线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:965
时间地点 NYR^y \u  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 3eI:$1"Q  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 1__p1  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 7OC ,KgJ3  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 eSa ]6  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
xOTm-Cm9L  
特邀专家介绍 ?>RJ8\Sj  
x0Tb7y`  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 /Pg66H#RUf  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 `jP\*k`~]  
课程概要 <-}6X  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ,"j |0Q  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 &~$^a1D6  
课程大纲 ix7N q7!N  
1. Essential Macleod软件介绍 A[oi?.D  
1.1 介绍软件 v,+2CVdW  
1.2 创建一个简单的设计 [|k@Suv |z  
1.3 绘图和制表来表示性能 N<N!it  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 >-y'N.l^  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Bj%{PK  
1.6 特定设计的公式技术 ?1OS%RBF  
1.7 交互式绘图 Q6.},o  
2. 光学薄膜理论基础 s`H}NjWx  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 TmzEZ<} &7  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 =H!u4  
3. 材料管理 ?"qU.}kGL  
3.1 材料模型 WNd(X}  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 g ~10K^  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 jw(v08u >  
3.4 基板光学常数的提取 YdE$G>&em  
4. 光学薄膜设计优化方法 mKxQ U0`  
4.1 参考波长与g $stJ+uh  
4.2 四分之一规则 zJdlHa{  
4.3 导纳与导纳图 ajkRL|^  
4.4 斜入射光学导纳 42# rhgW  
4.5 光学薄膜设计的进展 ?LvZEiJ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 {:{NK%  
4.6.1 优化目标设置 g%9I+(?t  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) G'{4ec0<{  
4.6.3 膜层锁定和链接 B[cZEFo\  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 q'c'rN^  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 EVRg/ {X  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 A5?[j QT0  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +uv]dD *i  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 bS* "C,b~s  
5.5 如何在Function中编写脚本 NbG3^(  
6. 光学薄膜系统案例 3&3S*1b-H  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 .D)'ZY  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 a#j0N5<Nl  
6.3 Stack应用范例说明 ir%/9=^d  
7. 薄膜性能分析 M@s2T|bQw  
7.1 电场分布 roW8 4x  
7.2 公差与灵敏度分析 E(TL+o  
7.3 反演工程 =<a`G3SY!  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 3}LTEsdM  
8. 真空技术 U.?,vw'aai  
8.1 常用真空泵介绍 fTV:QAa;  
8.2 真空密封和检漏 `sJkOEc`  
9. 薄膜制备技术 ;'R{b$B;|  
9.1 常见薄膜制备技术 $]xe,}*Af  
10. 薄膜制备工艺 '>2xP<ct!&  
10.1 薄膜制备工艺因素 ic?6p  
10.2 薄膜均匀性修正技术 =$Xdn'  
10.3 光学薄膜监控技术 `4w0 *;k;  
11. 激光薄膜 gt'0B-;W  
11.1 薄膜的损伤问题 x*bM C&Ea  
11.2 激光薄膜的制备流程 d t0?4 d  
11.3 激光薄膜的制备技术 Wd&!##3$Q  
12. 光学薄膜特性测量 *Swb40L^  
12.1 薄膜光谱测量 JBi<TDm/  
12.2 薄膜光学常数测量 ddlLS  
12.3 薄膜应力测量 k gWF@"_  
12.4 薄膜损伤测量 Ou8@7S  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 +?nW  
+a"A svw2  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
~~:i+-[  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
7(Y!w8q&^  
内容简介 wdl6dLu  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 . (Q;EF`_U  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 nmS3  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^Zydy  
TQ>kmHWf/  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
}UQBaqDH  
目录 :m^eNS6:  
Preface 1 QfT&y &  
内容简介 2 T4o}5sq}S  
目录 i I)Lg=n$  
1  引言 1 }T4"#'`  
2  光学薄膜基础 2 $>8+t>|  
2.1  一般规则 2 D|`[ [  
2.2  正交入射规则 3 8Z FPs/HP  
2.3  斜入射规则 6 ]}~*uT}>  
2.4  精确计算 7 xREqcH,vU  
2.5  相干性 8 B.0(}@  
2.6 参考文献 10 3DMfR ofg  
3  Essential Macleod的快速预览 10 'S E%9  
4  Essential Macleod的特点 32 U#d&#",s  
4.1  容量和局限性 33 @j5W4HU  
4.2  程序在哪里? 33 5pE[}@-c9  
4.3  数据文件 35 T~=NY,n  
4.4  设计规则 35 5JIa?i>B  
4.5  材料数据库和资料库 37 ,? <jue/bd  
4.5.1材料损失 38 YDC[s ^d5  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 X2q$i  
4.5.2 材料库 41 YeYFPi#  
4.5.3导出材料数据 43 lNls8@  
4.6  常用单位 43 s e2+X>@>  
4.7  插值和外推法 46 &6r".\; ^  
4.8  材料数据的平滑 50 mNWmp_c,1  
4.9 更多光学常数模型 54 W&TPrB  
4.10  文档的一般编辑规则 55 #CHsH{d  
4.11 撤销和重做 56 $2 ~A^#"0  
4.12  设计文档 57 Y'%sA~g  
