损伤问题 E mUA38  
11.2 激光薄膜的制备流程 ,1}c% C*,Q  
11.3 激光薄膜的制备技术 <]jKpJ{3N  
12. 光学薄膜特性测量 bh9!OqK9K  
12.1 薄膜光谱测量 aWe?n;  
12.2 薄膜光学常数测量 ^HYrJr$y  
12.3 薄膜应力测量 0pYCh$TL1  
12.4 薄膜损伤测量 ># {,(8\  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 (H\)BS7#R  
S8 {Sb>  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
'k?%39  
内容简介 \,b@^W6e>  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 )9.i'{{ 0  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。  t dl Y  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 'D B4po.   
u0)~Im,X  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
/:YJ2AARY  
目录 nMniHB'  
Preface 1 mkR1iY  
内容简介 2 <K$X>&Ts  
目录 i HR/"Nwr  
1  引言 1 :2qUel\PEC  
2  光学薄膜基础 2 $!(J4v=X  
2.1  一般规则 2 b?p_mQKtZ  
2.2  正交入射规则 3 w}OJ2^  
2.3  斜入射规则 6 *5\k1-$  
2.4  精确计算 7 V8aLPJ0_  
2.5  相干性 8 NaR/IsN8%  
2.6 参考文献 10 dFu<h   
3  Essential Macleod的快速预览 10 qB`-[A9HPe  
4  Essential Macleod的特点 32 C;u8qVI  
4.1  容量和局限性 33 L=7 U#Q/DE  
4.2  程序在哪里? 33 F)W7,^=X>-  
4.3  数据文件 35 J73B$0FP  
4.4  设计规则 35 % |6t\[gn  
4.5  材料数据库和资料库 37 yEaim~  
4.5.1材料损失 38 Ly?%RmHK  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 9rB,7%@EL  
4.5.2 材料库 41 +x7b9sHJ  
4.5.3导出材料数据 43 -FAAP&LG  
4.6  常用单位 43 @Gh?|d7bD  
4.7  插值和外推法 46 O3?3XB> <  
4.8  材料数据的平滑 50 "kE$2Kg  
4.9 更多光学常数模型 54 IEx`W;V]K  
4.10  文档的一般编辑规则 55 (-RZ|VdYg  
4.11 撤销和重做 56 5pOb;ry")`  
4.12  设计文档 57 .=j]PckJO  
4.10.1  公式 58 0I8w'/s_g9  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @AXRKYQ{t  
4.10.3  沉积密度 59 w3l+BUn:X  
4.10.4 平行和楔形介质 60 J?yNZK$WqN  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 f{b$Y3  
4.10.4  性能 61 [r_YQ*+ej  
4.10.5  保存设计和性能 64 ~f.fg@v`+v  
4.10.6  默认设计 64 DNP %]{J  
4.11  图表 64 <.DFa/G   
4.11.1  合并曲线图 67 wkO8  
4.11.2  自适应绘制 68 -P+@n)?T6  
4.11.3  动态绘图 68 .,)C^hs@  
4.11.4  3D绘图 69 Ur`jmB  
4.12  导入和导出 73 F__(iXxC  
4.12.1  剪贴板 73 Fq]ht*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 'nK(cKDIG  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ICJp-  
4.13  背景 77 JGJXV3AT  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 W[5a'}OV  
4.15  生成Rugate 84 _I("k:E7  
4.16  参考文献 91 6#,VnS)`q  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 n9Mi?#xIp  
5.1  Jobs 92 =~)J:x\F  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ,rvw E  
5.3  输入材料 94 X3C"A|HE9  
5.4  设计数据文件夹 95 &rTOJ 1)V}  
5.5  默认设计 95 Z!@<[Vo6  
6  细化和合成 97 J>I.|@W4  
6.1  优化介绍 97 R]0p L   
6.2  细化 (Refinement) 98 i.eu$~F  
6.3  合成 (Synthesis) 100 -~nU&$ccL  
6.4  目标和评价函数 101 C*;g!~{  
6.4.1  目标输入 102 . 6wyu7oK  
6.4.2  目标 103 P1<Y7 +n  
6.4.3  特殊的评价函数 104 a(+.rf;  
6.5  层锁定和连接 104 P/BWFN1  
6.6  细化技术 104 8"d0Su4r  
6.6.1  单纯形 105 eYQq@lrWv  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ^E)Kse.>  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 s Zan.Kc#  
6.6.2.1 Optimac参数 108  _\H MF  
6.6.3  模拟退火算法 109 z9@Tg= #i  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 sh $mOy  
6.6.4  共轭梯度 111 J! ;g.q  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 7pB5o2CD0  
6.6.5  拟牛顿法 112 :Hk:Goo2  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 =j%B`cJ66_  
6.6.6  针合成 113 8hx4s(1!  
