线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1362
时间地点 x tg3~/H  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 1fM= >Z  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 3Wxl7"!x m  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 )28Jz6.I  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 4SCb9| /Q  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
S!A)kK+  
特邀专家介绍 z=<x.F  
wvvMesX<L  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 I~y[8  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 Yxz(g]  
课程概要 h.>6>5$n  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 vNlYk  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 28JWQ%-  
课程大纲 !yU!ta Q  
1. Essential Macleod软件介绍 H>AQlO+J  
1.1 介绍软件 >e :&kp  
1.2 创建一个简单的设计 c) Zid1  
1.3 绘图和制表来表示性能 oNY;z-QK  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 }C!N$8d,  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) | VPs5  
1.6 特定设计的公式技术 B;9X{"  
1.7 交互式绘图 KGd L1~  
2. 光学薄膜理论基础 <\!+J\YTA  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 %>`0hk88  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 LL|$M;S  
3. 材料管理 pqFgi_2m  
3.1 材料模型 O&!>C7  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 T V\21  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 EL$l . v  
3.4 基板光学常数的提取 J5h;~l!y  
4. 光学薄膜设计优化方法 -'3~Y 2#  
4.1 参考波长与g 'qwFVP  
4.2 四分之一规则 |_/q0#"  
4.3 导纳与导纳图 Zy _A3m{  
4.4 斜入射光学导纳 }eb}oK  
4.5 光学薄膜设计的进展 iI ji[>qz  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 fiqeXE?E  
4.6.1 优化目标设置 ;W,XP#{W  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 1.U5gW/3L  
4.6.3 膜层锁定和链接 ^_ L'I%%[  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 CM?dB$AwX  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >Pj ?IE6  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 <gRv7 ?V[z  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Fl<|/DCg  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 0*S]m5#;  
5.5 如何在Function中编写脚本 =u W+>;]  
6. 光学薄膜系统案例 ;4p_lw@  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 }wRHNBaEB  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 !]=  
6.3 Stack应用范例说明 z}&w7 O#   
7. 薄膜性能分析 VCfa<hn  
7.1 电场分布 {eA0I\c(C  
7.2 公差与灵敏度分析 .<5 66g}VP  
7.3 反演工程 SVWtKc<  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Rl90uF]8  
8. 真空技术 kbS+ 3#+  
8.1 常用真空泵介绍 Y5 e6|b|  
8.2 真空密封和检漏 k2DT+}u7G  
9. 薄膜制备技术 }bIbMEMn  
9.1 常见薄膜制备技术 0J7)UqMf.  
10. 薄膜制备工艺 XM o#LS  
10.1 薄膜制备工艺因素 ':YFm  
10.2 薄膜均匀性修正技术 It>8XKS  
10.3 光学薄膜监控技术 0m k-o  
11. 激光薄膜 ovJwo r  
11.1 薄膜的损伤问题 0V6gNEAUg  
11.2 激光薄膜的制备流程 N GP}Z4  
11.3 激光薄膜的制备技术 l?GN& u  
12. 光学薄膜特性测量 .vHSKd{  
12.1 薄膜光谱测量 V("@z<b|  
12.2 薄膜光学常数测量 kSj,Pl\NC  
12.3 薄膜应力测量 [)UL}vAO\q  
12.4 薄膜损伤测量 A3D"b9<D  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 X:Z4QqT  
j"o8]UT/  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 Ca}T)]//  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /NRdBN  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。  ;LEO+,6  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 8U}BSM_<2  
1KwUp0% &  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
A'Q=Do E  
目录 ?t<yk(q  
Preface 1 %%`Q5I  
内容简介 2 p2T<nP<Pt  
目录 i %6Wv-:LY  
1  引言 1  /6)6  
2  光学薄膜基础 2 =(\ /+ 0-[  
2.1  一般规则 2 'MZX"t  
2.2  正交入射规则 3 Q'-g+aN  
2.3  斜入射规则 6 nGb%mlb  
2.4  精确计算 7 ZH6#(;b  
2.5  相干性 8 #+$pE@u7A  
2.6 参考文献 10 >a;0<Ui&Q  
