线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1018
时间地点 W8<%[-r  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ~5g~;f[4  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 \Cj B1] I  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 j<x_&1  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 A=4OWV?  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
K%d&EYoW]  
特邀专家介绍 Yw9GN2AG  
w(rE`IgW  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 *] (iS  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 |{8Pb3#U  
课程概要 iB{V^ksU  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 wj+*E6o-n  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 4Up/p&1@  
课程大纲 oQ#8nu{k  
1. Essential Macleod软件介绍 hQ i2U  
1.1 介绍软件 PeT'^?>  
1.2 创建一个简单的设计 3Y &d=  
1.3 绘图和制表来表示性能 d5.4l&\u  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ;fJ.8C  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) /\Ef%@  
1.6 特定设计的公式技术 N0lC0 N?_J  
1.7 交互式绘图 P%6~&woF  
2. 光学薄膜理论基础 xmG<]WF>E  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 M{\I8oOg  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 H.c7Nle  
3. 材料管理 Q@niNDaW2  
3.1 材料模型 /,dz@   
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ;,TFr}p`  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 R=dC4;  
3.4 基板光学常数的提取  <Uur^uB  
4. 光学薄膜设计优化方法 phK/   
4.1 参考波长与g /mHqurB  
4.2 四分之一规则 :Al!1BJQ  
4.3 导纳与导纳图 DqPw#<"H  
4.4 斜入射光学导纳 mR~&)QBP.  
4.5 光学薄膜设计的进展 fox6)Uot  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 h 0|s  
4.6.1 优化目标设置 pw#-_  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ,_P-$lB  
4.6.3 膜层锁定和链接 lFk R=!?=  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 pdMc}=K  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 RNL9>7xV  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 >ef6{URy<  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 }qUX=s GG  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 $xqa{L%B  
5.5 如何在Function中编写脚本 x38 QD;MT  
6. 光学薄膜系统案例 *i,%,O96Nz  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 rjP/l6 ~'  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 2!\D PX  
6.3 Stack应用范例说明 q)GdD==  
7. 薄膜性能分析 WxDh;*am:  
7.1 电场分布 cK@wsA^4  
7.2 公差与灵敏度分析 pCDmXB  
7.3 反演工程 wL1MENzp*z  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ;a/E42eN;  
8. 真空技术 qK+5NF|  
8.1 常用真空泵介绍 s"|Pdc4  
8.2 真空密封和检漏 "Q<MS'a  
9. 薄膜制备技术 =I<R!ZSN  
9.1 常见薄膜制备技术 0K+ne0I  
10. 薄膜制备工艺 m 5.Zu.  
10.1 薄膜制备工艺因素 3Vwh|1?  
10.2 薄膜均匀性修正技术 .`lCWeHN  
10.3 光学薄膜监控技术 \+etCo   
11. 激光薄膜 ! if   
11.1 薄膜的损伤问题 Z;i:](  
11.2 激光薄膜的制备流程 ]d]]'Hk  
11.3 激光薄膜的制备技术 8}[).d160  
12. 光学薄膜特性测量 ' %qr.T %  
12.1 薄膜光谱测量 _w{Qtj~s|  
12.2 薄膜光学常数测量 *hx  
12.3 薄膜应力测量 "g|#B4'e  
12.4 薄膜损伤测量 p?!/+  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 |=w@H]r  
3<!7>]A  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
/(cPfZZ  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
x4 yR8n(  
内容简介 L#J1b!D&<6  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 f?Lw)hMrA  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 #4PN"o@  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m@c)Xci  
XZ7Lk)IR  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
+rd+0 `}C  
目录 XwmL.Gg:]7  
Preface 1 XTy x r  
内容简介 2 !zo{tI19  
目录 i ]DcFySyv  
1  引言 1 zfU{Kd  
2  光学薄膜基础 2 $i&zex{\  
2.1  一般规则 2 n S=W1zf  
2.2  正交入射规则 3 CTb%(<r  
2.3  斜入射规则 6 \hXDO_U  
2.4  精确计算 7 ^!d3=}:0  
2.5  相干性 8 ;pAK_>  
2.6 参考文献 10 Ac@VGT:9  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ;u JMG  