4.10.1  公式 58 X.%Xi'H  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 y<8)mw  
4.10.3  沉积密度 59 ^HX={(ddK  
4.10.4 平行和楔形介质 60 W446;)?5  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 I6{}S6  
4.10.4  性能 61 |Tf}8e  
4.10.5  保存设计和性能 64 kHm1aE<  
4.10.6  默认设计 64 Euk#C;uBg  
4.11  图表 64 Pm#B'N#*N|  
4.11.1  合并曲线图 67 Y>wpla[kUq  
4.11.2  自适应绘制 68 zp,f}  
4.11.3  动态绘图 68 z! D >l  
4.11.4  3D绘图 69  ZRsDn  
4.12  导入和导出 73 P/,7CfyPd  
4.12.1  剪贴板 73 ~EpMO]I  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 \*v}IO>2})  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 k2,n:7  
4.13  背景 77 K3!|k(jt  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 J0C<Qb[  
4.15  生成Rugate 84 U$ _?T-x  
4.16  参考文献 91 H.v`JNs (  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 IP-CN  
5.1  Jobs 92 -r/#20Y  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Ajs<a(,6  
5.3  输入材料 94 )p(5$AR7  
5.4  设计数据文件夹 95 :-Ho5DHg  
5.5  默认设计 95 {ZY^tTsY  
6  细化和合成 97 wvp\'* $  
6.1  优化介绍 97 Lk4&&5q  
6.2  细化 (Refinement) 98 -Z4J?b  
6.3  合成 (Synthesis) 100 &gIu<*u<  
6.4  目标和评价函数 101 2:&8FdU  
6.4.1  目标输入 102 t \Fc <  
6.4.2  目标 103 =LZj6'  
6.4.3  特殊的评价函数 104 `IFt;Ja\6  
6.5  层锁定和连接 104 Kg~<h B6  
6.6  细化技术 104 }sd-X`lZ  
6.6.1  单纯形 105 ` {k>I^Pg  
6.6.1.1 单纯形参数 106 nw Or  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 mhnD1}9,Ih  
6.6.2.1 Optimac参数 108 D$YAi%*H  
6.6.3  模拟退火算法 109 43A6B  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 HJ !)D~M{  
6.6.4  共轭梯度 111 *<Fz1~%*  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {{tH$j?Q  
6.6.5  拟牛顿法 112 !5? #^q  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 jF Bq>  
6.6.6  针合成 113 `(_cR@\  
6.6.6.1 针合成参数 114 slOki|p;  
6.6.7 差分进化 114 yodJGGAzk  
6.6.8非局部细化 115 w4:n(.;HK  
6.6.8.1非局部细化参数 115 {5#P1jlT  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 \-#~)LB]M  
6.7.1  细化 116 ^h1VCyoR*  
6.7.2  合成 117 'R*xg2!i  
6.8  参考文献 117  !|9$  
7  导纳图及其他工具 118 5w@  ;B  
7.1  简介 118 x98LOO  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 uQ vW@Tt  
7.2.1  四分之一波长规则 119 _B 8e 1an  
7.2.2  导纳图 120 Q2Yv8q_}Uq  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "SNsOf  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 PC.$&x4w1  
7.5  斜入射导纳图 141 U^+9l?ol  
7.6  对称周期 141 i74^J+xk  
7.7  参考文献 142 zt[TShD^  
8  典型的镀膜实例 143 rPaD#GA[7  
8.1  单层抗反射薄膜 145 mB"zyL-  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 prlB9,3|C  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 f8#WT$Ewy  
8.4  W-膜层 148 28f-8B  
8.5  V-膜层 149 ]vXIj0:  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Ua5m2&U1  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 T 2x~fiM  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 >BrxJw#M  
8.9  四层抗反射薄膜 153 _-%ay  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 >-s}1*^=oD  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 j+Y4>fL$  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 8MX/GF;F  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 _a+0LTo".  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ;wL *  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 d%t]:41=Z  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 C: kl/9M@  
8.17  1/4波长堆栈 162 CBnD)1b\  
8.18  陷波滤波器 163 d=oOMXYa   
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 bjm`u3 A  
8.20  褶皱 165 ,RCjfX a  
8.21  消偏振分光器1 169 }h +a8@  
8.22  消偏振分光器2 171 nKu`Ta*fX  
8.23  消偏振立体分光器 172 @!0j)5%  
8.24  消偏振截止滤光片 173 fOE:~3Q  
8.25  立体偏振分束器1 174 ~e 6yaX8S  
8.26  立方偏振分束器2 177 Co[[6pt~  
8.27  相位延迟器 178 'x+0 yd  
8.28  红外截止器 179 u\t[rC=yd  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ^nbze  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Jgtv ia  
8.31  55层短波带通滤波器 182 z9w@-])  
8.32  47 红外截止器 183 $rFv(Qc^=  
8.33  宽带通滤波器 184 iL|*g3`-f  
8.34  诱导透射滤波器 186 iN`/pW/JE  
8.35  诱导透射滤波器2 188 /D1Bf:'(  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 zHb<YpU  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 @]3(l  
8.35  增益平坦滤波器 193 &U4]hawbOU  
8.38  啁啾反射镜 1 196 &Ei dc .  
