线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:595
时间地点 ("2X8(3z  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 9Da{|FyrD  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 8tx*z"2S  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 k83K2> ]  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 R| ?Q&F_$  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 $oBs%.Jp  
u}@N Qeg  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ,|A^ <R`  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 D&%8JL  
课程概要 9zwD%3Ufn  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 I2[Z0G@&=  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 J3eud}w  
课程大纲 L 4j#0I]lq  
1. Essential Macleod软件介绍 1<r!9x9G  
1.1 介绍软件 ys9:";X;}  
1.2 创建一个简单的设计 pU7;!u:c4%  
1.3 绘图和制表来表示性能 72dRp!J U  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4$xVm,n|  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ,a #>e  
1.6 特定设计的公式技术 Q,3kaR@O  
1.7 交互式绘图 Q,KNZxT,q  
2. 光学薄膜理论基础 2{79,Js0  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 yYP_TuNa  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 s2O()u-  
3. 材料管理 A8'RM F1  
3.1 材料模型 N%dY.Fk  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 q\EYsN</;  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 1K Fd ~U  
3.4 基板光学常数的提取 xMjhC;i{  
4. 光学薄膜设计优化方法 Ib..X&N2  
4.1 参考波长与g \3JCFor/  
4.2 四分之一规则 gi!_Nz  
4.3 导纳与导纳图 \zBi-GI7  
4.4 斜入射光学导纳  d$$5&a  
4.5 光学薄膜设计的进展 dc)%5fV\  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 %1i:*~g  
4.6.1 优化目标设置 :^)?AO#J  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) EO!,rB7I  
4.6.3 膜层锁定和链接 t "VT['8  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 _k@cs^  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 1-y8Hy_a2  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 I$; `^z  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 jFN0xGZ  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ]Y [N=G  
5.5 如何在Function中编写脚本 cY5&1Shb~  
6. 光学薄膜系统案例 p1UloG\  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 &>jz[3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Hu|Tj<S  
6.3 Stack应用范例说明 Lz 1.+:Ag  
7. 薄膜性能分析 +=($mcw#[  
7.1 电场分布 oMbd1uus  
7.2 公差与灵敏度分析 * :L"#20:R  
7.3 反演工程 BN9e S   
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 T?1BcY  
8. 真空技术 ~0PzRS^o  
8.1 常用真空泵介绍 }097[-g7  
8.2 真空密封和检漏 FyEKqYl  
9. 薄膜制备技术 wpZ"B+oK!  
9.1 常见薄膜制备技术 OJe!K:  
10. 薄膜制备工艺 ,WyEwc]  
10.1 薄膜制备工艺因素 S`s]zdUTP  
10.2 薄膜均匀性修正技术 9y!0WZE{e  
10.3 光学薄膜监控技术 s@Q7F{z  
11. 激光薄膜 01mu6)  
11.1 薄膜的损伤问题 7!J-/#!  
11.2 激光薄膜的制备流程 0nt@}\j  
11.3 激光薄膜的制备技术 .n7@$kq  
12. 光学薄膜特性测量 T1Py6Q,-  
12.1 薄膜光谱测量 9nAP%MA`  
12.2 薄膜光学常数测量 kK75(x  
12.3 薄膜应力测量 Tt: (l/1  
12.4 薄膜损伤测量 XM\\Imw  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 sa.H,<;  
og";mC  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
V|YQhd0kv  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
KYiJXE[Q-  
内容简介 m1W) PUy  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 F3bTFFt  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 v< P0f"GH  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 fw&*;az  
Zn9u&!T&  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
GQ1/pys  
目录 ]gBnzh.  
Preface 1 ZUS-4'"$  
内容简介 2 !.UE}^TV  
目录 i ST{Vi';}  
1  引言 1 }#7l-@{<  
2  光学薄膜基础 2 p$,G`'l  
2.1  一般规则 2 }ktIG|GC  
2.2  正交入射规则 3 Mxl;Im]!`.  
