线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:893
时间地点 ,)\5O0 D6  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Ik2szXh[J  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 .J! $,O@  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 TuhL :  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ;`Ch2b1+  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
0}3'h#33=  
特邀专家介绍 ~$`YzK^*X  
_ O71r}4  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Hw-oh?=  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 k*+ZLrT  
课程概要 Yoym5<xE  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 6xQe!d3>s3  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 pzp"NKx i  
课程大纲 ^)K[1]"uM  
1. Essential Macleod软件介绍 ?^A:~"~  
1.1 介绍软件 AZ@Zo'  
1.2 创建一个简单的设计 pt;Sk?-1  
1.3 绘图和制表来表示性能 ]m,p3  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 g KY ,G  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) i: uA&9  
1.6 特定设计的公式技术 r}M4()9L  
1.7 交互式绘图 h 7P?n.K  
2. 光学薄膜理论基础 :JG}%  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 I&@@v\$*  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 =1B&d[3;  
3. 材料管理 K%#C+`Ij  
3.1 材料模型 F n Rxc  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 +mF 2yh  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 dK`O,[}  
3.4 基板光学常数的提取 "f$A0RL  
4. 光学薄膜设计优化方法 m<HjL  
4.1 参考波长与g tQ<2K*3]  
4.2 四分之一规则 m!>'}z  
4.3 导纳与导纳图 ap_+C~%+  
4.4 斜入射光学导纳 8*){*'bf  
4.5 光学薄膜设计的进展 8o!^ZOmU<  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 JO$]t|I  
4.6.1 优化目标设置 s+t eYL#Zi  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 2xxwQwg8  
4.6.3 膜层锁定和链接 AxQ/  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 <%5uzlp  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 DcM+K@1E4^  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 F?4'>ZW  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Ceb i9R[  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 g5'bUYsa  
5.5 如何在Function中编写脚本 Z ' 96d  
6. 光学薄膜系统案例 g9Qxf%}  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 O!yn `< l  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 p ;01a  
6.3 Stack应用范例说明 oW9rl]+  
7. 薄膜性能分析 ]8z6gDp  
7.1 电场分布 U9OF0=g  
7.2 公差与灵敏度分析 r+yLK(<zp  
7.3 反演工程 `-\JjMSQ1  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 u _^=]K;  
8. 真空技术 FNO lR>0e  
8.1 常用真空泵介绍 No+zw%l0E  
8.2 真空密封和检漏 PQay sdb  
9. 薄膜制备技术 ~1!kU 4  
9.1 常见薄膜制备技术 0Jif.<  
10. 薄膜制备工艺 >b${rgCvQ  
10.1 薄膜制备工艺因素 mw%_ yDZ{  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6u8fF|s  
10.3 光学薄膜监控技术 $5 [RR  
11. 激光薄膜 OOwJ3I >]>  
11.1 薄膜的损伤问题 o8"xoXK5xf  
11.2 激光薄膜的制备流程 5jk4k c  
11.3 激光薄膜的制备技术 ~+ur*3X  
12. 光学薄膜特性测量 W%:zvqg v  
12.1 薄膜光谱测量 t0(hc7`  
12.2 薄膜光学常数测量 *mt v[  
12.3 薄膜应力测量 ?2Dz1#%D  
12.4 薄膜损伤测量 hQeZI+  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 PUArKBYM-  
9_$Odc%]  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
2J <Z4Ap  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
IA!Kp g W  
内容简介 s*Ll\#  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ,B!Qv3bn  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 =jh:0Q<43+  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0^^i=iE-u  
HDxw2nz*R  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
RT9@&5>il  
目录 Czn7,KE8X  
Preface 1 Rl8-a8j$f.  
