线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1175
时间地点 'r} fZ  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 k9si| '  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 7C,T&g 1:  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 cu7(.  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /SR^C$h'I  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
`,Vv["^PB  
特邀专家介绍 gn1(4 o  
@R2at  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 kCP$I732  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 eE8ULtO  
课程概要 \gO,hST   
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 UWXm?v2j  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ,^s  
课程大纲 KLQ!b,=q  
1. Essential Macleod软件介绍 ]s1 YaNq  
1.1 介绍软件 m7|RD]q&  
1.2 创建一个简单的设计 Ca>&  
1.3 绘图和制表来表示性能 /2uQCw&x-  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 1yqoA *  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) K%g;NW  
1.6 特定设计的公式技术 0~gO'*2P  
1.7 交互式绘图 lC?Icn|o  
2. 光学薄膜理论基础 \FzM4-  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 & eZfQ27$  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 !]?$f=  
3. 材料管理 -V<t-}h.  
3.1 材料模型 3.R#&Zxt  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 gUax'^w;V;  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 NeOxpn[  
3.4 基板光学常数的提取 I4_d[O9  
4. 光学薄膜设计优化方法 <,%:   
4.1 参考波长与g ?pGkk=,KB  
4.2 四分之一规则 \F6LZZ2Lv  
4.3 导纳与导纳图 K`KLC.j  
4.4 斜入射光学导纳 =_TaA(79  
4.5 光学薄膜设计的进展 12`_;[37  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 udqS'g&  
4.6.1 优化目标设置 @9G- m(?*  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 30cd| S?  
4.6.3 膜层锁定和链接 l:(Rb-Wy  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 {bNXedZ\  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Cpl;vQ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 wzWbB2Mb5  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 zsl,,gk9Y  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 N=1JhjVk"  
5.5 如何在Function中编写脚本 FH5ql~  
6. 光学薄膜系统案例 Wsj=!Obc  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 `iShJz96  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 qCMl!g'  
6.3 Stack应用范例说明 {{yt*7k{  
7. 薄膜性能分析 e(B9liXM  
7.1 电场分布 b!>\2DlyJ  
7.2 公差与灵敏度分析 H}0dd"  
7.3 反演工程 T3&`<%,f  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 F phDF  
8. 真空技术 !>^JSHR4t  
8.1 常用真空泵介绍 LJzH"K[Gg6  
8.2 真空密封和检漏 gQWd&)'muf  
9. 薄膜制备技术 q }C+tn"\  
9.1 常见薄膜制备技术 V9 }t0$LN  
10. 薄膜制备工艺 i, nD5 @#  
10.1 薄膜制备工艺因素 l95<QI  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6gO9 MQY  
10.3 光学薄膜监控技术 K`:=]Z8  
11. 激光薄膜 tJI,r_  
11.1 薄膜的损伤问题 V,7%1TZ:  
11.2 激光薄膜的制备流程 o@E/r.uK  
11.3 激光薄膜的制备技术 lT8\}hNI+  
12. 光学薄膜特性测量 |01?w|  
12.1 薄膜光谱测量 4g _"ku  
12.2 薄膜光学常数测量 {y^3> 7  
12.3 薄膜应力测量 %i{;r35M;9  
12.4 薄膜损伤测量 "i)Yvh[y  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 /i|z.nNO  
$6f\uuTU2"  
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QGnxQ{ko  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
vxlOh.a|/L  
内容简介 1qdZ c_x  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 FcbM7/  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 6iezLG 5  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 B\`Aojw"E?  
