线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1324
时间地点 ;}k_  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 z]j_,3Hff  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 o@YEd d  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Kc+9n%sp  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 [ * !0DW`  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
9xL` i-7]  
特邀专家介绍 w7~&Xxa/  
F0'8n6zj  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 uC2 5pH"  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。  0 - u,AD  
课程概要 zF&_9VNk=c  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 l!IN#|{(  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 P+,YWp  
课程大纲 nDNK}O~'  
1. Essential Macleod软件介绍 >,f5 5  
1.1 介绍软件 e(9K.3 @{  
1.2 创建一个简单的设计 G ahY+$L,  
1.3 绘图和制表来表示性能 )XYCr<s2"  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 -U@ycx|r  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) axv-U dE;  
1.6 特定设计的公式技术 H)K.2Q  
1.7 交互式绘图 / q^_ 'Lp  
2. 光学薄膜理论基础 +Xmza8T9  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 epP_~TU  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ' &Nv|v\V  
3. 材料管理 W;8}`k  
3.1 材料模型 ]jV1/vJ-!  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 RR>G}u9 np  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Sbj{)  
3.4 基板光学常数的提取 :Y)G-:S+  
4. 光学薄膜设计优化方法 = {~A} X01  
4.1 参考波长与g ~%sNPKjA  
4.2 四分之一规则 wT:mfS09N  
4.3 导纳与导纳图 C3; d.KlV  
4.4 斜入射光学导纳 1["IT.,f.  
4.5 光学薄膜设计的进展 sA+( |cEh  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 p0HcuB)Y  
4.6.1 优化目标设置 7Y^2JlZu=  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 0|?DA12Z  
4.6.3 膜层锁定和链接 Chtls;Ph[  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 mMad1qCi7  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 wA6<Buj D  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 jDW$}^ 6  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 b>| d Q  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 _Tf0L<A'R  
5.5 如何在Function中编写脚本 |l,0bkY@&  
6. 光学薄膜系统案例 F/D/1w^ iR  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 iRL|u~bj  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 r D|Bj(X8  
6.3 Stack应用范例说明 \X;)Kt"  
7. 薄膜性能分析 _u;34H&/  
7.1 电场分布 _"qX6Jc  
7.2 公差与灵敏度分析 _i0,?U2C  
7.3 反演工程 E D_J8 +  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Xyw;Nh!!d  
8. 真空技术 E\~!E20^  
8.1 常用真空泵介绍 5Veybchy "  
8.2 真空密封和检漏 xQ8?"K;iX  
9. 薄膜制备技术 M\=/i\-  
9.1 常见薄膜制备技术 xx,|n  
10. 薄膜制备工艺 1$uO%  
10.1 薄膜制备工艺因素 7XiR)jYo*  
10.2 薄膜均匀性修正技术 wU5= '  
10.3 光学薄膜监控技术 u]t#Vf-$u  
11. 激光薄膜 AO0aOX8_+D  
11.1 薄膜的损伤问题 CS Isi]H  
11.2 激光薄膜的制备流程 /Y*6mQ:  
11.3 激光薄膜的制备技术 Vxim$'x!  
12. 光学薄膜特性测量 )}T0SGY  
12.1 薄膜光谱测量 9 X87"  
12.2 薄膜光学常数测量 ~H`(zzk  
12.3 薄膜应力测量 c+]5[6  
12.4 薄膜损伤测量 k0-,qM#p;X  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 %2rUJaOgy$  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 WJw %[_W  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 98t|G5  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 qvN 5[rb  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 !8OUH6{2  
JJE0q5[  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
-'::$ {  
目录 !\N|$-M  
Preface 1 sqk$q pV6  
内容简介 2 v/}h y$7  
目录 i OwG:+T_  
1  引言 1 oA $]%  
2  光学薄膜基础 2 <}^l MBa  
2.1  一般规则 2 tU(vt0~b  
2.2  正交入射规则 3 4Awl  
2.3  斜入射规则 6 5SmgE2}  
2.4  精确计算 7 @`#"6y?  
2.5  相干性 8 aT%6d@g  
2.6 参考文献 10 %%Z|6V74  
3  Essential Macleod的快速预览 10 **lT ' D  
4  Essential Macleod的特点 32 >-<7 r?~  
4.1  容量和局限性 33 BJ7m3[lz  
4.2  程序在哪里? 33 FQ6{NMz,h  
4.3  数据文件 35 nV+]jQ~o  
4.4  设计规则 35 p+d?k"WN?  