3  Essential Macleod的快速预览 10 pxC:VJ;  
4  Essential Macleod的特点 32 /S9s%scAy  
4.1  容量和局限性 33 fCg"tckE  
4.2  程序在哪里? 33 J3/2>N]/}  
4.3  数据文件 35 F?"#1j e  
4.4  设计规则 35 ~Q<h,P  
4.5  材料数据库和资料库 37 7nr+X Os  
4.5.1材料损失 38 )Pr*\<Cld  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 !<`}m E!:  
4.5.2 材料库 41 up`.#GWm  
4.5.3导出材料数据 43 : &! >.Y  
4.6  常用单位 43 < zUU`  
4.7  插值和外推法 46 -<e8\Z`  
4.8  材料数据的平滑 50 MPSoRA: h  
4.9 更多光学常数模型 54 t<sy7e='  
4.10  文档的一般编辑规则 55 d3% 1 P)  
4.11 撤销和重做 56 lJZ-*"9V  
4.12  设计文档 57 }~/u%vI@M5  
4.10.1  公式 58 }<G"w 5.<  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 F"2rX&W  
4.10.3  沉积密度 59 oEfy{54  
4.10.4 平行和楔形介质 60 `2}H$D  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 H_3-"m&3  
4.10.4  性能 61 [+7 Nu  
4.10.5  保存设计和性能 64 `{1` >5  
4.10.6  默认设计 64 1E3'H7k\t  
4.11  图表 64 R^t )~\d  
4.11.1  合并曲线图 67 >b^|SL  
4.11.2  自适应绘制 68 c:;m BS>~  
4.11.3  动态绘图 68 bD*z"e  
4.11.4  3D绘图 69 <\0+*`">g  
4.12  导入和导出 73 24 )Sf  
4.12.1  剪贴板 73 OXT'$]p.*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 m5Q?g8  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _4!SO5T  
4.13  背景 77 #~ikR.-+Eq  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80  k2]Q~  
4.15  生成Rugate 84 Gvo|uB#  
4.16  参考文献 91 1rhEk|pGZ  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 'VH%cz*  
5.1  Jobs 92 L H>oG$a  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 z x e6M~+  
5.3  输入材料 94 V s/Z8t  
5.4  设计数据文件夹 95 MSef2|"P#  
5.5  默认设计 95 W PDL$y  
6  细化和合成 97 Z{' .fq2A  
6.1  优化介绍 97 FPg5!O%  
6.2  细化 (Refinement) 98 .nGYx  
6.3  合成 (Synthesis) 100 c UJUZ@ol  
6.4  目标和评价函数 101 4JOw@/nE  
6.4.1  目标输入 102 D4';QCwo  
6.4.2  目标 103 4KO2oIR  
6.4.3  特殊的评价函数 104 )Fa6 'M  
6.5  层锁定和连接 104 |dP[_nh?  
6.6  细化技术 104 G"_ 8`l  
6.6.1  单纯形 105 K/^70;/!.  
6.6.1.1 单纯形参数 106 D7'P^*4_B  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 FNQR sNi  
6.6.2.1 Optimac参数 108 K9-?7X  
6.6.3  模拟退火算法 109  vbol 70  
6.6.3.1 模拟退火参数 109  ~\0uy3%  
6.6.4  共轭梯度 111 Er 4P  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {9 PeBc  
6.6.5  拟牛顿法 112 /CXrxeo  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -~wGJM VA  
6.6.6  针合成 113 L%3m_'6QP  
6.6.6.1 针合成参数 114 ,{KjVv<  
6.6.7 差分进化 114 w-[A"M]I  
6.6.8非局部细化 115 ^:c:~F6J  
6.6.8.1非局部细化参数 115 >'qkW$-95  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Gp<7i5  
6.7.1  细化 116 > `uk2QdC  
6.7.2  合成 117 {e>E4(  
6.8  参考文献 117 #5Zf6w  
7  导纳图及其他工具 118 vZ<@m2  
7.1  简介 118 |l*#pN&L  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 VaLx-RX  
7.2.1  四分之一波长规则 119 zmREzP#X  
7.2.2  导纳图 120 \|OW`7Q)k  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 g91X*$`]  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ~-1!?t/%  
7.5  斜入射导纳图 141 81(.{Y839_  
7.6  对称周期 141 }!^/<|$=  
7.7  参考文献 142 jl!rCOLt4  
8  典型的镀膜实例 143 > x$eKN  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ^p'iX4M  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 upD 2vtU  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 =z=$S]qN  
8.4  W-膜层 148 3A~53W$M  
8.5  V-膜层 149 .6@qU}  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ]i}3`e?  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Do&em8i z  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 6b-j  