内容简介 2 ,|/$|$'  
目录 i Pl>t\`1:|A  
1  引言 1 W=:+f)D  
2  光学薄膜基础 2 C]cw@:o%  
2.1  一般规则 2 r8$TT\?~  
2.2  正交入射规则 3 R PQ)0.O7  
2.3  斜入射规则 6 egvWPht'_  
2.4  精确计算 7 3dLz=.=)'  
2.5  相干性 8 '@P[fSQ  
2.6 参考文献 10 &B C#u.^!  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Sq QB>;/p  
4  Essential Macleod的特点 32 T~E83Jw  
4.1  容量和局限性 33 ?;Qk!t2U  
4.2  程序在哪里? 33 %{"STbO#>  
4.3  数据文件 35 6h%(0=^  
4.4  设计规则 35 h'+ swPh  
4.5  材料数据库和资料库 37 xOlkG*3c  
4.5.1材料损失 38 CXA8V"@&b/  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 0XNb@ogo  
4.5.2 材料库 41 :z7!X.*  
4.5.3导出材料数据 43 71InYIed  
4.6  常用单位 43 WDq3K/7\  
4.7  插值和外推法 46 > %,tyJ~  
4.8  材料数据的平滑 50 L`v,:#Y   
4.9 更多光学常数模型 54 T rW3@@}j  
4.10  文档的一般编辑规则 55 xh$[E&2u  
4.11 撤销和重做 56 WP9=@X Z  
4.12  设计文档 57 l(W3|W#P  
4.10.1  公式 58 Yaqim<j  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Z)~ 2{)  
4.10.3  沉积密度 59 3 a`-_<  
4.10.4 平行和楔形介质 60 q6dq@   
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 VTU-'q  
4.10.4  性能 61 Wu(GC]lTG  
4.10.5  保存设计和性能 64 vbp)/I-h  
4.10.6  默认设计 64 AyDK-8a  
4.11  图表 64 p*Cbe\  
4.11.1  合并曲线图 67 J$o J  
4.11.2  自适应绘制 68  hT[O5  
4.11.3  动态绘图 68 5h&8!!$[  
4.11.4  3D绘图 69 *zcH3a,9"x  
4.12  导入和导出 73 $Fj7'@1(  
4.12.1  剪贴板 73 (iFhn*/ E  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 $si2H8  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ]So%/rOvX  
4.13  背景 77 'E9jv4E$n  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 "F&uk~ b$  
4.15  生成Rugate 84 %Vq@WF  
4.16  参考文献 91 R0>L[1o  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 6 S8#[b  
5.1  Jobs 92 ZyG528O22  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 rlq8J/0/+  
5.3  输入材料 94 #X+)  
5.4  设计数据文件夹 95 P06K0Fxf  
5.5  默认设计 95 tF 4"28"h  
6  细化和合成 97 DIY WFVh  
6.1  优化介绍 97 >}iYZ[ V  
6.2  细化 (Refinement) 98 YeQX13C"Z  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ]Q+Tm2{  
6.4  目标和评价函数 101 V>hy5hDpH  
6.4.1  目标输入 102 [ 6M8a8C  
6.4.2  目标 103 lPH]fWt<  
6.4.3  特殊的评价函数 104 2&M 8Wb#  
6.5  层锁定和连接 104 iH2|w  
6.6  细化技术 104 KM6r}CDHs  
6.6.1  单纯形 105 q(C+D%xB  
6.6.1.1 单纯形参数 106 iMS S8J  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 =8]'/b  
6.6.2.1 Optimac参数 108 x|Dj   
6.6.3  模拟退火算法 109 &wJ"9pQ~6E  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 g)zy^ aDf  
6.6.4  共轭梯度 111 q8U]Hyp(`  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 z;-2xD0&U[  
6.6.5  拟牛顿法 112 B,676~I  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 n`6vM4rM)  
6.6.6  针合成 113 z~F!zigNAc  
6.6.6.1 针合成参数 114 &{>~ |^  
6.6.7 差分进化 114 ?D#Vha  
6.6.8非局部细化 115 _z_uz \#,  
6.6.8.1非局部细化参数 115 &{$\]sv  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 pJqayzV  
6.7.1  细化 116 m2_B(-  
6.7.2  合成 117 LWY`J0/  
6.8  参考文献 117 ~ 60J  
7  导纳图及其他工具 118 {w2<;YXj!  
