线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:914
时间地点 ^/6P~iK'  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 b kc*it  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 X&kp1Ih<^  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 K yyVO"  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 x NjQ"'i8  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
shw"TF>?zG  
特邀专家介绍 +*Z'oCBJ,  
jJ-C\ v  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 reNf?7G+m  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 .6T0d 4,1  
课程概要 R :(-"GW'  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 J8i,[,KcE  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 i/skU9  
课程大纲 Ix}6%2\  
1. Essential Macleod软件介绍 1]eRragm"  
1.1 介绍软件 7F6 B  
1.2 创建一个简单的设计 [`oVMR  
1.3 绘图和制表来表示性能 <e?Eva%t`  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 8#V D u(  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) S1I.l">P  
1.6 特定设计的公式技术 hxK;f  
1.7 交互式绘图 fBctG~CJH  
2. 光学薄膜理论基础 n=bdV(?4  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {?5iK1|}K  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 R"9w VM;*c  
3. 材料管理 huS*1xl  
3.1 材料模型 A+gS'DZ9C  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 :)D7_[i  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 e).;;0  
3.4 基板光学常数的提取 Y#XRn _2D  
4. 光学薄膜设计优化方法 QxdC[t$Lp  
4.1 参考波长与g ($kw*H{Ah^  
4.2 四分之一规则 ?h&?`WO (  
4.3 导纳与导纳图 )S(Ly.  
4.4 斜入射光学导纳 )t"-#$,@  
4.5 光学薄膜设计的进展 "GQ Q8rQ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 @qan&?-Y  
4.6.1 优化目标设置 <JH,B91  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) z-606g  
4.6.3 膜层锁定和链接 bY=[ USgps  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 )?UoF&c/  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 3_Xu3hNH!  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 O"+0 b|  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $q)YC.5$  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 UJSIbb5  
5.5 如何在Function中编写脚本 -]HZ?@  
6. 光学薄膜系统案例 sHc-xnd  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Lr D@QBT  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 t+iHsCG)>  
6.3 Stack应用范例说明 1QG q;6\  
7. 薄膜性能分析 5C9b*]-#  
7.1 电场分布 =I546($  
7.2 公差与灵敏度分析 kuy?n-1g  
7.3 反演工程 B(++*#T!^m  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ZQ_6I}i")  
8. 真空技术 T5."3i  
8.1 常用真空泵介绍 Ly+UY.v"  
8.2 真空密封和检漏 !T][c~l  
9. 薄膜制备技术 3@Mh* \;\b  
9.1 常见薄膜制备技术 5 tQz!M  
10. 薄膜制备工艺 mGj)Zrx>  
10.1 薄膜制备工艺因素 O*~z@"\  
10.2 薄膜均匀性修正技术 %7)TiT4V  
10.3 光学薄膜监控技术 W&*&O,c  
11. 激光薄膜 {h7 vJ^  
11.1 薄膜的损伤问题 ovTL'j!  
11.2 激光薄膜的制备流程 B5;%R01A  
11.3 激光薄膜的制备技术 ,UMr_ e{|  
12. 光学薄膜特性测量 w3(|A> s3  
12.1 薄膜光谱测量 iVI&  
12.2 薄膜光学常数测量 oCa Ymi=:  
12.3 薄膜应力测量 p)yP_P  
12.4 薄膜损伤测量 gmRc4o  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 3!{imQT  
!S':G  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
)}`z<)3jP  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
2!J#XzR0W  
内容简介 1@}F8&EZ  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 hpF_@n  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 h#hr'3bI1  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rMDvnF  
PN l/}'  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
O8@65URKx  
目录 t<p#u=jOa  
Preface 1 vPNbV  
内容简介 2 h9H z6 >  
目录 i @|anu&Hm  
1  引言 1 #c^]p/  
2  光学薄膜基础 2 x|0C0a\"A  
2.1  一般规则 2 G&g;ROgY  
2.2  正交入射规则 3 $*#^C;7O  
2.3  斜入射规则 6 89FAh6uE  
2.4  精确计算 7 \34vE@V*  
2.5  相干性 8 BV~J*e  
2.6 参考文献 10 !E 5FU *s  
3  Essential Macleod的快速预览 10 :W*yfhLt  
4  Essential Macleod的特点 32 u /F!8#  
4.1  容量和局限性 33 F?Lt-a+  
4.2  程序在哪里? 33 avRtYL  
4.3  数据文件 35 f1 x&Fk  
4.4  设计规则 35 T7 ,]^ 1  
4.5  材料数据库和资料库 37 (u@:PiU/eP  
4.5.1材料损失 38 Ek)drt7cy  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 6!m#;8 4  
4.5.2 材料库 41 2LtDS?)@  
4.5.3导出材料数据 43 c4tw)O-X  
4.6  常用单位 43 1!v{#w{u7  
4.7  插值和外推法 46 ka9@7IFM  
4.8  材料数据的平滑 50 R5uG.Oj-2  
4.9 更多光学常数模型 54 6nW)2LV  
4.10  文档的一般编辑规则 55 /4an@5.\C  
4.11 撤销和重做 56 %GhI0F #  
4.12  设计文档 57 ~XTC:6ts  
4.10.1  公式 58 $gUlM+sK  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 S0^a)#D &  
4.10.3  沉积密度 59 t eY@) F  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ,UY1.tR(  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 i/9iM\2  
4.10.4  性能 61 c;VqEpsbl  
4.10.5  保存设计和性能 64 mJUM#ry  
4.10.6  默认设计 64 )zr*Ecz  
4.11  图表 64 {rKC4:  
4.11.1  合并曲线图 67 hC\ l \y  
4.11.2  自适应绘制 68 +8Lbz^#  
4.11.3  动态绘图 68 NU=ru/  
4.11.4  3D绘图 69 3a?-UT!  