8.39  啁啾反射镜2 198 II>X6  
8.40  啁啾反射镜3 199 qgI Jg6x/}  
8.41  带保护层的铝膜层 200 U|{WtuR  
8.42  增加铝反射率膜 201 M?[lpH3  
8.43  参考文献 202 P%ZWm=lg  
9  多层膜 204 ni2H~{]z  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 &sS k~:  
9.2  内部透过率 204 \RQ5$!O  
9.3 内部透射率数据 205 a Q`a>&R0  
9.4  实例 206 ^ / f*5k  
9.5  实例2 210 &CUkR6  
9.6  圆锥和带宽计算 212 }{K)5k@  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 <>j, Q  
10  光学薄膜的颜色 216 $ZcmE<7k  
10.1  导言 216 wTIf#y1=9  
10.2  色彩 216 et9 c<'  
10.3  主波长和纯度 220 D|e6$O5o  
10.4  色相和纯度 221 ec=4L@V*  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _x UhDu%  
10.6 色差 226 JiI(?I  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 `Z%XA>  
10.8  颜色渲染指数 234 X\1D[n:  
10.9  色差计算 235 Z#V[N9L  
10.10  参考文献 236 #:s'&.6  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ,ypxy/  
11.1  短脉冲 238 J,7_5V@jJ  
11.2  群速度 239 \GMudN  
11.3  群速度色散 241 ~-W.yg6D{  
11.4  啁啾(chirped) 245 .-RWlUe;,  
11.5  光学薄膜—相变 245 0 |F (qR  
11.6  群延迟和延迟色散 246 K9w24Oka  
11.7  色度色散 246 R`1$z8$  
11.8  色散补偿 249 L {B#x@9tQ  
11.9  空间光线偏移 256 #(  kT  
11.10  参考文献 258 (_nkscf  
12  公差与误差 260 .zegG=q  
12.1  蒙特卡罗模型 260 kQ'G+Kw~F  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 PY>j?otD  
12.2.1  误差工具 267 j<l>+., U  
12.2.2  灵敏度工具 271 2B!nLL Cp+  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 u{H_q&1  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 =A!I-@]q<  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 N#[/h96F  
12.3  参考文献 276 !. 0W?6yo  
13  Runsheet 与Simulator 277 (>;~((2  
13.1  原理介绍 277 u[dI81`  
13.2  截止滤光片设计 277 ZT^PL3j+  
14  光学常数提取 289 Q45rP4mQ  
14.1  介绍 289 .Dx]wv  
14.2  电介质薄膜 289 C y& L,  
14.3  n 和k 的提取工具 295 c!841~p(Q  
14.4  基底的参数提取 302 )L#I#%  
14.5  金属的参数提取 306 _@^msyoq  
14.6  不正确的模型 306 MaMs(  
14.7  参考文献 311 }>0UaK  
15  反演工程 313 :$}67b)MO  
15.1  随机性和系统性 313 ~?L. n:wu  
15.2  常见的系统性问题 314 IF1?/D"<  
15.3  单层膜 314 #vDe/o+=  
15.4  多层膜 314 P, >#  
15.5  含义 319 Xt7uCs  
15.6  反演工程实例 319 \7/xb{z|  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 $hEX,  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 !MGQ+bD6  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 5,mb]v0k  
16.1  光学性质的热致偏移 329 5k\61(*s  
16.2  应力工具 335 Ql\GL"  
16.3  均匀性误差 339 nKHyq\  
16.3.1  圆锥工具 339 =j}00,WH  
16.3.2  波前问题 341 .79'c%3}  
16.4  参考文献 343 |bBYJ  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 IG bQ L  
17.1  引言 345 3 F4I{L  
17.2  操作数 345 \,_%e[g49  
18  如何在Function中编写脚本 351 ~Aq UT]l  
18.1  简介 351 n=yFw\w'  
18.2  什么是脚本? 351 4)"jg[  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 `U;4O)`n  
18.4  基础 352 /sYD+*a  
18.4.1  Classes(类别) 352 ].Et&v  
18.4.2  对象 352 zb9$  
18.4.3  信息(Messages) 352 "1l d4/  
18.4.4  属性 352 g!K(xh EO  
18.4.5  方法 353 K}wUM^  
18.4.6  变量声明 353 4W1"=VL[g  
18.5  创建对象 354 $)\ocsO  
18.5.1  创建对象函数 355 43(+3$VM7  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 H>W A?4  
18.5.3 丢弃对象 356 my*/MC^O  
18.5.4  总结 356 xl<Cstr  
18.6  脚本中的表格 357 g@S"!9[;U  
18.6.1  方法1 357 py,z7_Nuh  
18.6.2  方法2 357 JM!o(zbt  
18.7 2D Plots in Scripts 358 9 s>JdAw?  