!|wzf+V  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
EmVuwphv  
目录 ak:v3cQR  
Preface 1 !%L,* '  
内容简介 2 LwJ0  
目录 i 7()?C}Ni-  
1  引言 1 YrI|gz)  
2  光学薄膜基础 2 f?fKhu2  
2.1  一般规则 2 JHV)ZOO  
2.2  正交入射规则 3 P<dy3 ;  
2.3  斜入射规则 6 ]L_w$ev'  
2.4  精确计算 7 0`#(Toe{B  
2.5  相干性 8 Y0uvT7+[hi  
2.6 参考文献 10 XH4d<?qu  
3  Essential Macleod的快速预览 10 PK6iY7Qp)  
4  Essential Macleod的特点 32 4)-)#`K  
4.1  容量和局限性 33 nn~YK  
4.2  程序在哪里? 33 haSM=;uPM  
4.3  数据文件 35 }6zbT-i  
4.4  设计规则 35 LC69td&  
4.5  材料数据库和资料库 37 ,i}|5ozj4  
4.5.1材料损失 38 70W"G X&  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]Tp U"JD  
4.5.2 材料库 41 PBqy F  
4.5.3导出材料数据 43 :>3=gex@^0  
4.6  常用单位 43 Ws[D{dS/  
4.7  插值和外推法 46 $Rtgr{ {;"  
4.8  材料数据的平滑 50 8^ep/b&|  
4.9 更多光学常数模型 54 {a q9i  
4.10  文档的一般编辑规则 55 &V=7D#L  
4.11 撤销和重做 56 /="HqBI#i  
4.12  设计文档 57 8QgA@y"  
4.10.1  公式 58 xN->cA$A  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 L&2u[ml  
4.10.3  沉积密度 59 *7gT}O;p 5  
4.10.4 平行和楔形介质 60 HD`>-E#  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Un=a fX?j  
4.10.4  性能 61 m)>&ZIXa  
4.10.5  保存设计和性能 64 TRvZ  
4.10.6  默认设计 64 OKue" p  
4.11  图表 64 /I{R23o  
4.11.1  合并曲线图 67 %CH6lY=lI  
4.11.2  自适应绘制 68  $g8}^1  
4.11.3  动态绘图 68 lJ  
4.11.4  3D绘图 69 :R6Q=g=  
4.12  导入和导出 73 :- +4:S  
4.12.1  剪贴板 73 =]>%t]  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 w<nv!e?  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 P_4DGW  
4.13  背景 77 _^!vCa7f  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 jZ9[=?   
4.15  生成Rugate 84 j'rS&BI G  
4.16  参考文献 91 t 0O4GcAN  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 7k8n@39?  
5.1  Jobs 92 t8J/\f=  
5.2  创建一个新Job(工作) 93  @|A|  
5.3  输入材料 94 *o?i:LE]  
5.4  设计数据文件夹 95 Epjff@ 7A  
5.5  默认设计 95 e<+<lj "  
6  细化和合成 97 M@7Xp)S"  
6.1  优化介绍 97 e- 6w8*!i  
6.2  细化 (Refinement) 98 v548ysE)  
6.3  合成 (Synthesis) 100 CY"i-e"q<Q  
6.4  目标和评价函数 101 5~VosUp e7  
6.4.1  目标输入 102 z/|BH^Vw  
6.4.2  目标 103 3(_!`0#F%  
6.4.3  特殊的评价函数 104 .KA V)So"  
6.5  层锁定和连接 104 s;.=5wcvi?  
6.6  细化技术 104 '1+.t$"/tU  
6.6.1  单纯形 105 'CV^M(o'9  
6.6.1.1 单纯形参数 106 pdz'!I  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ,@CfVQz  
6.6.2.1 Optimac参数 108 &r_uQbx  
6.6.3  模拟退火算法 109 U6j/BJT"  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 }[=YU%[o:  
6.6.4  共轭梯度 111 =4NqjSH  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 &^QPkX@p  
6.6.5  拟牛顿法 112 ?Myh 7  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 pM$ @m]  
6.6.6  针合成 113 TipHV;|e  
6.6.6.1 针合成参数 114 3)E(RyQA3  
6.6.7 差分进化 114 o}D![/  
6.6.8非局部细化 115 rG6\ ynBX%  
6.6.8.1非局部细化参数 115 EZj1jpL  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 9D_wG\g  
6.7.1  细化 116 \Ow,CUd  
6.7.2  合成 117 __\P`S_  
6.8  参考文献 117 {8CWWfHCD  
7  导纳图及其他工具 118 {*xBm#  
7.1  简介 118 3 N%{B  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 2P}I'4C-  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ~[18q+,  
7.2.2  导纳图 120 ;93KG4a  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &L3 #:jSk  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 f%Ke8'&  
7.5  斜入射导纳图 141 _}=E^/;(  
7.6  对称周期 141 +VOb  
7.7  参考文献 142 &9P<qU^N)  
8  典型的镀膜实例 143 AzjMv6N   
8.1  单层抗反射薄膜 145 n`<S&KP|  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 *x,HnHT  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #93}E Y  
8.4  W-膜层 148 " i`8l.Lc  
8.5  V-膜层 149 &oN/_7y  
8.6  V-膜层高折射基底 150 n7iE8SK|k  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Lk nVqZ|k  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 uPU#c\  
8.9  四层抗反射薄膜 153 In(NF#  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 .TN2s\:]jw  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *.8:'F  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 R}k69-1vL  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 M&e8zS  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Phlk1*1n  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Bz:0L1@,4a  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 d}% (jJ(I  
