线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:964
时间地点 k'+}92 o  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 OD+5q(!"a  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 7GZq|M_:y  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 >o[|"oLO  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 e|'N(D}h*  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
("Dv>&w9  
特邀专家介绍 _V@P-Ye  
K/Y Agg  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 k dU! kj  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 *gu8-7'  
课程概要 'IQsve7cI  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 HDS"F.l5  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 o&-L0]i|  
课程大纲 R^P_{_I*"  
1. Essential Macleod软件介绍 ?~F. /  
1.1 介绍软件 /EFq#+6  
1.2 创建一个简单的设计 ^7u#30,}3~  
1.3 绘图和制表来表示性能 gfo}I2"  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 WC-_+9)2&  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) UR3$B%i  
1.6 特定设计的公式技术 LprM;Q_  
1.7 交互式绘图 )=H{5&e#u  
2. 光学薄膜理论基础 ^M Ey,  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |9,UaA  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ((MLM3zJ  
3. 材料管理 1dv=xe.  
3.1 材料模型 h<3p8eB  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 B\_[R'Pf&  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 w O!u!I  
3.4 基板光学常数的提取 Hg(5S,O2  
4. 光学薄膜设计优化方法 Rd! 2\|  
4.1 参考波长与g Tbh'_ F6  
4.2 四分之一规则 {ZqQ!!b  
4.3 导纳与导纳图 M|%c(K#E,3  
4.4 斜入射光学导纳 *not.2+  
4.5 光学薄膜设计的进展 jXR16|  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 gdi`x|0  
4.6.1 优化目标设置 - L~Uu^o  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) }kPVtSQ  
4.6.3 膜层锁定和链接 oI@ 9}*  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 uva\0q  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )H+kB<n  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 gq4 . d  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {;k_!v{  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 IZ~.{UQ  
5.5 如何在Function中编写脚本 mk=#\>  
6. 光学薄膜系统案例 (@Zcx9  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 4e9E' "8%  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ` clB43 i  
6.3 Stack应用范例说明 ~@fR[sg<  
7. 薄膜性能分析  _^T}_  
7.1 电场分布 n,nisS  
7.2 公差与灵敏度分析 +X^4; &  
7.3 反演工程 ;[Tyt[  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ?,% TU&Yn  
8. 真空技术 9} *$n&B  
8.1 常用真空泵介绍 -1 W  
8.2 真空密封和检漏 J Jy{@[m  
9. 薄膜制备技术 ma]? )1<{  
9.1 常见薄膜制备技术 SE!L :  
10. 薄膜制备工艺 }1m_o@{3P  
10.1 薄膜制备工艺因素 d8:C3R  
10.2 薄膜均匀性修正技术 3qo e^e  
10.3 光学薄膜监控技术 A,c'g}:  
11. 激光薄膜 I,j3bC  
11.1 薄膜的损伤问题 V2Y$yV8g1  
11.2 激光薄膜的制备流程 o!Fl]3F  
11.3 激光薄膜的制备技术 q^Inb)FeN  
12. 光学薄膜特性测量 ou6j*eSN  
12.1 薄膜光谱测量 =|0/Ynfe  
12.2 薄膜光学常数测量 d@>\E/zA  
12.3 薄膜应力测量 {!=2<-Aq  
12.4 薄膜损伤测量 M=%!IT  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 RgGA$HN/  
1nB@zBQu -  
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7) 0q--B  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
DHzkRCM  
内容简介 Wk[)+\WQ?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 _,Q[2gQ5N  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 xG%*PNM0q  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 e?<D F.Md+  
evOb  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
+/q0Y`v  
目录 /*P7<5n0  
Preface 1 qLRE}$P  
内容简介 2 b *9-}g:  
目录 i O+FBQiv  
1  引言 1 vYzVY\   
2  光学薄膜基础 2 1S*P"8N}0h  
2.1  一般规则 2 + *a7GttU  
2.2  正交入射规则 3 {!t=n   
2.3  斜入射规则 6 oKiD8':  
2.4  精确计算 7 owM mCR  
2.5  相干性 8 hbnS~sva  
2.6 参考文献 10 'w6hW7"L  
3  Essential Macleod的快速预览 10 CB]l[hM$  
4  Essential Macleod的特点 32 sVoR?peQ  
4.1  容量和局限性 33 %EoH4LzT  
4.2  程序在哪里? 33 } J(1V!EA  
4.3  数据文件 35 ~ B]jV$=  
4.4  设计规则 35 ?9S+Cj`  
4.5  材料数据库和资料库 37 8uA<G/Q;  
