线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:850
时间地点 T<OLfuV  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ,=mn*  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 X#J[Nn>  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 [L8gG.wy  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ,Yo In  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
GcKJpI\sB  
特邀专家介绍 cIgF]My*D@  
MV/JZ;55  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 =Ru i  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 u@o3p*bQ  
课程概要 {f!mm3'2v  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 AOTI&v  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 htjJ0>&  
课程大纲 8Vq,J:+  
1. Essential Macleod软件介绍 ^}WeBU  
1.1 介绍软件 ?.T=(-  
1.2 创建一个简单的设计 9TF[uC)-2  
1.3 绘图和制表来表示性能 A81kb  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 '{J!5x?L^  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Sh"} c2  
1.6 特定设计的公式技术 AVi|JY)>  
1.7 交互式绘图 s~GO-v7  
2. 光学薄膜理论基础 f[.]JC+,  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 6gp3n;D  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响  ~d }-  
3. 材料管理 5L4~7/kj  
3.1 材料模型 `T-(g1:9  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 $N+azal+y  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 kJ~^  }o  
3.4 基板光学常数的提取 X }^,g  
4. 光学薄膜设计优化方法 0s4%22  
4.1 参考波长与g )]/!:I4e  
4.2 四分之一规则 a/?gp>M9  
4.3 导纳与导纳图 d=xweU<  
4.4 斜入射光学导纳 E;h#3 B9  
4.5 光学薄膜设计的进展 PPohpdd)  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 A}$A~g5 Ap  
4.6.1 优化目标设置 GwpJxiFgk  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) j88H3bi0  
4.6.3 膜层锁定和链接 T IS}'c'C  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ;'nu9FU*O  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 W1Ht8uYG3  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ~_R=2t{u _  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 }lWEbQ)(!  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 cP(/+ /9  
5.5 如何在Function中编写脚本 u{I)C0  
6. 光学薄膜系统案例 Ij#?r2Z%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 5^tL#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 )'nGuL-w!i  
6.3 Stack应用范例说明 Ua( !:5q?  
7. 薄膜性能分析 xGz$M@f  
7.1 电场分布 bGDV9su  
7.2 公差与灵敏度分析 Y(<>[8S m  
7.3 反演工程 Jln dypE  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 5?QR  
8. 真空技术 @v|_APy#  
8.1 常用真空泵介绍 [Q)lJTs  
8.2 真空密封和检漏 `57ffQR9  
9. 薄膜制备技术 GCc@ :*4[  
9.1 常见薄膜制备技术 QarA.Ne~  
10. 薄膜制备工艺 "Sl";.   
10.1 薄膜制备工艺因素 3q<\ \8Y*  
10.2 薄膜均匀性修正技术 #Jg )HU9  
10.3 光学薄膜监控技术 6N6d[t"  
11. 激光薄膜 7Sr7a {  
11.1 薄膜的损伤问题 C7,Ol0`v  
11.2 激光薄膜的制备流程 l 4(-yWC$H  
11.3 激光薄膜的制备技术 =eYrz@,  
12. 光学薄膜特性测量 Xa+ u>1"2"  
12.1 薄膜光谱测量 .|cQ0:B[  
12.2 薄膜光学常数测量 ?-J\~AXL  
12.3 薄膜应力测量 Haiuf)a  
12.4 薄膜损伤测量 jiz"`,-},O  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 AOhsat;O`  
HJM-;C](  
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Pr/K5aJeg  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
,D>$N3;  
内容简介 Hb IRE  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 7 zK%CJ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 <T<?7SE+  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H<g- Bhv  
b=.Ikt+y  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
u9QvcD^'z  
目录 b?qtTce  
Preface 1 d+Pfi)+(I  
内容简介 2 ABB4(_3E  
目录 i :Q"]W!kCs  
1  引言 1 <Sb W QbN  
2  光学薄膜基础 2 $ ^m_M.1  
2.1  一般规则 2 nO2-fW:9]  
2.2  正交入射规则 3 V#=o<  
2.3  斜入射规则 6 (+(YO\ng6  
2.4  精确计算 7 rl[&s\[  
2.5  相干性 8  g&#.zJ[-  
2.6 参考文献 10 K6{{\r  
3  Essential Macleod的快速预览 10 z^O>'9#  
4  Essential Macleod的特点 32 m^%[  
4.1  容量和局限性 33 Fz~-m#Ts  
4.2  程序在哪里? 33 C]p3,G,oN  
4.3  数据文件 35 1\TXb!OtL  
4.4  设计规则 35 D`2Iy.|!  