8.17  1/4波长堆栈 162 7^wE$7hS  
8.18  陷波滤波器 163 !R{em48D  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 <7RfBR.9  
8.20  褶皱 165 iS05YW  
8.21  消偏振分光器1 169 p#<nK+6.8  
8.22  消偏振分光器2 171 Mjw[:70  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^pw7o6}  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Q X):T#^V  
8.25  立体偏振分束器1 174 ~XQ$aRl&  
8.26  立方偏振分束器2 177 5"2@NL  
8.27  相位延迟器 178 R0IF'  
8.28  红外截止器 179 yA}nPXrd  
8.29  21层长波带通滤波器 180 |_I[1%&`N  
8.30  49层长波带通滤波器 181 s01$fFJgO  
8.31  55层短波带通滤波器 182 pn*d[M|k  
8.32  47 红外截止器 183 /j %_t  
8.33  宽带通滤波器 184 ULu O0\W  
8.34  诱导透射滤波器 186 }K;iJ~kD1  
8.35  诱导透射滤波器2 188 sH@  &*  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 UzJ!Y/5  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 *h])mqhB  
8.35  增益平坦滤波器 193 @>Ek'~m  
8.38  啁啾反射镜 1 196 @Yarz1  
8.39  啁啾反射镜2 198 B[7A  
8.40  啁啾反射镜3 199 d~/xGB`<  
8.41  带保护层的铝膜层 200 I1v@\Rb  
8.42  增加铝反射率膜 201 Bxt_a.LthH  
8.43  参考文献 202 |rFJ*.nD  
9  多层膜 204 0#]!#1utg  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Q'C 4pn@  
9.2  内部透过率 204 c}'Xoc  
9.3 内部透射率数据 205 _KxX&THaj  
9.4  实例 206 2D_6  
9.5  实例2 210 :SdIU36  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ,i;9[4QMX  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 8_Jj+  
10  光学薄膜的颜色 216 `>y[wa>9r  
10.1  导言 216 #4lHaFq  
10.2  色彩 216 - BjEL;  
10.3  主波长和纯度 220 'N|2vbi<  
10.4  色相和纯度 221 9?!u2 o  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 *.,8,e8Vq  
10.6 色差 226 3U>S]#5}  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 H! #5!m&  
10.8  颜色渲染指数 234 x@Sra@  
10.9  色差计算 235 ^X$ I=ro  
10.10  参考文献 236 4t*<+H%  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 p>!1S  
11.1  短脉冲 238 XWc|[>iO  
11.2  群速度 239 ,A^L=+  
11.3  群速度色散 241 ^Jn|*?+l  
11.4  啁啾(chirped) 245 [(!Q-8  
11.5  光学薄膜—相变 245 "wF*O"WQo  
11.6  群延迟和延迟色散 246 *:(1K%g  
11.7  色度色散 246 R:BBF9sK?  
11.8  色散补偿 249 83B\+]{hD  
11.9  空间光线偏移 256 Fr<Pe&dn  
11.10  参考文献 258 s~/57S  
12  公差与误差 260 0NVG"-Q  
12.1  蒙特卡罗模型 260 7/ 4~>D&-b  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 XpOCQyFnM  
12.2.1  误差工具 267 p-a]"l+L  
12.2.2  灵敏度工具 271 ^NcTWbs-T  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 s!bHS_\e|  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 y B1W>s8&  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 3SmqXPOw  
12.3  参考文献 276 ZjE~W>pkQ  
13  Runsheet 与Simulator 277 bL+sN"Km  
13.1  原理介绍 277 l DgzM3  
13.2  截止滤光片设计 277 Mp!2`4rD  
14  光学常数提取 289 Wnb)*pPP  
14.1  介绍 289 >Zi|$@7t-  
14.2  电介质薄膜 289 b$IY2W<Ln  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Qh/lT$g  
14.4  基底的参数提取 302 DrW/KU,{+(  
14.5  金属的参数提取 306 (69kvA&|q  
14.6  不正确的模型 306 Pxap;;\  
14.7  参考文献 311 >3v0yh_3  
15  反演工程 313 VOD1xWrb  
15.1  随机性和系统性 313 9Y;}JVS  
15.2  常见的系统性问题 314 ,^Ex}Z  
15.3  单层膜 314 gGF$M `  
15.4  多层膜 314 *4zoAslU1  
15.5  含义 319 (L]T*03#  
15.6  反演工程实例 319 D "JMSL4r  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 )tJL@Qo  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 fN~8L}!l  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 44z=m MR<  
16.1  光学性质的热致偏移 329 \xy:6gd:  
16.2  应力工具 335 n\~"Wim<b  
16.3  均匀性误差 339 O<gP)ZW~  
16.3.1  圆锥工具 339 0%vixR52  
16.3.2  波前问题 341 IO?~b XP  
16.4  参考文献 343 1t!&xvhG  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 = .fc"R|<K  
17.1  引言 345 :0i#=ODR  
17.2  操作数 345 K+(m'3`  
18  如何在Function中编写脚本 351 ;Of?fe5:  
18.1  简介 351 :/n ?4K^  
18.2  什么是脚本? 351 lsTe*Od  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Lx|w~+k}  
18.4  基础 352 ,Gf+U7'K  
18.4.1  Classes(类别) 352 $u/8Rp  
18.4.2  对象 352 VKl~oFKXJ  
18.4.3  信息(Messages) 352 hg)!m\g  
18.4.4  属性 352 `K1PGibV  
18.4.5  方法 353 vLVSZX  
18.4.6  变量声明 353 ,i1fv "  