4.5.1材料损失 38 N 8}lt  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 VN+\>j-  
4.5.2 材料库 41 f".q9{+p,  
4.5.3导出材料数据 43 %M6 c0d[9-  
4.6  常用单位 43 +-P<CCvWz  
4.7  插值和外推法 46 @+t (xCv  
4.8  材料数据的平滑 50 6ZEdihBei  
4.9 更多光学常数模型 54 2Oi'E  
4.10  文档的一般编辑规则 55 .C?GW1[c~@  
4.11 撤销和重做 56 >13/h]3  
4.12  设计文档 57 >Bx8IO1_\d  
4.10.1  公式 58 ! tr9(d  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 -t>Z 9  
4.10.3  沉积密度 59 b[0S=e G  
4.10.4 平行和楔形介质 60 %`oHemSy  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ~#t*pOC5BR  
4.10.4  性能 61 xFX&9^Uk  
4.10.5  保存设计和性能 64 d<v~=  
4.10.6  默认设计 64 cIZ[[(Db  
4.11  图表 64 GEfY^! F+  
4.11.1  合并曲线图 67 3W'FcE)|E  
4.11.2  自适应绘制 68 1t#XQ?8  
4.11.3  动态绘图 68 ^Po,(iIn  
4.11.4  3D绘图 69 <S{7Ro  
4.12  导入和导出 73 QES^^PQe:  
4.12.1  剪贴板 73 U1kh-8  :  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 lG 8dI\`  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 1b+h>.gWar  
4.13  背景 77 b-4dsz 'ai  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 dm  2EH  
4.15  生成Rugate 84 `x*/UCy\  
4.16  参考文献 91 HT-PWk>2  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 l# BZzJ?~  
5.1  Jobs 92 ;L$,gn5H  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 + "zYn!0  
5.3  输入材料 94 nUqL\(UuY  
5.4  设计数据文件夹 95 \H[Yyp4  
5.5  默认设计 95 :ovt?q8">  
6  细化和合成 97 a_AJ)4  
6.1  优化介绍 97 *F..ZS'$[  
6.2  细化 (Refinement) 98 vgN@~Xa  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ?#i|>MRR>  
6.4  目标和评价函数 101 > '.[G:b  
6.4.1  目标输入 102 dXDXRY.FMQ  
6.4.2  目标 103 +9jivOmK  
6.4.3  特殊的评价函数 104 %VS 2M #f  
6.5  层锁定和连接 104 py.!%vIOQ  
6.6  细化技术 104 I<KCt2:X  
6.6.1  单纯形 105 ,A?{~?u.  
6.6.1.1 单纯形参数 106 FF jRf  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 V4Qz*z%  
6.6.2.1 Optimac参数 108 [lZ=s[n.  
6.6.3  模拟退火算法 109 CMFC"eS e  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 S NN#$8\  
6.6.4  共轭梯度 111 _C5nApb  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \ JG #m  
6.6.5  拟牛顿法 112 z :? :  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Gj*SPU  
6.6.6  针合成 113 L@+Z)# V  
6.6.6.1 针合成参数 114 Wy!uRzbBv  
6.6.7 差分进化 114 w7r'SCVh3+  
6.6.8非局部细化 115 ,k\/]9  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Zq^^|[)bA  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 vv!Bo~L1,  
6.7.1  细化 116 A^t"MYX@  
6.7.2  合成 117 sc9]sIb  
6.8  参考文献 117 dt0T t  
7  导纳图及其他工具 118 PQi }Evxa  
7.1  简介 118 eA1'qww"'  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 k}#@8n|b  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ^SgN(-QH  
7.2.2  导纳图 120 d0Tg qO{  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 |MVV +.X  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 'Z y{mq\  
7.5  斜入射导纳图 141 u!M& ;QL  
7.6  对称周期 141 8z?$t-DO  
7.7  参考文献 142 qR_SQ VN  
8  典型的镀膜实例 143 k~& o  
8.1  单层抗反射薄膜 145 oH=4m~'V  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 5R)[Ou.  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 G%Y*q(VrEu  
8.4  W-膜层 148 raSF3b/0  
8.5  V-膜层 149 p?}&)Un  
8.6  V-膜层高折射基底 150 NWeV>;lh9  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 @PKAz&0  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Zi ma^IL  
8.9  四层抗反射薄膜 153 @kS|Jz$iY  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 OW?uZ<z  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 x4@MO|C  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 O0-> sR  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 3F;EE:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 *Gf&q  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 7(H ?k  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 /\nJ  
8.17  1/4波长堆栈 162 g^qz&;R]  
8.18  陷波滤波器 163 Rz)v-Yu  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 dP?nP(l  