2.3  斜入射规则 6 ZLzc\>QX  
2.4  精确计算 7 Vit-)o{zr  
2.5  相干性 8 C_J@:HlJ  
2.6 参考文献 10 >az~0PeEL  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ~ky;[  
4  Essential Macleod的特点 32 xgxfPcI  
4.1  容量和局限性 33 i8?oe%9l  
4.2  程序在哪里? 33 k^cZePqE6d  
4.3  数据文件 35 (?l ]}p^[  
4.4  设计规则 35 LAC&W;pJ"  
4.5  材料数据库和资料库 37 eWFkUjz  
4.5.1材料损失 38 ,yC..aI  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 xn`)I>v  
4.5.2 材料库 41 n$2oM5<  
4.5.3导出材料数据 43 o-bH3Jkb]&  
4.6  常用单位 43 O7 ;=g!j  
4.7  插值和外推法 46 3zB'AG3b  
4.8  材料数据的平滑 50 @aQ:3/  
4.9 更多光学常数模型 54 Q\4tzb]  
4.10  文档的一般编辑规则 55 {dxFd-K3  
4.11 撤销和重做 56 1'/ [x(/]d  
4.12  设计文档 57 c!E{fSP  
4.10.1  公式 58 ~Eg]Auk7  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 bse`Xfg  
4.10.3  沉积密度 59 P;.roD9  
4.10.4 平行和楔形介质 60 anSZWQ  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 l,J>[Q`<  
4.10.4  性能 61 8gavcsVE[  
4.10.5  保存设计和性能 64 ?EC\ .{  
4.10.6  默认设计 64 }Nr6oUn  
4.11  图表 64 &.E/%pQ`  
4.11.1  合并曲线图 67 |? V7E\S  
4.11.2  自适应绘制 68 ND1hZ3(^  
4.11.3  动态绘图 68 H5 z1_O_+  
4.11.4  3D绘图 69 S`vt\g$ dN  
4.12  导入和导出 73 ,a&,R*r@&  
4.12.1  剪贴板 73 }<~(9_+  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 <( OHX3~  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ry|a_3X(I  
4.13  背景 77 t*= nI $  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 C<=rnIf'  
4.15  生成Rugate 84 bit|L7*14  
4.16  参考文献 91 I\TSVJk^Xi  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 * sldv  
5.1  Jobs 92 /wEl\Kx  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 (nO2+@ !  
5.3  输入材料 94 {F wvuk  
5.4  设计数据文件夹 95 se.HA  
5.5  默认设计 95 'o)Y!VYnJF  
6  细化和合成 97 |@_<^cV110  
6.1  优化介绍 97 LilK6K  
6.2  细化 (Refinement) 98 5Xr})%L  
6.3  合成 (Synthesis) 100 w=]A;GgA  
6.4  目标和评价函数 101 ?;o0~][!  
6.4.1  目标输入 102 G2N0'R "  
6.4.2  目标 103 w)|9iL8  
6.4.3  特殊的评价函数 104 R]yce2w"z  
6.5  层锁定和连接 104 |= cc>]  
6.6  细化技术 104 m!KEK\5M?  
6.6.1  单纯形 105 v@]SddP,?  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ' ds2\gN  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 AM=> P 7  
6.6.2.1 Optimac参数 108 %~:\f#6  
6.6.3  模拟退火算法 109 j*>Df2z  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 G>"n6v'^d  
6.6.4  共轭梯度 111 mn03KF=n]  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2T}>9X  
6.6.5  拟牛顿法 112 E{[Y8U1n  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ,y'6vW`%g9  
6.6.6  针合成 113 s7n7u7$j  
6.6.6.1 针合成参数 114 <.Zh{"$qo  
6.6.7 差分进化 114 i#4+l$q  
6.6.8非局部细化 115 T%oJmp?0  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Sed 8Q-m  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 /RJ]MQ\*O  
6.7.1  细化 116 c/ImK`:)4a  
6.7.2  合成 117 c$,1j%[)  
6.8  参考文献 117 e|:\Ps`8  
7  导纳图及其他工具 118 QDW,e]A  
7.1  简介 118 8H-yT1  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 |J4sQ!%K  
7.2.1  四分之一波长规则 119 QuEX|h,F  
7.2.2  导纳图 120 OD7^*j(p`  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 q)9n%- YgP  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ;`^_9 K  
7.5  斜入射导纳图 141 /ojx$Um  
7.6  对称周期 141 Q>Klkd5(  
7.7  参考文献 142  I!?Xq  
8  典型的镀膜实例 143 7_PY%4T"  
8.1  单层抗反射薄膜 145 9QX!HQ|5y8  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 m-$}'mEO  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %\-E R !b  
8.4  W-膜层 148 m8PS84."]M  
8.5  V-膜层 149 FRR05%K  
8.6  V-膜层高折射基底 150 5.ab/uk;M  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 1#c Tk  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ;_SSR8uHv  
8.9  四层抗反射薄膜 153 m5 sW68  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 VqvjOeCbH  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 L7{}`O/g7  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 %\,9S`0  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 LI@BB:)[  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 4v/MZ:%C`  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 hFm^Fy[R  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 f8[O]MrO;  
8.17  1/4波长堆栈 162 Ph]b6  
8.18  陷波滤波器 163 3QBzyJW f  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .xwskzJ3  
8.20  褶皱 165 6QA`u*  
8.21  消偏振分光器1 169 AB\Ya4O"9  
8.22  消偏振分光器2 171 q++\< \2  
8.23  消偏振立体分光器 172 @*<0:Q|m  
8.24  消偏振截止滤光片 173 *]HnFP  
8.25  立体偏振分束器1 174 aL[6}U0(}  
8.26  立方偏振分束器2 177 [u!n=ev  
8.27  相位延迟器 178 &*" *b\  
8.28  红外截止器 179 wdP(MkaV  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Z@dVK`nD  
8.30  49层长波带通滤波器 181 !@ ]IJ"\  
8.31  55层短波带通滤波器 182 "G%</G8M  
8.32  47 红外截止器 183 izcaWt3 a  
8.33  宽带通滤波器 184 m-azd ~r[  
8.34  诱导透射滤波器 186 gIz!~I_U  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Z5(9=8hB/  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 _b%)  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 OWwqCPz.  