18.5  创建对象 354 O% j,:t'"  
18.5.1  创建对象函数 355 2nOe^X!*  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 +9& ulr  
18.5.3 丢弃对象 356 &q kl*#]  
18.5.4  总结 356 ?,A8  fR  
18.6  脚本中的表格 357 B$iMU?B3  
18.6.1  方法1 357 / r`Y'rm  
18.6.2  方法2 357 4jI*Y6Wkz  
18.7 2D Plots in Scripts 358 0hEF$d6U  
18.8 3D Plots in Scripts 359 U^WQWa  
18.9  注释 360 XF0*d~4  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 !YuON6{)  
18.11  一个更高级的脚本 362 ~}FLn9@*  
18.12  <esc>键 364 ^+YGSg7  
18.13 包含文件 365 CVn;RF6  
18.14  脚本被优化调用 366 U/~Zk@3j  
18.15  脚本中的对话框 368 vwSX$OZ  
18.15.1  介绍 368 Tg}H < T  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 -F~9f>  
18.15.3  输入框函数 370 K1qY10F:_  
18.15.4  自定义对话框 371 (rCPr,@0  
18.15.5  对话框编辑器 371 U7f#Z  
18.15.6  控制对话框 377 #&HarBxx  
18.15.7  更高级的对话框 380 B@: XC&R^  
18.16 Types语句 384 )Q N=>J  
18.17 打开文件 385 G/^5P5y%@  
18.18 Bags 387 ! 7#froh  
18.13  进一步研究 388 `^@g2c+d  
19  vStack 389 )@};lmPR  
19.1  vStack基本原理 389 $(!D/bvJ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 wHDF TIDI  
19.3  五棱镜 393 UBpM8/U  
19.4 光束距离 396 |Cxip&e>  
19.5 误差 399 U~QCN[gh  
19.6  二向分色棱镜 399 h3vm< R;  
19.7  偏振泄漏 404 #6#BSZ E  
19.8  波前误差—相位 405 Yqj.z|}Nb  
19.9  其它计算参数 405 `~s,W.Eu4  
20  报表生成器 406 tue%L]hc  
20.1  入门 406  s`{#[&[  
20.2  指令(Instructions) 406 L< nkI  
20.3  页面布局指令 406 X_Of k  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Hr64M0V3B  
20.5  表格中的常见参数 408 }][|]/s?42  
20.6  迭代指令 408 AF{7<v>/P  
20.7  报表模版 408 e&VR>VJEA  
20.8  开始设计一个报表模版 409 f1,$<Y|qU  
21  一个新的project 413 d}A2I  
21.1  创建一个新Job 414 e#Zf>hlAz  
21.2  默认设计 415 NU 6Kh7  
21.3  薄膜设计 416 j,V$vKP  
21.4  误差的灵敏度计算 420 "$wPq@  
21.5  显色指数计算 422 [n@!=T  
21.6  电场分布 424 2ucsTh@  
后记 426 ]idD&5gd  
z jNjmC!W  
(2a "W`  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 77[;J  
gpTF^.(  
《Essential Macleod中文手册》
xWI 0s;k  
M%dl?9pbq  
目  录 T"0)%k8lJ  
8f`b=r(a>  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vd X~E97  
第1章 介绍 ..........................................................1 "u> sS  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ?;=Y1O7N(  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 m"> =QP  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 i(qYyO'  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Ydd>A\v\;  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 7&S|y]$~  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 R)d 7b,_Yd  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 F/,<dNJ  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 NCh(-E  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 V5^b6$R@  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 5 WNRo[`7  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 x@R A1&c  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 o_^d>Klb8  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ReGb .pf  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 jQBdS. }'v  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Hbj:CViYq  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 2n r UE  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ,(Hmk(,  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Oh85*3  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ~0$F V  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 vpw&"?T  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 |ssIUJ  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 bB :X<  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 m6ws #%|[  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 CoN/L`.SN  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 $Lbe5d?\  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 8`?j*FV7kq  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 '/*rCB  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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