6.6.6.1 针合成参数 114 orGNza"A  
6.6.7 差分进化 114 =")}wl=s  
6.6.8非局部细化 115 LX%K*nlj  
6.6.8.1非局部细化参数 115 WaU+ZgDrG  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 8PQn=k9  
6.7.1  细化 116 ]9xuLJ)  
6.7.2  合成 117 'A0.(a5  
6.8  参考文献 117 }gk37_}X\I  
7  导纳图及其他工具 118  xc%\%8C}  
7.1  简介 118 w\ hl2JTy  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 rJ LlDKP-(  
7.2.1  四分之一波长规则 119 d(.e%[`  
7.2.2  导纳图 120 $T\W'W R>  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ~9&#7fU  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 t> D|1E"  
7.5  斜入射导纳图 141 &RRHmJI:  
7.6  对称周期 141 9:|z^r  
7.7  参考文献 142 "<c^`#CWuO  
8  典型的镀膜实例 143 =0te.io)3O  
8.1  单层抗反射薄膜 145 QXXB>gOY5  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 {1RI!#[\  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 vwVK ^B  
8.4  W-膜层 148 +T*=JHOD  
8.5  V-膜层 149 Xb0$BAP  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Z`5jX;Z!  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 2V6=F[T  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {H]xA3[]  
8.9  四层抗反射薄膜 153 r-M:YB  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 8@Zg@>,  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "7v/ -   
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 i$~2pr  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ^Eu]i  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 i/ED_<_ Vg  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 <Fkm7ME]  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 yc4?'k!  
8.17  1/4波长堆栈 162 +_.k\CRms  
8.18  陷波滤波器 163 YCv)DW;  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 mAycfa  
8.20  褶皱 165 g"k1O  
8.21  消偏振分光器1 169 ]V|rOtxb  
8.22  消偏振分光器2 171 Gm,vLs9H$T  
8.23  消偏振立体分光器 172 5a$Q}!6E.Y  
8.24  消偏振截止滤光片 173 W'aZw9  
8.25  立体偏振分束器1 174 ]Gk;n/! B  
8.26  立方偏振分束器2 177 8v$ 2*$  
8.27  相位延迟器 178 (IlHg^"  
8.28  红外截止器 179 L-B"P&  
8.29  21层长波带通滤波器 180 =?o,' n0  
8.30  49层长波带通滤波器 181 _|f1q  
8.31  55层短波带通滤波器 182 lSMv9 :N  
8.32  47 红外截止器 183 ?hqHTH:PU  
8.33  宽带通滤波器 184 D{-h2=V  
8.34  诱导透射滤波器 186 ;E Z5/"T  
8.35  诱导透射滤波器2 188 /z<7gd~oU  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 nkI+"$Rz0  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 p~Tp=d)/  
8.35  增益平坦滤波器 193 kF%EJuu  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Gv ';  
8.39  啁啾反射镜2 198 6`K R  
8.40  啁啾反射镜3 199 UL9]LEGG  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Rm@#GP`  
8.42  增加铝反射率膜 201 [v@3|@  
8.43  参考文献 202 ]><K8N3Z  
9  多层膜 204 C`G+b{o  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 r7Vt,{4/  
9.2  内部透过率 204 `SFA`B)[5@  
9.3 内部透射率数据 205 'eyzH[l,(  
9.4  实例 206 vY 0EffZ  
9.5  实例2 210 #&V7CYJ  
9.6  圆锥和带宽计算 212 OQlmzg  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 7a$K@iWU  
10  光学薄膜的颜色 216 D4@).%  
10.1  导言 216 CbvP1*1  
10.2  色彩 216 L/ L#[  
10.3  主波长和纯度 220 /{)}y  