4.5  材料数据库和资料库 37 %5NfF65'  
4.5.1材料损失 38 ZFY t[:  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 CUaI66  
4.5.2 材料库 41 fXEF]C  
4.5.3导出材料数据 43 G(EiDo&  
4.6  常用单位 43 :"|}oKT%mP  
4.7  插值和外推法 46 `c ^2  
4.8  材料数据的平滑 50 wZ5 + H%x  
4.9 更多光学常数模型 54 m = "N4!  
4.10  文档的一般编辑规则 55 b7p&EK"Hm  
4.11 撤销和重做 56 gyondcF  
4.12  设计文档 57 inBBU[Sl  
4.10.1  公式 58 ZC@sUj"  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ]=m '| 0}  
4.10.3  沉积密度 59 Yw vX SA  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Wf +j/RxTi  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 HE,# pj(D  
4.10.4  性能 61 ,nD:W  
4.10.5  保存设计和性能 64 rp (nGiI  
4.10.6  默认设计 64 oDXUa5x  
4.11  图表 64 _ko16wfg  
4.11.1  合并曲线图 67 dd@qk`Zl&A  
4.11.2  自适应绘制 68 T XWi5f[  
4.11.3  动态绘图 68 TW8E^k7  
4.11.4  3D绘图 69 GNlP]9wX  
4.12  导入和导出 73 3.Oc8(N^}  
4.12.1  剪贴板 73 $*tq$DZ4&  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 @2yi%_ ]h  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 JBo/<W#|  
4.13  背景 77 mp:%k\cF|  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 u_[s+ J/  
4.15  生成Rugate 84 8%nb1CA  
4.16  参考文献 91 -^`]tF`M  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 KWq7M8mq  
5.1  Jobs 92 `L/kwVl  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Pwn"!pk  
5.3  输入材料 94 %6}S1fuA  
5.4  设计数据文件夹 95 -K9bC3H  
5.5  默认设计 95 nw){}g  
6  细化和合成 97 !/^i\)j>](  
6.1  优化介绍 97 RcIGIt  
6.2  细化 (Refinement) 98 d h#4/Wa,  
6.3  合成 (Synthesis) 100 l8/ tR  
6.4  目标和评价函数 101 {{7%z4l  
6.4.1  目标输入 102 [#S}L(  
6.4.2  目标 103 @0S3`[/U  
6.4.3  特殊的评价函数 104 0wU8PZ Nj  
6.5  层锁定和连接 104 R}'kF63u*  
6.6  细化技术 104 .{%~4$yu7  
6.6.1  单纯形 105 X YO09#>&  
6.6.1.1 单纯形参数 106 {%.FIw k  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 =(Y 1y$  
6.6.2.1 Optimac参数 108 UE^_SZ  
6.6.3  模拟退火算法 109 Yj99[ c#]  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ,iY/\ U''  
6.6.4  共轭梯度 111 c+|,q m  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 c%%r  
6.6.5  拟牛顿法 112 |-GmWSK_  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 :SjTkfU  
6.6.6  针合成 113 P#H|at  
6.6.6.1 针合成参数 114 I?nj_ as  
6.6.7 差分进化 114 m_{OCHS+  
6.6.8非局部细化 115 }<6xZy  
6.6.8.1非局部细化参数 115 m22M[L(q  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 , v,mBYaU  
6.7.1  细化 116 O) NEt  
6.7.2  合成 117 P[6@1  
6.8  参考文献 117 {Bk9]:'$5  
7  导纳图及其他工具 118 '~Uo+<v$w  
7.1  简介 118 a=}JW]  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 teh$W<C  
7.2.1  四分之一波长规则 119 m2{3j[  
7.2.2  导纳图 120 hyqsMkW|  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 U9GmkXRix  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125  yG -1g0  
7.5  斜入射导纳图 141 __<u!;f  
7.6  对称周期 141 SEsc"l8  
7.7  参考文献 142 *IL x-D5qr  
8  典型的镀膜实例 143 wN1%;~?7  
8.1  单层抗反射薄膜 145 6yEYX'_  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 04>dxw)8  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0?59o!@h  
8.4  W-膜层 148 (GB2("p`  
8.5  V-膜层 149 )2t!= ua  
8.6  V-膜层高折射基底 150 PF5;2  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 gn"Y?IZ?  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 RSEo'2  