7.1  简介 118 bz@4obRqf  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 :Z<-J`  
7.2.1  四分之一波长规则 119 6d_l[N  
7.2.2  导纳图 120 ^T^fowt=r  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yd2ouCUV  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 +!X^E9ra  
7.5  斜入射导纳图 141 T^"d%au  
7.6  对称周期 141 kWWb<WRW:  
7.7  参考文献 142 Ih.o;8PpK  
8  典型的镀膜实例 143 }hGbF"clqg  
8.1  单层抗反射薄膜 145 )%*uMuF  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 -IPc;`<  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 3]wV`mD  
8.4  W-膜层 148 &AW?!rH  
8.5  V-膜层 149 ='~C$%  
8.6  V-膜层高折射基底 150 b.$Gc!g  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 L|v1=qNH4  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Fd2zvi  
8.9  四层抗反射薄膜 153 xD1w#FMlQs  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 u ; I5n  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 &D/_@\ 0  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 TK'(\[E  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 eI- ~ +.  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 J|s4c`=  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 55Jk "V#8  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^58'*13ZL  
8.17  1/4波长堆栈 162 2+0'vIw}  
8.18  陷波滤波器 163 =\tg$  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 QQqWJq~  
8.20  褶皱 165 "}EydG"=  
8.21  消偏振分光器1 169 c" yf>0  
8.22  消偏振分光器2 171 ZYg="q0x&  
8.23  消偏振立体分光器 172 Z[|(}9v?~  
8.24  消偏振截止滤光片 173 B6,"S5@  
8.25  立体偏振分束器1 174 HZR~r:_ i  
8.26  立方偏振分束器2 177 0LxA+  
8.27  相位延迟器 178 0?k/vV4  
8.28  红外截止器 179 "Y4 tt0I  
8.29  21层长波带通滤波器 180 xZBmQ:s',S  
8.30  49层长波带通滤波器 181 X|X6^}  
8.31  55层短波带通滤波器 182 HdLVXaD/  
8.32  47 红外截止器 183 < jfi"SJu  
8.33  宽带通滤波器 184 xEGI'lt  
8.34  诱导透射滤波器 186 [&6l=a  
8.35  诱导透射滤波器2 188 .I[uXd  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 BH\qm (X  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 !qT.D:!@zF  
8.35  增益平坦滤波器 193 <Cm:4)~  
8.38  啁啾反射镜 1 196 g {wDI7"<q  
8.39  啁啾反射镜2 198 tFXG4+$D  
8.40  啁啾反射镜3 199 0/;T\9  
8.41  带保护层的铝膜层 200 co#%~KqMu  
8.42  增加铝反射率膜 201 s>^*GQw  
8.43  参考文献 202 [K,&s8N5  
9  多层膜 204 RytQNwv3  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 R/U"]Rc  
9.2  内部透过率 204 e%#9|/uP  
9.3 内部透射率数据 205 _<&IpT{w+  
9.4  实例 206 (V}D PA  
9.5  实例2 210 |>Kf_b Y#  
9.6  圆锥和带宽计算 212 sJ25<2/  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 U_Id6J]8  
10  光学薄膜的颜色 216 p\~ lPXK  
10.1  导言 216 !ZHPR:k|  
10.2  色彩 216 }fUV*U:3  
10.3  主波长和纯度 220 -fn["R]  
10.4  色相和纯度 221 H;%a1  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 >(p "!  
10.6 色差 226 ^!!@O91T  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 -7>vh|3  
10.8  颜色渲染指数 234 e$fxC-sZ  
10.9  色差计算 235 Cj,fP[p#7  
10.10  参考文献 236 "3W!p+W  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 I"y=A7Nq  
11.1  短脉冲 238 r)q6^|~47  
11.2  群速度 239 aV,>y"S  
11.3  群速度色散 241 !Tr +:SM  
11.4  啁啾(chirped) 245 P%(pbG-X.  
11.5  光学薄膜—相变 245 /EA4-#uw  
11.6  群延迟和延迟色散 246 D\bW' k]!  
11.7  色度色散 246 6(VCQ{  
11.8  色散补偿 249 @?f3(G h,  
11.9  空间光线偏移 256 ?&j[Rj0pH  
11.10  参考文献 258 +3!um  
12  公差与误差 260 wqK>=Ri_  
12.1  蒙特卡罗模型 260 :TxfkicN\  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Ay22-/C|@  
12.2.1  误差工具 267 W1iKn  
12.2.2  灵敏度工具 271 $*{PUj  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 /)e&4.6  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ~W_m<#K(  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 @I_A\ U{  
12.3  参考文献 276 2(Vm0E  
13  Runsheet 与Simulator 277 ; P&K a  
13.1  原理介绍 277 y/'2WO[  
13.2  截止滤光片设计 277 0,{Dw9W:  
14  光学常数提取 289 HFB2ep7N  
14.1  介绍 289 Zm4IN3FGLv  
14.2  电介质薄膜 289 ?S36)oZzg  
14.3  n 和k 的提取工具 295 gQCkoQi:j  
14.4  基底的参数提取 302 cL7je  
14.5  金属的参数提取 306 "9>~O`l,  
14.6  不正确的模型 306 h)~KD%  
14.7  参考文献 311 EL;IrtU  
15  反演工程 313 ]Jq1b210  
15.1  随机性和系统性 313 |.0/~Xy-  
15.2  常见的系统性问题 314 /#GX4&z  
15.3  单层膜 314 /xWkP{  
15.4  多层膜 314 A\ CtM`  
15.5  含义 319 Nc ,"wA  
15.6  反演工程实例 319 a]Bm0gdrO  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 |)B&-~a+p  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 cAogz/<S  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 O&!+ni  
16.1  光学性质的热致偏移 329 6Y>MW 4q  
16.2  应力工具 335 bW7tJ  
16.3  均匀性误差 339 ;oH17  
16.3.1  圆锥工具 339 @TdPeTw\  
16.3.2  波前问题 341 h7)^$Hd  
16.4  参考文献 343 k3da*vwE  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 _>9|"seR  
17.1  引言 345 a]>gDDF  
17.2  操作数 345 3?|Fn8dQR.  