8.9  四层抗反射薄膜 153 jK#[r[q{  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 3L;GfYr0  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 2J^jSgr50d  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 s@WF[S7D  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ywPFL/@  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 rQW&$M  
8.15十五层宽带抗反射膜 159  qac4GZ  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 "zT#*>U  
8.17  1/4波长堆栈 162 kQr\ktN\  
8.18  陷波滤波器 163 71nI`.Z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 yAge2m]<B  
8.20  褶皱 165 Tug}P K   
8.21  消偏振分光器1 169 5<?O S &B  
8.22  消偏振分光器2 171 (#4   
8.23  消偏振立体分光器 172 ]yTMWIx#  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ql|ksios  
8.25  立体偏振分束器1 174 F<KUVe  
8.26  立方偏振分束器2 177 9M$=X-  
8.27  相位延迟器 178 NAy3Zd}  
8.28  红外截止器 179 :d&^//9  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ]5!}S-uJq  
8.30  49层长波带通滤波器 181 0a#2 Lo  
8.31  55层短波带通滤波器 182 t-xw=&!w  
8.32  47 红外截止器 183 hkS K;  
8.33  宽带通滤波器 184 WVP^C71  
8.34  诱导透射滤波器 186 ^,Paih 2  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ?A[q/n:K  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 jKOjw#N  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 R'#[}s  
8.35  增益平坦滤波器 193 _x.!, g{  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ur'a{BI2R  
8.39  啁啾反射镜2 198 )PM&x   
8.40  啁啾反射镜3 199 ews4qP  
8.41  带保护层的铝膜层 200 IX!Q X  
8.42  增加铝反射率膜 201 EF7Y4lp  
8.43  参考文献 202 (6xrs_ea  
9  多层膜 204 U!GG8;4  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ]F,mj-?4x  
9.2  内部透过率 204 h\ZnUn_J  
9.3 内部透射率数据 205 <i~MBy. (  
9.4  实例 206 6LGy0dWpG  
9.5  实例2 210 r ek89.p  
9.6  圆锥和带宽计算 212 3Mvm'T:[  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 MEOVw[hO  
10  光学薄膜的颜色 216 REyk,s2"6  
10.1  导言 216 sqAZjfy@  
10.2  色彩 216 YTiXU Oj  
10.3  主波长和纯度 220 P= e3f(M2  
10.4  色相和纯度 221 rKlu+/G  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Ms^U`P^V~P  
10.6 色差 226 +V"t't7  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 -t92!O   
10.8  颜色渲染指数 234 Q:.q*I!D<4  
10.9  色差计算 235 +?xW%omy  
10.10  参考文献 236 &E@8 z&  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ZDVz+L|p  
11.1  短脉冲 238 /V66P@[>  
11.2  群速度 239 ,W"[q~  
11.3  群速度色散 241 wS Ty2Oyo;  
11.4  啁啾(chirped) 245 MuzlUW]  
11.5  光学薄膜—相变 245 gNon*\a,-B  
11.6  群延迟和延迟色散 246 :G&tM   
11.7  色度色散 246 6 ufF34tA  
11.8  色散补偿 249 LY}9$1G]  
11.9  空间光线偏移 256 `0@onDQVc=  
11.10  参考文献 258 7$ vs X  
12  公差与误差 260 DKd:tL24&  
12.1  蒙特卡罗模型 260 (Rqn)<<2  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 3"ALohlL  
12.2.1  误差工具 267 ?Y:>Ouv*z'  
12.2.2  灵敏度工具 271 d ] J5c  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ZK =`Y@  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 k"*A@  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 VdrqbZ   
12.3  参考文献 276 d!+8  
13  Runsheet 与Simulator 277 [:cy.K!Uo%  
13.1  原理介绍 277 h J*2q"  
13.2  截止滤光片设计 277 ; ^waUJ\Z  
14  光学常数提取 289 Zt3"4d4  
14.1  介绍 289 _#6_7=g@s6  
14.2  电介质薄膜 289 #KC& ct  
14.3  n 和k 的提取工具 295 [O) Q\|k  
14.4  基底的参数提取 302 ]a4rA+NFLB  
14.5  金属的参数提取 306 |@{4zoP_N  
14.6  不正确的模型 306 w +QXSa_D  
14.7  参考文献 311 *]<M%q!<6  
15  反演工程 313 SE%B&8ZD  
15.1  随机性和系统性 313 Igowz7  
15.2  常见的系统性问题 314 ~YQC!x  
15.3  单层膜 314 5)g6yV'  
15.4  多层膜 314 #t.)4$  
15.5  含义 319 [ML%u$-  
15.6  反演工程实例 319 "E4;M/  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 xign!=  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 jH+ddBVA  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 |"4+~z%/9!  