10.4  色相和纯度 221 Ro}7ERA  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 (p19"p  
10.6 色差 226 pUc N-WA  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ^T?zR7r  
10.8  颜色渲染指数 234 *~h@KQm7  
10.9  色差计算 235 M~rN17S  
10.10  参考文献 236 hgYi ,e  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 pZE}<EX  
11.1  短脉冲 238 *5|;eN  
11.2  群速度 239 Vy.gr4Cm  
11.3  群速度色散 241 ,6J{-Iu  
11.4  啁啾(chirped) 245 |IcA8[  
11.5  光学薄膜—相变 245 ;;4>vF#*  
11.6  群延迟和延迟色散 246 2X X-  
11.7  色度色散 246 k.."_ 4  
11.8  色散补偿 249 #mIgk'kW<  
11.9  空间光线偏移 256 ZVelKI8>  
11.10  参考文献 258 ?-Qq\D^+  
12  公差与误差 260 Mb!b0  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Arr(rM  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 CXQ+h  
12.2.1  误差工具 267 1>c^-"#e^  
12.2.2  灵敏度工具 271 D(;jv="/  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 V=i/cI\  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ;\'d9C  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 k)3b0T@b  
12.3  参考文献 276 9QXBz=Fnf  
13  Runsheet 与Simulator 277 D'8xP %P  
13.1  原理介绍 277 e2"<3  
13.2  截止滤光片设计 277 N9dx^+\  
14  光学常数提取 289  JT,[;  
14.1  介绍 289 qjm6\ii:)  
14.2  电介质薄膜 289 \ u*R6z  
14.3  n 和k 的提取工具 295 whW% c8  
14.4  基底的参数提取 302 #+"1">l  
14.5  金属的参数提取 306 A"3"f8P8a  
14.6  不正确的模型 306 g[c_rty  
14.7  参考文献 311 1zcaI^e#  
15  反演工程 313 ~D0e \Q(A  
15.1  随机性和系统性 313  * Cj<Vy  
15.2  常见的系统性问题 314 ykS-5E`  
15.3  单层膜 314 ixvF `S9  
15.4  多层膜 314 gLss2i.r  
15.5  含义 319 B*@0l:  
15.6  反演工程实例 319 )MWbZAI  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @oNYMQ@)d  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 -=InGm\Y  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 I3.cy i  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Q)/oU\  
16.2  应力工具 335 W9rmAQjn  
16.3  均匀性误差 339  NZu2D  
16.3.1  圆锥工具 339 q/h , jM  
16.3.2  波前问题 341 shZEE2Dr  
16.4  参考文献 343 D_Zt:tzO  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 )p`zN=t  
17.1  引言 345 'Q dDXw5o  
17.2  操作数 345 1YtbV3  
18  如何在Function中编写脚本 351 ?APCDZ^  
18.1  简介 351 Mp3nR5@d$  
18.2  什么是脚本? 351 0sP*ChY5S  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 " Ng%"Nz  
18.4  基础 352 grxlGS~Q  
18.4.1  Classes(类别) 352 D &Bdl5g  
18.4.2  对象 352 iu iVr$E  
18.4.3  信息(Messages) 352 Pb}Iiq=  
18.4.4  属性 352 mVd%sWD  
18.4.5  方法 353 NX&Z=ObHu}  
18.4.6  变量声明 353 O~OM.:al&  
18.5  创建对象 354 ._[uSBR'  
18.5.1  创建对象函数 355 Ew )1O9f  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $/kZKoF{f  
18.5.3 丢弃对象 356 #|QA_5  
18.5.4  总结 356 U?xa^QVhj  
18.6  脚本中的表格 357 MMy\u) 4  
18.6.1  方法1 357 v05$"Ig  
18.6.2  方法2 357 {U)q)  
18.7 2D Plots in Scripts 358 0TqIRUz "C  
18.8 3D Plots in Scripts 359 or`D-x)+@  
18.9  注释 360 $}t;c62  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 pS~=T}o  
18.11  一个更高级的脚本 362 ?s@=DDB\u  
18.12  <esc>键 364 ?$6(@>`f&t  
18.13 包含文件 365 %$&_!  