4.12  导入和导出 73 f$C{Z9_SX  
4.12.1  剪贴板 73 ~Gu$E qQ  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 8fXiadP#  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 qbv\uYow3k  
4.13  背景 77 kUd]8Ff!  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 FiUQ2w4  
4.15  生成Rugate 84 -5<[oBL;  
4.16  参考文献 91 6.D|\;9{c  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 E_ns4k#uG  
5.1  Jobs 92 nI*.(+h  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 G4cgY|71  
5.3  输入材料 94 i>Q!5  
5.4  设计数据文件夹 95 ;'7(gAE  
5.5  默认设计 95 ` B)@  
6  细化和合成 97 /$c87\  
6.1  优化介绍 97 YYe G9yR  
6.2  细化 (Refinement) 98 FzInIif  
6.3  合成 (Synthesis) 100 TjUwe@&Rw  
6.4  目标和评价函数 101 h&>3;Lj  
6.4.1  目标输入 102 ZNQ x;51  
6.4.2  目标 103 B>53+GyMV  
6.4.3  特殊的评价函数 104 4IeCb?  
6.5  层锁定和连接 104 m!<HZvq?vf  
6.6  细化技术 104 %(YQ)=w  
6.6.1  单纯形 105 xKUL}>8  
6.6.1.1 单纯形参数 106 mLhM_=  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 p!UR;xHI\  
6.6.2.1 Optimac参数 108 P 45Irir  
6.6.3  模拟退火算法 109 b$_81i  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 WNyW1?"  
6.6.4  共轭梯度 111 \,#$,dUXD  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 c{M ,K  
6.6.5  拟牛顿法 112 j, 0`k  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 `c  
6.6.6  针合成 113  &K/?#  
6.6.6.1 针合成参数 114 FLi'}C  
6.6.7 差分进化 114 #3&@FzD_P  
6.6.8非局部细化 115 W==~ 9  
6.6.8.1非局部细化参数 115 6 5g ovor  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 :K| H/kht  
6.7.1  细化 116 OC=&!<  
6.7.2  合成 117 RAW;ze*"  
6.8  参考文献 117 oIhKMQ;jh  
7  导纳图及其他工具 118 ofy"SM  
7.1  简介 118 cN,*QN  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 $bTtD<a  
7.2.1  四分之一波长规则 119 {7M++J=  
7.2.2  导纳图 120 Q %o@s3~O  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _Y; TS1u  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 (nqry[g&  
7.5  斜入射导纳图 141 !T0I; j&  
7.6  对称周期 141 N~)-\T:ap  
7.7  参考文献 142 =D1  
8  典型的镀膜实例 143 a"jE\OZ{+s  
8.1  单层抗反射薄膜 145 rpow@@ad<  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 s=8H< 'l  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 }5 rR^ryA  
8.4  W-膜层 148 > 80{n8  
8.5  V-膜层 149 ]C \+b <  
8.6  V-膜层高折射基底 150 NEq_!!/sF  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 <h#*wy:o2  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *'Yy@T8M  
8.9  四层抗反射薄膜 153 p2STy\CS  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 8V:;HY#  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 F-m%d@P&X  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 d/d)MoaJ*t  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ]_s3<&R  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 \YvG+7a  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 hr vTFJ  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 '@{:Fr G*U  
8.17  1/4波长堆栈 162 Bu:%trlgV  
8.18  陷波滤波器 163 gFaZ ._  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 &da=hc,>%  
8.20  褶皱 165 "to!&@I| 4  
8.21  消偏振分光器1 169 x=*&#; Y|  
8.22  消偏振分光器2 171 =$'>VPQ  
8.23  消偏振立体分光器 172 @O#!W]6NT6  
8.24  消偏振截止滤光片 173 B!RfPk1B<*  
8.25  立体偏振分束器1 174 e;.,x 5+  
8.26  立方偏振分束器2 177 *;A ;)'  
8.27  相位延迟器 178 ](r}`u%}y  
8.28  红外截止器 179 ~5HkDtI)  
8.29  21层长波带通滤波器 180 JQQyl:=  
8.30  49层长波带通滤波器 181 6"-$WUlg  
8.31  55层短波带通滤波器 182 2 }xePX9?  