4.5  材料数据库和资料库 37 ,[0rh%%j  
4.5.1材料损失 38 {w|KWGk2  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 \H$j["3  
4.5.2 材料库 41 CGN:=D<  
4.5.3导出材料数据 43 dEM=U;  
4.6  常用单位 43 $4*k=+wS  
4.7  插值和外推法 46 t(?tPt4zp  
4.8  材料数据的平滑 50 \Dn an5H/  
4.9 更多光学常数模型 54 Na2n4x!  
4.10  文档的一般编辑规则 55 yW)X asn  
4.11 撤销和重做 56 =f{YwtG  
4.12  设计文档 57 f8?c[%br  
4.10.1  公式 58 /J0ctJ2k  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ITu5Y"x  
4.10.3  沉积密度 59 H@pF3gh  
4.10.4 平行和楔形介质 60 a#:K"Mf.  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 W-ll2b  
4.10.4  性能 61 ia}V8i  
4.10.5  保存设计和性能 64 $+.!(Js"K  
4.10.6  默认设计 64 gw);b)&mx  
4.11  图表 64 b(.,Ex]  
4.11.1  合并曲线图 67 ~g[<A?0=y  
4.11.2  自适应绘制 68 Y>: e4Q  
4.11.3  动态绘图 68 gzD NMM  
4.11.4  3D绘图 69 O*zF` 9  
4.12  导入和导出 73 4P\?vz"  
4.12.1  剪贴板 73 2pQdDbm  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 F-2&P:sjQ  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 qC aM]Y  
4.13  背景 77 t)/:VImY  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 L 2:N@TP  
4.15  生成Rugate 84 3m9ab"  
4.16  参考文献 91 8f0Ytfhw  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 t&99ZdE  
5.1  Jobs 92 !Cv:,q  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Lw!Q*3c  
5.3  输入材料 94 9!06R-h  
5.4  设计数据文件夹 95 nY[]k p@  
5.5  默认设计 95 XY1e eB-  
6  细化和合成 97 ,:1_I`d>#X  
6.1  优化介绍 97 bAa+MB#A  
6.2  细化 (Refinement) 98 8S_v} NUm  
6.3  合成 (Synthesis) 100 :>'4@{'   
6.4  目标和评价函数 101 j >wT-s  
6.4.1  目标输入 102 %[9d1F 3  
6.4.2  目标 103 V!94I2%#x  
6.4.3  特殊的评价函数 104 lZa L=HS#L  
6.5  层锁定和连接 104 ?Q XS?  
6.6  细化技术 104 M(_1'2  
6.6.1  单纯形 105 OAhCW*B  
6.6.1.1 单纯形参数 106 LT ZoO9O  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 LYv$U;*+  
6.6.2.1 Optimac参数 108 a;2Lgv0/  
6.6.3  模拟退火算法 109  %wYGI  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 aF~ 0\XC  
6.6.4  共轭梯度 111 ;ESuj'*t  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 yA/b7x-c  
6.6.5  拟牛顿法 112 s$s]D\N  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 wwtk6;8@  
6.6.6  针合成 113 vQ/&iAyut  
6.6.6.1 针合成参数 114 ZKv^q%92  
6.6.7 差分进化 114 \!["U`\.K  
6.6.8非局部细化 115 x3JX}yCX  
6.6.8.1非局部细化参数 115 &Jr~ )o   
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ^mu?V-4  
6.7.1  细化 116 J,bE[52  
6.7.2  合成 117 SbLx`]rI  
6.8  参考文献 117 *Hnk,?kPq  
7  导纳图及其他工具 118 Y0||>LX  
7.1  简介 118 0m|$ vb  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 'NJCU.lKm  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ;c-J)Ky  
7.2.2  导纳图 120 ];.H]TIc6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +s}"&IV%  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,c%>M^d  
7.5  斜入射导纳图 141 )K4A-9pC  
7.6  对称周期 141 ].j;d2xT\  
7.7  参考文献 142 j5,vSh~q;'  
8  典型的镀膜实例 143 86s.qPB0  
8.1  单层抗反射薄膜 145 pD+_ K  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 i9NUv3#  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 k|^e=I   
8.4  W-膜层 148 f\ wP}c'  
8.5  V-膜层 149 n6PXPc  
8.6  V-膜层高折射基底 150 J~6-}z   
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 4&Q.6HkL  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ccUq!1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 w!0`JPu  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 /5ngPHy&  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8u,f<XHi"a  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 !z !R)6  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 +w ;2kw  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 c&1:H1#  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 p?mQ\O8F  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 a)+;<GZ~  
8.17  1/4波长堆栈 162 ,Qgxf';+$  
8.18  陷波滤波器 163 ;E8.,#/a  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 io[$QTY  
8.20  褶皱 165 r*|#*"K"a  
8.21  消偏振分光器1 169 f_*Bd.@  
8.22  消偏振分光器2 171 `wJR^O!e  
8.23  消偏振立体分光器 172 p nS{W \Q  
8.24  消偏振截止滤光片 173 K[%)_KW  
8.25  立体偏振分束器1 174 o<*H!oyP\  
8.26  立方偏振分束器2 177 d66 GO];"  
8.27  相位延迟器 178 4,o|6H  
8.28  红外截止器 179 pNN6PsLt  
8.29  21层长波带通滤波器 180 *CHLs^)   
8.30  49层长波带通滤波器 181 LRqBP|bjCD  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Q3t9J"=1g  
8.32  47 红外截止器 183 %1uY  
8.33  宽带通滤波器 184 CzF#feTA  
8.34  诱导透射滤波器 186 N|n"JKw)  
8.35  诱导透射滤波器2 188 [xF(t @p  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 }n+#o!uEf  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 W0]W[b,:u$  
8.35  增益平坦滤波器 193 b<|l* \  
8.38  啁啾反射镜 1 196 SjT8 eH #  
8.39  啁啾反射镜2 198 jl;%?bx  
8.40  啁啾反射镜3 199 Sga/i?!  