18.14  脚本被优化调用 366 Ys>Z=Eky  
18.15  脚本中的对话框 368 /^9=2~b  
18.15.1  介绍 368 \gGTkH  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 qK)T#sh  
18.15.3  输入框函数 370 f<;eNN  
18.15.4  自定义对话框 371 }E^k*S  
18.15.5  对话框编辑器 371 2-%9k)KH  
18.15.6  控制对话框 377 fp?/Dg"49.  
18.15.7  更高级的对话框 380 }BWT21'-Y  
18.16 Types语句 384 H}cq|hodn  
18.17 打开文件 385 IOY<'t+  
18.18 Bags 387 PQrc#dfc |  
18.13  进一步研究 388 k!V@Q!>,  
19  vStack 389 eWr2UXv$  
19.1  vStack基本原理 389 r<[G~n  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 {n{-5Y  
19.3  五棱镜 393 w7~cY=  
19.4 光束距离 396 YRyaOrl$<  
19.5 误差 399 g*;z V i  
19.6  二向分色棱镜 399 bAEwjZ  
19.7  偏振泄漏 404 P@0J!  
19.8  波前误差—相位 405 ZKJhmk  
19.9  其它计算参数 405 o|APsQE  
20  报表生成器 406 g f<vQb|  
20.1  入门 406 ~Kt2g\BSok  
20.2  指令(Instructions) 406 #'97mg  
20.3  页面布局指令 406 1cS*T>`  
20.4  常见的参数图和三维图 407 4t 0p!IxG  
20.5  表格中的常见参数 408 A$n:   
20.6  迭代指令 408 0py29>"t  
20.7  报表模版 408 j/F:j5O*  
20.8  开始设计一个报表模版 409 HHL7z,%f  
21  一个新的project 413 *-&+;|mM  
21.1  创建一个新Job 414 CQs,G8 \/  
21.2  默认设计 415 Q[9W{l+  
21.3  薄膜设计 416  = Atyy  
21.4  误差的灵敏度计算 420 eMtQa;Lc9o  
21.5  显色指数计算 422 x$z>.4  
21.6  电场分布 424 _adW>-wQ!d  
后记 426 825 QS`  
a>&dAo}  
2>g!+p Ox  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 s=Xg6D  
%zN~%mJG  
《Essential Macleod中文手册》
!`dMTW  
aWY#gI{  
目  录 $XcuU sG  
Y+gNi_dE  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A#gy[.Bb  
第1章 介绍 ..........................................................1 6('CB|ga  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 !O4)Y M  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 GQYB2{e>  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 @xr}(.  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 @[#)zO  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 mOJ-M@ME  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ,U>G$G^  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 zqLOwzMlLx  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 7>3+]njw  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 aZmac'cz{  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 4JL]?75  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 u17 9!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 VuuF _y;  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8peK[sz  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Ah;`0Hz;  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 S_;m+Ytg  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 '`&b1Rc  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 \^dYmU  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ' /3\bvZ  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ]?_V+F  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 >:0^v'[  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 fr&K^je\  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 cXNR<`   
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 oN,9#*PVL  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 $PMD$c  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 OpmPw4?}  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 QEP|%$:i  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 q& esI  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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