8.20  褶皱 165 L(W%~UGN V  
8.21  消偏振分光器1 169 hjw4Xzju  
8.22  消偏振分光器2 171 gfV]^v  
8.23  消偏振立体分光器 172 \A` gK\/h  
8.24  消偏振截止滤光片 173 $ V3n~.=  
8.25  立体偏振分束器1 174 y|$vtD%c  
8.26  立方偏振分束器2 177 u<x[5xH+  
8.27  相位延迟器 178 {`($Q$Q1  
8.28  红外截止器 179 *Rz!i m|  
8.29  21层长波带通滤波器 180 O}e|P~W  
8.30  49层长波带通滤波器 181 '9f6ZAnYpQ  
8.31  55层短波带通滤波器 182 A{G5Plrh  
8.32  47 红外截止器 183 lp?i_p/z  
8.33  宽带通滤波器 184 F@B  
8.34  诱导透射滤波器 186 HI}pX{.\  
8.35  诱导透射滤波器2 188 nZ"{y  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ?a*fy}A|  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 6s> sj7  
8.35  增益平坦滤波器 193 z]'|nX  
8.38  啁啾反射镜 1 196 #( $k 3OA  
8.39  啁啾反射镜2 198 >hHJ:5y  
8.40  啁啾反射镜3 199 U+(Z#b(Q  
8.41  带保护层的铝膜层 200 wgC??Be;ut  
8.42  增加铝反射率膜 201 y>DfM5>  
8.43  参考文献 202 [lmHXf@1C  
9  多层膜 204 (xI)"{   
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 H(  
9.2  内部透过率 204 8XLxT(YFIs  
9.3 内部透射率数据 205 6 Xzk;p  
9.4  实例 206 Gw{Gt]liq  
9.5  实例2 210 %@M00~-  
9.6  圆锥和带宽计算 212 n$XMsl.>  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Bl>_&A)  
10  光学薄膜的颜色 216 %i;r]z-  
10.1  导言 216 0sq=5 BnO  
10.2  色彩 216 #j(q/ T{x  
10.3  主波长和纯度 220 c#]'#+aH  
10.4  色相和纯度 221 U>e3_td3,  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 23(B43zy  
10.6 色差 226 i{Y=!r5r  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 :DS2zA  
10.8  颜色渲染指数 234 [Q2S3szbt6  
10.9  色差计算 235 ;t.SiA  
10.10  参考文献 236 z ^gDbXS  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 (mD-FR@#  
11.1  短脉冲 238 .WN;TjEg!  
11.2  群速度 239 > gA %MT  
11.3  群速度色散 241 ;oN{I@}k  
11.4  啁啾(chirped) 245 wgSR*d>y*9  
11.5  光学薄膜—相变 245 clPZd  
11.6  群延迟和延迟色散 246 sR7{i  
11.7  色度色散 246 BN<#x@m$]  
11.8  色散补偿 249 m'G?0^Ft  
11.9  空间光线偏移 256 \NvC   
11.10  参考文献 258 pfJVE  
12  公差与误差 260 n?<# {$  
12.1  蒙特卡罗模型 260 UUdu;3E=5  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 T U"K#V&u  
12.2.1  误差工具 267 Pj1K  
12.2.2  灵敏度工具 271 bc0)'a\  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 mh!N^[=n  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 eR#gG^o8  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 'O\d<F.c$2  
12.3  参考文献 276 Z9 ;nC zHm  
13  Runsheet 与Simulator 277 |k['wqn"  
13.1  原理介绍 277 Mip m&5R  
13.2  截止滤光片设计 277 tk3<sr"IQ  
14  光学常数提取 289 "NX m\`8  
14.1  介绍 289 {kRDegby  
14.2  电介质薄膜 289 ^a:vJ)WB7  
14.3  n 和k 的提取工具 295 .g(\B  
14.4  基底的参数提取 302 4 _c:Vl  
14.5  金属的参数提取 306 vV:M S O'r  
14.6  不正确的模型 306 ,oBk>  
14.7  参考文献 311 -N-4l  
15  反演工程 313 Nj3^"}V  
15.1  随机性和系统性 313 Oo3qiw  
15.2  常见的系统性问题 314 "c! oOaA  
15.3  单层膜 314 &2<&X( )  
15.4  多层膜 314 fY,@2VxyfA  
15.5  含义 319 Hb@G*L$  
15.6  反演工程实例 319 eaYkYuS/  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 NbQMWU~7  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 V{AH\IV-  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 AK*mcTr  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ziB]S@U  
16.2  应力工具 335 uV/HNzC  
16.3  均匀性误差 339 Yt O@n@1  
16.3.1  圆锥工具 339 +,{Wcb  
16.3.2  波前问题 341 %1 VNP(E  
16.4  参考文献 343 O0=,&=i  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 **w*hd]  
17.1  引言 345 cc2oFn  
17.2  操作数 345 0Z1H6qn  
18  如何在Function中编写脚本 351 q. ,p6D  
18.1  简介 351 r:8]\RU  
18.2  什么是脚本? 351 ~H yyq-  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 jV|$? Rcl%  
18.4  基础 352 ==e#CSJq  
18.4.1  Classes(类别) 352 cV=_G E  
18.4.2  对象 352 uz#eO|z@o  
18.4.3  信息(Messages) 352 ;+TF3av0zq  
18.4.4  属性 352 ~\@<8@N2a6  
18.4.5  方法 353  K+`-[v5\  
18.4.6  变量声明 353 i Ks,i9j  
18.5  创建对象 354 n|4D#Bd1w  
18.5.1  创建对象函数 355 #by9D&QP]  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 v{rK_jq  
18.5.3 丢弃对象 356 n[MIa]dK  