8.41  带保护层的铝膜层 200 @z8,XW }  
8.42  增加铝反射率膜 201 [NE:$@  
8.43  参考文献 202 kKU,|> 3h  
9  多层膜 204 'N?,UtG R  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 pDGX$1O"  
9.2  内部透过率 204 G@Z,Hbgm  
9.3 内部透射率数据 205 "r6DZi(^K  
9.4  实例 206 qVOlUH  
9.5  实例2 210 01n5]^.p  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ,&Iw5E[  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 eIEr\X4\~~  
10  光学薄膜的颜色 216 i ez@j  
10.1  导言 216 S]kY'(V(*  
10.2  色彩 216 S&y(A0M  
10.3  主波长和纯度 220 >[]@Df,p  
10.4  色相和纯度 221 m{(G%n>E&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 EgAM,\  
10.6 色差 226 8+ P)V4}  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 #&JhA2]q  
10.8  颜色渲染指数 234 #HjiE  
10.9  色差计算 235 `GsFvxz  
10.10  参考文献 236 oMH-mG7:K  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 }%K)R 5C  
11.1  短脉冲 238 0{0|M8  
11.2  群速度 239 o1x IGP<  
11.3  群速度色散 241 > YHwWf-  
11.4  啁啾(chirped) 245 h rL_. 4  
11.5  光学薄膜—相变 245 KkVFY+/)  
11.6  群延迟和延迟色散 246 %SW"{GnO ^  
11.7  色度色散 246 3urL*Fw,  
11.8  色散补偿 249 y8=(k}=3  
11.9  空间光线偏移 256 Q;]g9T[)  
11.10  参考文献 258 ^oNk}:>  
12  公差与误差 260 [42vO  
12.1  蒙特卡罗模型 260 @D<q=:k  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 R5iv]8X4W  
12.2.1  误差工具 267 's.%rre%  
12.2.2  灵敏度工具 271 iNn]~L1  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 1&S34wJF  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 <ob+Ano$  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Z83A1`!.|  
12.3  参考文献 276 $3aq+w:  
13  Runsheet 与Simulator 277 7Sc._G{[%  
13.1  原理介绍 277 aJ[K'5|  
13.2  截止滤光片设计 277 /s91[n(d  
14  光学常数提取 289 %y( oY  
14.1  介绍 289 q9GSUkb  
14.2  电介质薄膜 289 9,h'cf`F  
14.3  n 和k 的提取工具 295 yH\z+A|  
14.4  基底的参数提取 302 OGgP~hd  
14.5  金属的参数提取 306 QLx]%E\  
14.6  不正确的模型 306 h,:8TMJRRN  
14.7  参考文献 311 1 J3h_z6/  
15  反演工程 313 p~ `f.q$'  
15.1  随机性和系统性 313 >EQd;Af  
15.2  常见的系统性问题 314 $O}:*.{(W  
15.3  单层膜 314 $vlc@]~d`&  
15.4  多层膜 314 h{s- e.  
15.5  含义 319 Ne^md  
15.6  反演工程实例 319 +9S_H(  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 O gQE1{C  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 p&Usl.  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 4%h@K(iN  
16.1  光学性质的热致偏移 329 d,r%LjNI  
16.2  应力工具 335 8mM^wT  
16.3  均匀性误差 339 ,j{$SuZ M  
16.3.1  圆锥工具 339 `4 Jlf!  