8.35  增益平坦滤波器 193 R 39_!  
8.38  啁啾反射镜 1 196 v.<mrI#?  
8.39  啁啾反射镜2 198 oDu6W9+  
8.40  啁啾反射镜3 199 P #! N  
8.41  带保护层的铝膜层 200 5C1EdQ4S0  
8.42  增加铝反射率膜 201 WN=0s  
8.43  参考文献 202 XEA5A.uc  
9  多层膜 204 8u~  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 p,8~)ic_  
9.2  内部透过率 204 YhV<.2^k  
9.3 内部透射率数据 205 tXtNK2-1  
9.4  实例 206 I[k"I(  
9.5  实例2 210 s.bo;lk  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ^K"BQ~-w  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 DNq(\@x[!  
10  光学薄膜的颜色 216 2%fIe   
10.1  导言 216 9}9VZ r?  
10.2  色彩 216 1}a4AGAp  
10.3  主波长和纯度 220 jG7PT66>;  
10.4  色相和纯度 221 p" >*WQ   
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3<W%z]k@M  
10.6 色差 226 ~ C%I'z'  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 SC~k4&xy  
10.8  颜色渲染指数 234 an"~n`g  
10.9  色差计算 235 ;_"|#  
10.10  参考文献 236 ,9bnR;f\  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 VSY  p  
11.1  短脉冲 238 h97#(_wV>  
11.2  群速度 239 SdYf^@%}F  
11.3  群速度色散 241 Cty#|6 k  
11.4  啁啾(chirped) 245 Tp;W4]'a*:  
11.5  光学薄膜—相变 245 [ -$ Do  
11.6  群延迟和延迟色散 246 D`WRy}o  
11.7  色度色散 246 <r: AJ;  
11.8  色散补偿 249 @p*)^D6E\  
11.9  空间光线偏移 256 [y@*vQw  
11.10  参考文献 258 \PE;R.v_:  
12  公差与误差 260 IANSpWea?  
12.1  蒙特卡罗模型 260 T3P9  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 6E}9uwQ  
12.2.1  误差工具 267 ~)ys,Q  
12.2.2  灵敏度工具 271 'M>m$cCMZ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 EWD^=VITL  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 @Iz]:@\cJ  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 7v%c.  
12.3  参考文献 276 acl<dY6  
13  Runsheet 与Simulator 277 tsc `u>  
13.1  原理介绍 277 p?Azn>qBa  
13.2  截止滤光片设计 277 "9s_[e  
14  光学常数提取 289 'vBZh1`p  
14.1  介绍 289 Vbl-Ff  
14.2  电介质薄膜 289 =Hd yra  
14.3  n 和k 的提取工具 295 PoF3fy%.  
14.4  基底的参数提取 302 C")genMH  
14.5  金属的参数提取 306 #; ?3k uq(  
14.6  不正确的模型 306 } jj)  
14.7  参考文献 311 o]oiJvOr  
15  反演工程 313 Kn~Rck| ]  
15.1  随机性和系统性 313 =D/zC'l  
15.2  常见的系统性问题 314 >lRZvf-i  
15.3  单层膜 314 _f[Q\gK  
15.4  多层膜 314 a<G&}|6  
15.5  含义 319 Q|AZv>'!  