4  Essential Macleod的特点 32 TbU#96"~.  
4.1  容量和局限性 33 Nb\4 /;#  
4.2  程序在哪里? 33 D7Z /H'|  
4.3  数据文件 35 7#Ft|5$~q  
4.4  设计规则 35 b}`T Ln  
4.5  材料数据库和资料库 37 {c'lhUB  
4.5.1材料损失 38 )7F/O3Tq  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ?`s8 pPc4  
4.5.2 材料库 41 dPlV>IM$z  
4.5.3导出材料数据 43 -n 1 v3  
4.6  常用单位 43 Ml_^ `vn  
4.7  插值和外推法 46 [,Gg^*umS  
4.8  材料数据的平滑 50 +7Gwg  
4.9 更多光学常数模型 54 ^qs $v06  
4.10  文档的一般编辑规则 55 >:-$+I  
4.11 撤销和重做 56 -@'FW*b  
4.12  设计文档 57 ah"o~Cbj  
4.10.1  公式 58 7!1S)dup  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ?uu*L6  
4.10.3  沉积密度 59 y29m/i:  
4.10.4 平行和楔形介质 60 }j Xfb@`K  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 *dQSw)R  
4.10.4  性能 61 V~GDPJ+  
4.10.5  保存设计和性能 64 )~>YH*g  
4.10.6  默认设计 64 - ).C  
4.11  图表 64 F?0Ykjh3  
4.11.1  合并曲线图 67 UQsN'r\tS  
4.11.2  自适应绘制 68 wYea\^co  
4.11.3  动态绘图 68 $4\j]RE!  
4.11.4  3D绘图 69 "]*tLL:`  
4.12  导入和导出 73 Pz7XAcPQ(  
4.12.1  剪贴板 73 ctQ/wrkU  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Py< }S-:  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 JF]JOI6.e  
4.13  背景 77 BT$_@%ea&  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Z+SRXKQ  
4.15  生成Rugate 84 y =@N|f!  
4.16  参考文献 91 0RfZEG)  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 \8tsDG(1 '  
5.1  Jobs 92 XppOU  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 2wn2.\v M  
5.3  输入材料 94 HW|IILFB  
5.4  设计数据文件夹 95 <@}9Bid!o  
5.5  默认设计 95 d9ihhqq3}  
6  细化和合成 97 ]n~V!hl?A  
6.1  优化介绍 97 *hrd5na  
6.2  细化 (Refinement) 98 L];b< *d  
6.3  合成 (Synthesis) 100 :Tc^y%b0  
6.4  目标和评价函数 101 p_ =z#  
6.4.1  目标输入 102 6~{C.No}  
6.4.2  目标 103 49P 4b<1  
6.4.3  特殊的评价函数 104 mOSv9w#,  
6.5  层锁定和连接 104 e!`i3KYn"  
6.6  细化技术 104 lr?;*f^3  
6.6.1  单纯形 105 NI5``BwpO  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ?"FbsMk.d  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 -di o5a  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ]4{H+rw  
6.6.3  模拟退火算法 109 u-TUuP  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Mtv?:q  
6.6.4  共轭梯度 111 E4!Fupkpf  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Bt#N4m[X*|  
6.6.5  拟牛顿法 112 O f#:  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 JRFtsio*  
6.6.6  针合成 113 bcR_E5x$  
6.6.6.1 针合成参数 114 zL it  
6.6.7 差分进化 114 }Lv;!  