18.8 3D Plots in Scripts 359 p~M^' k=d  
18.9  注释 360 p'_* >%4~  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 #^eviF8  
18.11  一个更高级的脚本 362 pET5BMxGG  
18.12  <esc>键 364 .ipYZg'V  
18.13 包含文件 365 ffSecoX  
18.14  脚本被优化调用 366 hDfsqSK0 /  
18.15  脚本中的对话框 368 % +eZ U)N  
18.15.1  介绍 368 !qy/'v4  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 c"fnTJXr79  
18.15.3  输入框函数 370 A3h[VnuG,  
18.15.4  自定义对话框 371 ,!Q2^R   
18.15.5  对话框编辑器 371 *xt3mv/<z  
18.15.6  控制对话框 377 y=q\1~]Z  
18.15.7  更高级的对话框 380 [S*bN!t  
18.16 Types语句 384 QPdhesrd-  
18.17 打开文件 385 ~I!7]i]"*?  
18.18 Bags 387  4INO .  
18.13  进一步研究 388  @4H*kA  
19  vStack 389 P~=|R9 t  
19.1  vStack基本原理 389 NPKRX Li%  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 + e4o~ p  
19.3  五棱镜 393 ZG<<6y*.  
19.4 光束距离 396 )Ibp%'H  
19.5 误差 399 \/'u(|G  
19.6  二向分色棱镜 399 mO]>(^c  
19.7  偏振泄漏 404 gP)g_K(e  
19.8  波前误差—相位 405 Joe k4t&0<  
19.9  其它计算参数 405 Rsqb<+7  
20  报表生成器 406 }cMb0`oA  
20.1  入门 406 _kgw+NA&-H  
20.2  指令(Instructions) 406 XG*Luc-v  
20.3  页面布局指令 406 8g&uCv/Uk  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ?!8M I,c/  
20.5  表格中的常见参数 408 ] S]F&B M|  
20.6  迭代指令 408 <{7B ^'  
20.7  报表模版 408 #(!>  
20.8  开始设计一个报表模版 409 1_*o(HR  
21  一个新的project 413 ,%yjEO  
21.1  创建一个新Job 414 F}.<x5I-;h  
21.2  默认设计 415 c`AtK s)u  
21.3  薄膜设计 416 X >C*(/a  
21.4  误差的灵敏度计算 420 hQPiGIs  
21.5  显色指数计算 422 r#3(;N{=  
21.6  电场分布 424 k)dLJ<EM  
后记 426 vt@.fT#e  
KK}^E_v  
X.bNU  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 LEWeybT  
j:\MrYt0H  
《Essential Macleod中文手册》
-T`rk~A9A  
0vt?yD  
目  录 &8z`]mB{t  
t|%wVj?_  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 gI<TfcC  
第1章 介绍 ..........................................................1 iLNKC'  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 O}"VK  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 YrL:!\p.  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 STL&ZO  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 a9`E&Q}z  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 2 D>WIOX  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ^ ,d!K2`  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 u-$(TyDEl|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 V*2uW2\}  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 a4Fe MCvV9  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 :B6hYx  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 db'Jl^  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 xJ:15eDC  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ,dLh`t<\  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 nK)U.SZ  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 %l( qyH)*  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 u`O xY  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 2I* 7?`  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 esIE i!d  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 /ZUKt  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 L#1Y R}m  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ]<V[H  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 K?8{ y  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ryg1o=1v/  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 $h"tg9L^)  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 QX1QYwcmG  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Zui2O-L?V  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 N0,wT6.  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1