8.32  47 红外截止器 183 ^Om}9rXw1  
8.33  宽带通滤波器 184 Zl>SeTjB-  
8.34  诱导透射滤波器 186 _pdKcE\X  
8.35  诱导透射滤波器2 188 @ m`C%7<  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 \+o\wTW  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 +#IUn  
8.35  增益平坦滤波器 193 <nk|Z'G E  
8.38  啁啾反射镜 1 196 opa/+V3E4  
8.39  啁啾反射镜2 198 c9/w{}F  
8.40  啁啾反射镜3 199 E1QJ^]MG.  
8.41  带保护层的铝膜层 200 mb*Yw 6q  
8.42  增加铝反射率膜 201 s<k[<  
8.43  参考文献 202 j7!u;K^c  
9  多层膜 204 ZKi&f,:  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 #BRIp(65-6  
9.2  内部透过率 204 7 A0?tG  
9.3 内部透射率数据 205 0,hs %x>v  
9.4  实例 206 ?N{\qF1Mz  
9.5  实例2 210 r5j$FwY  
9.6  圆锥和带宽计算 212 alJ0gc2?  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 {K|?i9K  
10  光学薄膜的颜色 216 R0?bcP&  
10.1  导言 216 24wDnDyh  
10.2  色彩 216 *;Kp"j  
10.3  主波长和纯度 220 Qa2h#0j  
10.4  色相和纯度 221 Dl>tF?=  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 l!p`g>$&f  
10.6 色差 226 FVXsu!R  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ,:Px(=d4  
10.8  颜色渲染指数 234 S?v/diK ]J  
10.9  色差计算 235 JC'3x9_<z  
10.10  参考文献 236 3,p!Fun:r  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 5*z>ez2YQ7  
11.1  短脉冲 238 <EC"E #p  
11.2  群速度 239 ;f%@s1u  
11.3  群速度色散 241 Hzz{wY   
11.4  啁啾(chirped) 245 C^q|(G)  
11.5  光学薄膜—相变 245 Z=% j|xE_  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Le#srr  
11.7  色度色散 246 a 4?A 5  
11.8  色散补偿 249 XL*M#Jx  
11.9  空间光线偏移 256 W*LC3B^  
11.10  参考文献 258 |lhnCShw  
12  公差与误差 260 Ug*B[q/  
12.1  蒙特卡罗模型 260 xOkduk]  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Y1cL dQn  
12.2.1  误差工具 267 ]t<=a6 <P  
12.2.2  灵敏度工具 271 rQv5uoD  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 s8 WB!x{t  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 _qB ._  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 t'K+)OK  
12.3  参考文献 276 | V(sCF  
13  Runsheet 与Simulator 277 yl$Ko  
13.1  原理介绍 277 bg~CV&]M  
13.2  截止滤光片设计 277 X1w11Z7o  
14  光学常数提取 289 Q7x[08TI  
14.1  介绍 289 F w{:shC  
14.2  电介质薄膜 289 |k~AGc  
14.3  n 和k 的提取工具 295 }8^qb5+!3  
14.4  基底的参数提取 302 -#I]/7^  
14.5  金属的参数提取 306 vapC5,W"2-  
14.6  不正确的模型 306 wXQu%F3  
14.7  参考文献 311 NFVu~t  
15  反演工程 313 2wpJ)t*PF  
15.1  随机性和系统性 313 2>jk@~Z1:u  
15.2  常见的系统性问题 314 !$n@:W/  
15.3  单层膜 314 FKL4`GEm  
15.4  多层膜 314 ]2u   
15.5  含义 319 <?A4/18K  
15.6  反演工程实例 319 `GE8?UO-  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320  Ht.P670  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 -+F,L8  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 NioqJG?p  
16.1  光学性质的热致偏移 329 u""26k51  
16.2  应力工具 335 =?|$}vDO[  
16.3  均匀性误差 339 cPcH 8Vd  
16.3.1  圆锥工具 339 emQc%wd{  
16.3.2  波前问题 341 v RD/67  
16.4  参考文献 343 >!5RY8+  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 pYcs4f!?p  
17.1  引言 345 zgFL/a<  
17.2  操作数 345 cQ1[x>OcU  
18  如何在Function中编写脚本 351 QE/kR!r  
18.1  简介 351 l|+$4 Nb2  
18.2  什么是脚本? 351 _L=-z*a\  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ;):;H?WS|A  
18.4  基础 352 '-myOM7  
18.4.1  Classes(类别) 352 T=/c0#Q|q  
18.4.2  对象 352 8$c) ]Bv  
18.4.3  信息(Messages) 352 e <+)IW:  
18.4.4  属性 352 V|A)f@ Fs  
18.4.5  方法 353 vcW(?4e  
18.4.6  变量声明 353 HG /fp<[   
18.5  创建对象 354 BoT#b^l  
18.5.1  创建对象函数 355 io\t>_  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 N?c~AEk9U  
18.5.3 丢弃对象 356 U _pPI$ =  
18.5.4  总结 356 Lp%J:ogV`  
18.6  脚本中的表格 357 p+Q9?9  
18.6.1  方法1 357 F u5zj\0J  
18.6.2  方法2 357 B _ J2Bf  
18.7 2D Plots in Scripts 358 m>Z3p7!N}  
18.8 3D Plots in Scripts 359 8'E7Uj  