18  如何在Function中编写脚本 351 (_^g:>)Cs  
18.1  简介 351 ka0T|$ u(s  
18.2  什么是脚本? 351 >JkQ U e  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ZT5t~5W  
18.4  基础 352 u-=S_e  
18.4.1  Classes(类别) 352 G|Yw a=  
18.4.2  对象 352 d+[yW7%J  
18.4.3  信息(Messages) 352 $]<CC`  
18.4.4  属性 352 VLQDktj&  
18.4.5  方法 353 '>^+_|2  
18.4.6  变量声明 353 sU^2I v\%  
18.5  创建对象 354 UeIu -[R  
18.5.1  创建对象函数 355 hPE#l?H@A  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Ok/~E  
18.5.3 丢弃对象 356 @Y 1iEL%\y  
18.5.4  总结 356 #UG|\}Lp  
18.6  脚本中的表格 357 /pan{.< k  
18.6.1  方法1 357 E{[c8l2B  
18.6.2  方法2 357 s^TF+d?B  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ]tA39JK-i  
18.8 3D Plots in Scripts 359 o7i/~JkTP  
18.9  注释 360 %*wJODtB|  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 qAUqlSP5  
18.11  一个更高级的脚本 362 @Ck6s  
18.12  <esc>键 364 GNS5v-"H  
18.13 包含文件 365 *91iFeKj=  
18.14  脚本被优化调用 366 j0B, \A  
18.15  脚本中的对话框 368 d8`^;T ;}d  
18.15.1  介绍 368 BG_m}3j  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 z6#N f,  
18.15.3  输入框函数 370 uc<XdFcu  
18.15.4  自定义对话框 371 6Xb\a^ q  
18.15.5  对话框编辑器 371 =G]} L<  
18.15.6  控制对话框 377 $v#Q'?jE  
18.15.7  更高级的对话框 380 O&.^67\|  
18.16 Types语句 384 dd>|1'-]  
18.17 打开文件 385 Wp/!;  
18.18 Bags 387 )HNbWGu  
18.13  进一步研究 388 zNofI$U  
19  vStack 389  LKieOgX  
19.1  vStack基本原理 389 dE!{=u(!i  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 RXh0hD  
19.3  五棱镜 393 7Te`#"  
19.4 光束距离 396 fQi7e5  
19.5 误差 399 s\_-` [B0  
19.6  二向分色棱镜 399 $,otW2:)  
19.7  偏振泄漏 404 gRIRc4p  
19.8  波前误差—相位 405 5\8Ig f>  
19.9  其它计算参数 405 UeV2`zIg`  
20  报表生成器 406 zYO+;;*@  
20.1  入门 406 3P3x^NI  
20.2  指令(Instructions) 406 XeX0\L')R  
20.3  页面布局指令 406 fIN8::Cs[  
20.4  常见的参数图和三维图 407 '31pb9@fH  
20.5  表格中的常见参数 408 ny%-u &1k  
20.6  迭代指令 408 3Wxl7"!x m  
20.7  报表模版 408 "2;$?*hO#  
20.8  开始设计一个报表模版 409 b)J(0,9`G"  
21  一个新的project 413 yS p]+  
21.1  创建一个新Job 414 Zy,U'Dv  
21.2  默认设计 415 b2u_1P\  
21.3  薄膜设计 416 ]IMBRZQqb  
21.4  误差的灵敏度计算 420 I1^0RB{~  
21.5  显色指数计算 422 (2(I|O#  
21.6  电场分布 424 /1:`?% ,2  
后记 426 Iz,a Hrq  
8~AO~  
V9z/yNo  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ZfM(%rx  
jJdw\`  
《Essential Macleod中文手册》
fT [JU1  
_;3xG0+  
目  录 YqX/7b+  
|VbF&*v`  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 &:`T!n  
第1章 介绍 ..........................................................1 o7S,W?;=5  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 TzmoyY  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 0M(\xO  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ,u7: l  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Lo _5r T"  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 "gjy+eosY  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 u'M \m7  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 w^e<p~i!^E  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 F?&n5R.  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 }+G6`Zd  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 SjV;& 1Z/  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 +!Q<gWb  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 M%pxv6?""{  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 :\9E%/aAD  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 {r Q6IV3=  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 +168!Jw;  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 XBe!9/'k>  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ax0RtqtR&  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 s9svuFb  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 &Q 7Q1`S  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 NBZFIFO<  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 6,*hzyy}Qu  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 hZf0q 2  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ku3Vr\s  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 q|BR-0yi  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 yM>:,TS  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 d|CSWcU  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ts/ rV#s~  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1