15.6  反演工程实例 319 GF ux?8A:%  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 !y _{mE?V(  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 yQ2=d5'V`  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 d<a|dwAeh  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ;>?h/tS6  
16.2  应力工具 335 o&q>[c  
16.3  均匀性误差 339 {]^Ixm-,f  
16.3.1  圆锥工具 339 ss)x fG  
16.3.2  波前问题 341 h+ [6i{  
16.4  参考文献 343 -G,}f\Cg  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345  `t U  
17.1  引言 345 SB\%"nnV  
17.2  操作数 345 OT{"C"%5t  
18  如何在Function中编写脚本 351 !&VfOx:PN  
18.1  简介 351 'Z`7/I4&  
18.2  什么是脚本? 351 3xChik{  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 3 ~v 17  
18.4  基础 352 7<yc:}9nx  
18.4.1  Classes(类别) 352 lgOAc,  
18.4.2  对象 352 *|A QV:  
18.4.3  信息(Messages) 352 F_ F"3'[  
18.4.4  属性 352 Tz]R}DKB&  
18.4.5  方法 353 2zTi/&K&  
18.4.6  变量声明 353 @ma(py  
18.5  创建对象 354 rpT.n-H>%A  
18.5.1  创建对象函数 355 bU! v  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 79h~w{IT@  
18.5.3 丢弃对象 356 8 t5kou]h  
18.5.4  总结 356 ]i*ucW4  
18.6  脚本中的表格 357 eTuqK23  
18.6.1  方法1 357 $m4-^=  
18.6.2  方法2 357 ZL!u$)(V  
18.7 2D Plots in Scripts 358 W:d p(,L  
18.8 3D Plots in Scripts 359 iQ)ydY a  
18.9  注释 360 ||Zup\QB  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ix3LB!k<  
18.11  一个更高级的脚本 362 MYAt4cHc2  
18.12  <esc>键 364 WTvUz.Et  
18.13 包含文件 365 qyH -Z@  
18.14  脚本被优化调用 366 k +-w%  
18.15  脚本中的对话框 368 `geHSx_  
18.15.1  介绍 368 }E 'r?N  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 #4^d#Gj  
18.15.3  输入框函数 370 >@YefNX6  
18.15.4  自定义对话框 371 L:G#>  
18.15.5  对话框编辑器 371 iod%YjZu  
18.15.6  控制对话框 377 7>E.0DP  
18.15.7  更高级的对话框 380 AcH-TIgM/  
18.16 Types语句 384 *T5;d h (  
18.17 打开文件 385 (eN7s_  
18.18 Bags 387 $T'!??|IF  
18.13  进一步研究 388 f O*jCl  
19  vStack 389 QZ a.c  
19.1  vStack基本原理 389 '/W$9jm  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 U.7fMc#  
19.3  五棱镜 393 * DL7p8  
19.4 光束距离 396 lE:g A,  
19.5 误差 399 PVCoXOqh  
19.6  二向分色棱镜 399 ~66xO9s  
19.7  偏振泄漏 404 f9De!"*&  
19.8  波前误差—相位 405 R?{+&r.X  
19.9  其它计算参数 405 $]v}X},,  
20  报表生成器 406 t[^$F,  
20.1  入门 406 Zj`WRH4  
20.2  指令(Instructions) 406 (`P\nnb  
20.3  页面布局指令 406 yYG<tUG;  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Ni,nQ;9  
20.5  表格中的常见参数 408 c`a(  
20.6  迭代指令 408 R@vcS=m7  
20.7  报表模版 408 zKJ2 ~=  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ;a:H-iC  
21  一个新的project 413 J!I)G&:  
21.1  创建一个新Job 414 @AsJnf$y  
21.2  默认设计 415 V>Wk\'h  
21.3  薄膜设计 416 mB?x_6#d9  
21.4  误差的灵敏度计算 420 +{J8,^z#  
21.5  显色指数计算 422 c`;\sW-_W  
21.6  电场分布 424 kxn&f(5  
后记 426 qL(Q1O!  
IPiV_c-l  
D&@]  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 !IxO''4  
m>>.N?  
《Essential Macleod中文手册》
}U_ ' 7_JT  
"t@p9>  
目  录 8%?y)K^ D  
{@Mr7*u  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 [Kg b#L'{  
第1章 介绍 ..........................................................1 uV/5f#)  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 vvoxK0  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 vF$i"^;tJ;  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17  N;7/C  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 wp[Ug2;G  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Vz{+3vfra6  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 6cQgp]%  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 KyvZ? R  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ?$r`T]>`2  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 o4(*nz  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 UM}u(;oo%)  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 U84W(X  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 @ZKf3,J0  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8)i""OD@I  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 \l%xuT  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 1H)mJVIKkB  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 hsZ/Vnn`  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 wT1s;2%  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 8`Ya7c>  
第20章 运行表单 .................................................................... 251  >@ t  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 U$rMZk  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 2ZH+fV?.  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 taQE r 2Zy  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 2iAC_"n  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 DL]tg [w{  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 JTlk[ c  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 =W(*0"RM  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 yU$ MB,1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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