18.9  注释 360 qJ5b;=  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ) YB'W_  
18.11  一个更高级的脚本 362 nKd'5f1  
18.12  <esc>键 364 t[;-gi,,  
18.13 包含文件 365 6  _V1s1F  
18.14  脚本被优化调用 366 pj7a l;  
18.15  脚本中的对话框 368 7 2i&-`&4  
18.15.1  介绍 368 {|$kI`h,3-  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 s Y4w dG  
18.15.3  输入框函数 370 s5v}S'uO{  
18.15.4  自定义对话框 371 LRw-I.z  
18.15.5  对话框编辑器 371 qYoU\y7  
18.15.6  控制对话框 377 pFs/ipZX^*  
18.15.7  更高级的对话框 380 A;X3z-[[  
18.16 Types语句 384 d l Ab`ne  
18.17 打开文件 385 ^f N/  
18.18 Bags 387 % dtn*NU  
18.13  进一步研究 388 'h;qI&  
19  vStack 389 QeT~s5 H  
19.1  vStack基本原理 389 2f{p$YIt  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 1Z?uT[kR  
19.3  五棱镜 393 ;Tk/}Od!VN  
19.4 光束距离 396 f/z]kfgw  
19.5 误差 399 SnX)&>B  
19.6  二向分色棱镜 399 OI0@lSAo<  
19.7  偏振泄漏 404 %qqCpg4  
19.8  波前误差—相位 405 ;d fIzi  
19.9  其它计算参数 405 mz x$(u  
20  报表生成器 406 pm9sI4S  
20.1  入门 406 G,+3(C  
20.2  指令(Instructions) 406 ~233{vh$=>  
20.3  页面布局指令 406 45BpZ~-  
20.4  常见的参数图和三维图 407 9]T61Z{OW1  
20.5  表格中的常见参数 408 %p7onwKq0  
20.6  迭代指令 408 T+gH38!e  
20.7  报表模版 408 ?ecR9X k  
20.8  开始设计一个报表模版 409 3A0Qjj=  
21  一个新的project 413 mQt0?c _  
21.1  创建一个新Job 414 2zbn8tO  
21.2  默认设计 415 d~6UJ=]@8  
21.3  薄膜设计 416 w`< {   
21.4  误差的灵敏度计算 420 O9<oq  
21.5  显色指数计算 422 F( /Ka@  
21.6  电场分布 424 } gwfe H  
后记 426 +2p}KpOsL  
1:yil9.\*  
eu]qgtg~U  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》  jrS$!cEo  
=b"{*Heuw  
《Essential Macleod中文手册》
v=dK2FaY  
 6cjCn  
目  录 xFIzq  
7$Wbf4  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 2B)1 tP  
第1章 介绍 ..........................................................1 <e S+3,  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 .=yv m  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Z<=L  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Q t>|TGz  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ;gAL_/_  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 6wbH{}\ll  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 vxi_Y\r=T  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 2dB]Lw@s  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 0ap'6  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 9D,!]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 e]dFNunFq0  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 A5\ Hq  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149  > T:0  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 &Cm]*$?  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 oLq N  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ~e)"!r  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 GjN6Af~}  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 I#]pk!  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 De{ZQg)  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 X f;R'a,$  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 0DnOO0Nc  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ~>_UTI  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 zK_P3r LsS  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 t.\Pn4  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 +!:=Mm  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 +M#}(hK  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Eg}U.ss^  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /2*Bd E[yG  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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