8.9  四层抗反射薄膜 153 A;VjMfoB  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 3~ITvH,`s  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 @*Sge LeL  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 JRQ{Q"`)  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 :l<)p;\  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 NMq#D$T  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 J-C3k`%O  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 CMI'y(GN  
8.17  1/4波长堆栈 162 H>Wi(L7  
8.18  陷波滤波器 163 *PQu9>1w  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 wBlfQ w-N  
8.20  褶皱 165 8`Wj 1 ,q  
8.21  消偏振分光器1 169 *h6Lh]7  
8.22  消偏振分光器2 171 eHr|U$Rpo  
8.23  消偏振立体分光器 172 Bc%A aZ0x  
8.24  消偏振截止滤光片 173 >'IFr9&3  
8.25  立体偏振分束器1 174 ANB@cK_  
8.26  立方偏振分束器2 177 i oCoFj  
8.27  相位延迟器 178 V mxVE=l  
8.28  红外截止器 179 x;A"S  
8.29  21层长波带通滤波器 180 E+wd9/;  
8.30  49层长波带通滤波器 181 3exv k  
8.31  55层短波带通滤波器 182 l !VPk"s  
8.32  47 红外截止器 183 sjh>i>t  
8.33  宽带通滤波器 184 WmU5YZ(mAq  
8.34  诱导透射滤波器 186 -<rQOPH%  
8.35  诱导透射滤波器2 188 >s#[dr\ww  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 h%'4V<V  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 2uonT,W  
8.35  增益平坦滤波器 193 =@%;6`AVcp  
8.38  啁啾反射镜 1 196 N[e QT  
8.39  啁啾反射镜2 198 &' ,A2iG  
8.40  啁啾反射镜3 199 V=yRE  
8.41  带保护层的铝膜层 200 jwsl"zL  
8.42  增加铝反射率膜 201 ,>"rcd  
8.43  参考文献 202 Gok8:,  
9  多层膜 204 QoZ7l]^  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 K:PzR,nn  
9.2  内部透过率 204 08)X:@ w?  
9.3 内部透射率数据 205 jG($:>3a@  
9.4  实例 206 @**@W[EM  
9.5  实例2 210 dre@V(\;hQ  
9.6  圆锥和带宽计算 212 =%u\x=u|  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 8`bQ,E+2  
10  光学薄膜的颜色 216 f8]Qn8  
10.1  导言 216 -TnvX(ok4  
10.2  色彩 216 uK6_HvHuy  
10.3  主波长和纯度 220 qyXx`'e  
10.4  色相和纯度 221 t;BvKH77  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 q^{Z"ifL  
10.6 色差 226 w k1O*_76  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Wtl0qug  
10.8  颜色渲染指数 234 gH87e  
10.9  色差计算 235 X4<!E#  
10.10  参考文献 236 =)Z!qjf1U  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 } sTo,F$  
11.1  短脉冲 238 v IBVp  
11.2  群速度 239 X8!=Xjl)  
11.3  群速度色散 241 @8zp(1.  
11.4  啁啾(chirped) 245 .Z=4,m>  
11.5  光学薄膜—相变 245 Fy4jujP<  
11.6  群延迟和延迟色散 246 GKPC9;{W  
11.7  色度色散 246 x+~IXi>Ig  
11.8  色散补偿 249 ]W,K}~!   
11.9  空间光线偏移 256 _n9+(X3  
11.10  参考文献 258 P3[+c4  
12  公差与误差 260 ;K[ G]8  
12.1  蒙特卡罗模型 260 - w41Bvz0  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 d~L`*"/)[  
12.2.1  误差工具 267 c*nH=  
12.2.2  灵敏度工具 271 ?h`Ned0P  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 "BB#[@  
12.2.2.2 灵敏度分布 275  ESOuDD2<  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 F|._'i+B!  
12.3  参考文献 276 !\{&^,y  
13  Runsheet 与Simulator 277 k;V4%O  
13.1  原理介绍 277 '& L;y  
13.2  截止滤光片设计 277 x<) %Gs}tb  
14  光学常数提取 289 JyPsRpi\  
14.1  介绍 289 `?{Hs+4P5  
14.2  电介质薄膜 289 u7|{~D&f  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ejj|l   
14.4  基底的参数提取 302 m35Blg34  
14.5  金属的参数提取 306 LS:3Dtq  
14.6  不正确的模型 306 Ks&~VU  
14.7  参考文献 311 UA4Q9<>~  
15  反演工程 313 K GlO;Q~7  
15.1  随机性和系统性 313 y<YVb@O.  
15.2  常见的系统性问题 314 \jn[kQ+pJ  
15.3  单层膜 314 yHW=,V.  