16.1  光学性质的热致偏移 329 QU4/hS;Ux  
16.2  应力工具 335 .M3]\I u  
16.3  均匀性误差 339 c&!EsMsU  
16.3.1  圆锥工具 339 8Z YF%  
16.3.2  波前问题 341 2=P.$Kx  
16.4  参考文献 343 tOn 6  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 o:`>r/SlL  
17.1  引言 345 wR)U&da`@  
17.2  操作数 345 13+f ^  
18  如何在Function中编写脚本 351 S8 +GM  
18.1  简介 351 <g/Z(<{wor  
18.2  什么是脚本? 351 $ yd "bJK  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 vuL;P"F4&  
18.4  基础 352 &NvvaqJ  
18.4.1  Classes(类别) 352 \UBTNY,  
18.4.2  对象 352 oD0WHp  
18.4.3  信息(Messages) 352 {s]yP_  
18.4.4  属性 352 o>(I_3J[p  
18.4.5  方法 353 l/(|rl#6  
18.4.6  变量声明 353 P0 R8 f  
18.5  创建对象 354 ,ALEfepo  
18.5.1  创建对象函数 355 @|3PV  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 FU;b8{Y  
18.5.3 丢弃对象 356 *{_WM}G  
18.5.4  总结 356 3aD\J_  
18.6  脚本中的表格 357 Y9YE:s  
18.6.1  方法1 357 nT(Lh/  
18.6.2  方法2 357 *@2+$fgz  
18.7 2D Plots in Scripts 358 BZ2frG\0&I  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ^oykimYI-  
18.9  注释 360 w(>mP9Cb  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 %(f&).W  
18.11  一个更高级的脚本 362 <xb=.xe  
18.12  <esc>键 364 n U0  
18.13 包含文件 365 dm;C @.ML  
18.14  脚本被优化调用 366 $mH'%YDIl  
18.15  脚本中的对话框 368 BWtGeaW/sr  
18.15.1  介绍 368 6),U(e%  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 rsr}%J  
18.15.3  输入框函数 370 w$E8R[J~P  
18.15.4  自定义对话框 371 R 4= ~  
18.15.5  对话框编辑器 371 aPR0DZ@  
18.15.6  控制对话框 377 {*#}"/:8K  
18.15.7  更高级的对话框 380 k15fy"+Ut  
18.16 Types语句 384 Ptj,9bf<\  
18.17 打开文件 385 WF'Di4   
18.18 Bags 387 `~~.0QC  
18.13  进一步研究 388 M1>2Q[h7  
19  vStack 389 **RW 9FU  
19.1  vStack基本原理 389 )/32sz]~  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 P~6QRm  
19.3  五棱镜 393 -XbO[_Wf  
19.4 光束距离 396 #b^x!lR  
19.5 误差 399 ceKR?%8s  
19.6  二向分色棱镜 399 L%h Vts'  
19.7  偏振泄漏 404 HU~,_m  
19.8  波前误差—相位 405 \J)ffEKIp  
19.9  其它计算参数 405 8w 2$H  
20  报表生成器 406 IJ#G/<ZJZ  
20.1  入门 406 mVSaC  
20.2  指令(Instructions) 406 In3},x +$  
20.3  页面布局指令 406 Cp`>dtCd  
20.4  常见的参数图和三维图 407 %.NOQ<@W  
20.5  表格中的常见参数 408 ;usv/8  
20.6  迭代指令 408 4>JDo,AWy  
20.7  报表模版 408 ('9LUFw\  
20.8  开始设计一个报表模版 409 -GqMis}c  
21  一个新的project 413 *>=|"ff  
21.1  创建一个新Job 414 @c >a  
21.2  默认设计 415 K3CTxU(  
21.3  薄膜设计 416 &,4 3&pFU  
21.4  误差的灵敏度计算 420 >TnV Lx<  
21.5  显色指数计算 422 JA")L0a_  
21.6  电场分布 424 YtQsSU  
后记 426 1@i 8ASL  
#]g9O?0$  
PkqOBU*|=  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 +"~~; J$  
4ONou&T  
《Essential Macleod中文手册》
y*f 5_  
|afzW=8'  
目  录 ZRD@8'1p  
r@|{mQOxa  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 c@uNA0 p  
第1章 介绍 ..........................................................1 /d1 B-I  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 !BQ:R(w  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 sz7|2OV"  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 >k\lE(  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 |= xK-;qs  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 T#>1$0yv  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 *irYSTA$  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [6$n  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 GfG!CG^ %  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111  {[i 37DN  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 O<H5W|cM  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 wM2[i  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 L#\!0YW/@  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167  GD]yP..  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 P ~sX S  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 H*h7Y*([  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 3ZAPcpB2  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 J7p'_\  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 O|Z5SSlk  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 szDd!(&pv  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 u>YC4&  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 &~6W!w  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Z2%ySO  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 NI1jJfH|l  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 &B;M.sz~C4  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 figCeJ!W4  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 8}Qmhm`_j=  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @N?u{|R:d  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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