16.3.2  波前问题 341 v!oXcHK/  
16.4  参考文献 343 7x *]  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 p=T,JAIt  
17.1  引言 345 [I*BEJ;W'  
17.2  操作数 345 Vz$X0C=W;H  
18  如何在Function中编写脚本 351 Hu"?wZj  
18.1  简介 351 tvH{[e$  
18.2  什么是脚本? 351 hhu !'(j  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 AL #w  
18.4  基础 352 8$ SA"c)  
18.4.1  Classes(类别) 352 P4vW.|@  
18.4.2  对象 352 0QE2e'}}-  
18.4.3  信息(Messages) 352 s`2Hf&%aZJ  
18.4.4  属性 352 ;x.xj/7  
18.4.5  方法 353 Y<X,(\iEHP  
18.4.6  变量声明 353 O=wA/T=w?  
18.5  创建对象 354 }gY:VDW  
18.5.1  创建对象函数 355 ,U_p6 TV5  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 wIi_d6?  
18.5.3 丢弃对象 356 ,(0q  
18.5.4  总结 356 =;(wBj  
18.6  脚本中的表格 357 KNtsz[#b  
18.6.1  方法1 357 K8 Y/sHl  
18.6.2  方法2 357 !^ko"^p  
18.7 2D Plots in Scripts 358 we6']iaV  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ]V!q"|  
18.9  注释 360 s'yA^ VPf  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 H]a;<V9[  
18.11  一个更高级的脚本 362 I4%&/~!  
18.12  <esc>键 364 ejYJOTT{^  
18.13 包含文件 365 $E;`Y|r%WK  
18.14  脚本被优化调用 366 o,a 3J:j]  
18.15  脚本中的对话框 368 Fyu CYg \p  
18.15.1  介绍 368 p"Ki$.Y  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ; qT~81  
18.15.3  输入框函数 370 Q>y2C8rnJ/  
18.15.4  自定义对话框 371 SooSOOAx[  
18.15.5  对话框编辑器 371 Vw7NLTE}`  
18.15.6  控制对话框 377 k8E'wN  
18.15.7  更高级的对话框 380 31b9pi}nf  
18.16 Types语句 384 _aOisN{  
18.17 打开文件 385 q7-Eu4w  
18.18 Bags 387 7T \}nX1  
18.13  进一步研究 388 IZ /Md@C  
19  vStack 389 {3Z&C$:s  
19.1  vStack基本原理 389 RH+3x7 l  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 @C40H/dE  
19.3  五棱镜 393 Z IfhC'  
19.4 光束距离 396 "7_6iB&@<  
19.5 误差 399 \N1 G5W  
19.6  二向分色棱镜 399 e-Z+)4fH  
19.7  偏振泄漏 404 #&vP(4p  
19.8  波前误差—相位 405 kb>:M.  
19.9  其它计算参数 405 !$ikH,Bh  
20  报表生成器 406 :5?g<@  
20.1  入门 406 f`@$ saFD  
20.2  指令(Instructions) 406 r 5::c= Cl  
20.3  页面布局指令 406 gf6<`+/  
20.4  常见的参数图和三维图 407 V6'"J  
20.5  表格中的常见参数 408 ;c"T#CH.  
20.6  迭代指令 408 7B GMG|  
20.7  报表模版 408 +,=DUsI}  
20.8  开始设计一个报表模版 409 7_>No*[  
21  一个新的project 413 9I*zgM!F  
21.1  创建一个新Job 414 l ,0]iVJ  
21.2  默认设计 415 ;'!G?)PZ  
21.3  薄膜设计 416 )+2GF0%  
21.4  误差的灵敏度计算 420 >W[8wR  
21.5  显色指数计算 422 DZGM4|@<7Y  
21.6  电场分布 424 R[>fT}Lo  
后记 426 ks=j v:  
O:'UsI1Y  
Sw~jyUEr  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 9J% ~?k  
[@MV[$W5  
《Essential Macleod中文手册》
hR" j[  
=}5;rK  
目  录 L~fx VdUz  
} =Yvs)  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 r(./00a  
第1章 介绍 ..........................................................1 [4'C4Zl  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 \v bU| a  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 l@ vaupg  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 dXgj  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 o*H j E  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 SBo>\<@  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 uev$5jlX  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 _gZ8UZ)  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 dD@k{5  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 47s<xQy  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 1ipfv-hb6  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 P]A>"-k  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 / *J}7  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 !|K~)4%rj  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 s"b()JP  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 .ky((  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 "2HSb5b"`  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ]JB~LQz]k  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Oz{.>Pjn^o  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 w7NJ~iy  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ;Hr FPx&d1  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 46c7f*1l  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 =qH9<,p`H  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 )2T1g~8  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 WoGK05w  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 =~Oi:+L  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 y\L$8BSL  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 +#~=QT9  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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