15.4  多层膜 314 O[RmQ8ll  
15.5  含义 319 a!"81*&4#  
15.6  反演工程实例 319 l ' ]d&  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 9GnNL I{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 l*[.  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 |(Zv g}c_  
16.1  光学性质的热致偏移 329 A.9,p  
16.2  应力工具 335 iKB8V<[\T  
16.3  均匀性误差 339 2G"mm (   
16.3.1  圆锥工具 339 ,x5`5mT3  
16.3.2  波前问题 341 {]ZZ]  
16.4  参考文献 343 (_ov _3  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 bwM>#@H  
17.1  引言 345 b5YjhRimS  
17.2  操作数 345 k4_Fn61J/  
18  如何在Function中编写脚本 351 Auhw(b>}TW  
18.1  简介 351 }~lF Rf  
18.2  什么是脚本? 351 HMNjQ 1y  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 8WWRKP1V  
18.4  基础 352 z602(mxGg  
18.4.1  Classes(类别) 352 J'.:l}g!1  
18.4.2  对象 352 5EIhCbA  
18.4.3  信息(Messages) 352 &Pt|  
18.4.4  属性 352 7Z>u|L($m  
18.4.5  方法 353 76[aOC2Ad  
18.4.6  变量声明 353 Ygn"7  
18.5  创建对象 354 '<f4POy!  
18.5.1  创建对象函数 355 LBtVK, ?  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 &0TOJ:RP  
18.5.3 丢弃对象 356 );$Uf!v4  
18.5.4  总结 356 !TY4C`/  
18.6  脚本中的表格 357 0CY_nn#3  
18.6.1  方法1 357 eif<aG5  
18.6.2  方法2 357 o_U=]mEDY  
18.7 2D Plots in Scripts 358 io cr  
18.8 3D Plots in Scripts 359 !-r@_tn|  
18.9  注释 360 >H@ dgb  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 e =& abu  
18.11  一个更高级的脚本 362 Z~g~,q  
18.12  <esc>键 364 VS^%PM#:/  
18.13 包含文件 365 uc%75TJ@  
18.14  脚本被优化调用 366 W<;i~W  
18.15  脚本中的对话框 368 -$;H_B+.  
18.15.1  介绍 368 J{$C}8V  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 /woa[7Xe  
18.15.3  输入框函数 370 sCaw"{5qc  
18.15.4  自定义对话框 371 N##T1 Qm)  
18.15.5  对话框编辑器 371 7&NRE"?G  
18.15.6  控制对话框 377 z>k6T4(  
18.15.7  更高级的对话框 380 @Th.=  
18.16 Types语句 384 -!">SY\  
18.17 打开文件 385 {#q<0l  
18.18 Bags 387 }K;@$B6,@  
18.13  进一步研究 388 /{7x|ay]  
19  vStack 389 M#})  
19.1  vStack基本原理 389 xpFu$2T6P.  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 )aqu f<u@  
19.3  五棱镜 393 \WouTn  
19.4 光束距离 396 j]J2,J  
19.5 误差 399 X =S;8=N  
19.6  二向分色棱镜 399 6luCi$bL  
19.7  偏振泄漏 404 "eI-Y`O,  
19.8  波前误差—相位 405 hr@KWE`  
19.9  其它计算参数 405 >?M:oUVDU  
20  报表生成器 406 7H[#  
20.1  入门 406 P>L-,R(7e  
20.2  指令(Instructions) 406 e kI1j%fO  
20.3  页面布局指令 406 0Qw?.#[9  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Q( AOKp,F  
20.5  表格中的常见参数 408 4,FkA_k  
20.6  迭代指令 408 zo@>~G3$9  
20.7  报表模版 408 w[PW-m^`  
20.8  开始设计一个报表模版 409 DXKk1u?Tq  
21  一个新的project 413 ]ZO^@sH  
21.1  创建一个新Job 414 I=f1kr pR  
21.2  默认设计 415 C_O 7  
21.3  薄膜设计 416 H) q9.Jg  
21.4  误差的灵敏度计算 420 $q.8ve0&^  
21.5  显色指数计算 422 j/9FiuK  
21.6  电场分布 424 dSIMwu6u  
后记 426 5/:Zj,41{  
#k)G1Y[c  
Fxv~;o#  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :BMUc-[  
:+]6SC0ql  
《Essential Macleod中文手册》
u9mMkzgSkP  
s26s:A3rh  
目  录 o,bV.O.W  
~<v`&Gm?"  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ^ 9;s nr  
第1章 介绍 ..........................................................1 ?_\Hv@t;  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 _sZ/tU@_-K  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 BT d$n!'$n  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 LfOGq%&  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 FD_0FMZ9,  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 gADt%K2 #Z  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $C#~c1w  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 F\-qXSA  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 *i5&x/ds  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Z`b,0[rG[  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 X:8=jHkz  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ( }JX ]-  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Kh<v2  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 *XtZ;os]  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 5Odi\SJ&  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ^Po\:x%o  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 s%4)}w;z  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 [`ttNW(_  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ,iSs2&$ m  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 \,p)  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271  Kn\Oj=4  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 rQisk8 %  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ?0'bf y]  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 fM S-  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Vx* =  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 3: mF!  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 V3@^bc!   
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 dhm ;  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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