18.5.4  总结 356 u=v%7c2Mx}  
18.6  脚本中的表格 357 [ilv/V<  
18.6.1  方法1 357 abJ@>7V  
18.6.2  方法2 357 qqom$H<  
18.7 2D Plots in Scripts 358 x4HMT/@AG2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 !+|N<`  
18.9  注释 360 0P%|)Ae  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ,T21z}r  
18.11  一个更高级的脚本 362 q:~`7I  
18.12  <esc>键 364 5S-o 2a  
18.13 包含文件 365 ]RrP !|^  
18.14  脚本被优化调用 366 (zTI)EV  
18.15  脚本中的对话框 368 He71h(BHm  
18.15.1  介绍 368 lA Ck$E  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 yY@ s(:  
18.15.3  输入框函数 370 ,d [b"]Zy  
18.15.4  自定义对话框 371 +O!M>  
18.15.5  对话框编辑器 371 g`5`KU|  
18.15.6  控制对话框 377 <cfH '~  
18.15.7  更高级的对话框 380 j2{,1hj  
18.16 Types语句 384 {,  *Y  
18.17 打开文件 385 2Fp]S a  
18.18 Bags 387 O"s`-OM;n  
18.13  进一步研究 388 ^s(X VVA  
19  vStack 389 LN3dp?;_{  
19.1  vStack基本原理 389 84oW  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 |>o0d~s  
19.3  五棱镜 393 "/K&qj  
19.4 光束距离 396 <}Wy;!L  
19.5 误差 399 'B<qG<>  
19.6  二向分色棱镜 399 n XeK,C  
19.7  偏振泄漏 404 8|-mzb&  
19.8  波前误差—相位 405 D@b<}J>0'  
19.9  其它计算参数 405 xP/1@6]_Je  
20  报表生成器 406 f$S QhK5`  
20.1  入门 406 m)]fJ_  
20.2  指令(Instructions) 406 \|>`z,;  
20.3  页面布局指令 406 n.qxxzEN  
20.4  常见的参数图和三维图 407 &F*QYz[  
20.5  表格中的常见参数 408 e'?d oP  
20.6  迭代指令 408 a$! {Tob2  
20.7  报表模版 408 ]gZ8b- 2O  
20.8  开始设计一个报表模版 409 7pI \`*7b  
21  一个新的project 413 _d=&9d#=\  
21.1  创建一个新Job 414 ; # ?0#):-  
21.2  默认设计 415 VU0tyj$  
21.3  薄膜设计 416 zQj%ds:  
21.4  误差的灵敏度计算 420 JQh s=Xg  
21.5  显色指数计算 422 m<'xlF  
21.6  电场分布 424 $}nUK~$GSv  
后记 426 Rd1ku=  
,vdP #:  
3w:Z4]J  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 tDLk ZCP  
@G$<6CG\  
《Essential Macleod中文手册》
\NQ)Po@z  
2:5gMt  
目  录 +=H>s;B  
^Er`{|o6u  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A%w]~ chC9  
第1章 介绍 ..........................................................1 WT!\X["FI$  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 I~ ]mX;  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6  nIDsCu=A  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 n]fbV/ x  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 /uz5V/i0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 68GGS`&  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62  t-x"(  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 +2fJ  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 `"b7y(M  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Z *<x  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ;I))gY-n  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 pBnf^Ew1  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 j.N\U#3KK  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3XlnI:w =  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 *|#JFy?c[  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 v9`B.(Ru  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 a<"& RnG(  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 iE gM ~  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 R}6la.mQ  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 xPJJ !mY  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 o3=S<|V  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 n@,eZ!  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ;AB,:*  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 "/Q(UV<d  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 KdMA58)  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 8lGgp&ey  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 <H@!Xw;  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 {ro!OuA  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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