6.6.8非局部细化 115 eQ"E   
6.6.8.1非局部细化参数 115 eFAnFJ][L  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 q;U,s)Uz^  
6.7.1  细化 116 =EIkD9u  
6.7.2  合成 117 ccnK#fn v  
6.8  参考文献 117 />Nt[o[r  
7  导纳图及其他工具 118 : jx4{V  
7.1  简介 118 q =Il|Nb>  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 2Hdu:"j  
7.2.1  四分之一波长规则 119 jIF |P-  
7.2.2  导纳图 120 a> )f=uS  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 s7EinI{^  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125  9a kH  
7.5  斜入射导纳图 141 7rPF$ \#  
7.6  对称周期 141 ~v83pu1!2s  
7.7  参考文献 142 q9NoI(]e  
8  典型的镀膜实例 143 SzRmF1<  
8.1  单层抗反射薄膜 145 V$~9]*Wn  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 T)CP2U  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %bfZn9_m  
8.4  W-膜层 148 }`"6aM   
8.5  V-膜层 149 T>GM%^h,7-  
8.6  V-膜层高折射基底 150 akT6^cP^  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ipILG4  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 pNIf=lA  
8.9  四层抗反射薄膜 153 EE'!|N3  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 -^57oU  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g ci    
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 H.2QKws^F  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 D0q ":WvE  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 d/Q%IeEL.  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 gO^gxJ'0t  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ]fD} ^s3G  
8.17  1/4波长堆栈 162 k'"%.7$U!  
8.18  陷波滤波器 163 Lxk[;j+  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 <9%R\_@$H  
8.20  褶皱 165 >U3cTEs cj  
8.21  消偏振分光器1 169 N36_C;K-z  
8.22  消偏振分光器2 171 ?rup/4|  
8.23  消偏振立体分光器 172 ``Un&-Ms  
8.24  消偏振截止滤光片 173 T5:G$-qL(  
8.25  立体偏振分束器1 174 OC:T O|S:4  
8.26  立方偏振分束器2 177 6_ow%Rx~F  
8.27  相位延迟器 178 2>H24F  
8.28  红外截止器 179 i@ BtM9:  
8.29  21层长波带通滤波器 180 6i*sm.SDw  
8.30  49层长波带通滤波器 181 $a %MOKr  
8.31  55层短波带通滤波器 182 D1mfm.9_r^  
8.32  47 红外截止器 183 KK%M~Y+tU'  
8.33  宽带通滤波器 184 "x /OIf  
8.34  诱导透射滤波器 186 vA.MRu#  
8.35  诱导透射滤波器2 188 v6Vcjm  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 i@R 1/M  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 .-X8J t  
8.35  增益平坦滤波器 193 qcGK2Qx  
8.38  啁啾反射镜 1 196 D #/Bx[  
8.39  啁啾反射镜2 198 hDq`Z$_+KX  
8.40  啁啾反射镜3 199 vFK<J Sk!  
8.41  带保护层的铝膜层 200 .k \@zQ|Ta  
8.42  增加铝反射率膜 201 :$9tF >  
8.43  参考文献 202 (NnH:J`  
9  多层膜 204 |qZ1|  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 %-e 82J1  
9.2  内部透过率 204 9pxc~=  
9.3 内部透射率数据 205 ApXy=?fc  
9.4  实例 206 K>l~SDcZ3  
9.5  实例2 210 QS]1daMIK<  
9.6  圆锥和带宽计算 212 p Q<Y:-`c  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 nmi|\mof  
10  光学薄膜的颜色 216 R#8L\1l  
10.1  导言 216 fLm*1S|%\  
10.2  色彩 216 ^_5r<{7/ :  
10.3  主波长和纯度 220 _1L![-ac  
10.4  色相和纯度 221 Uwx E<=z  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 yw3$2EW  
10.6 色差 226 M6-&R=78K  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 4^OY C  
10.8  颜色渲染指数 234 -701j'q{  
10.9  色差计算 235 f\>M'{cV  
10.10  参考文献 236 c+nq] xOs'  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 :s6o"VkW  
11.1  短脉冲 238 h"lv7;B$  
11.2  群速度 239 "s_lP&nq  
11.3  群速度色散 241 )Z?Ym.0/  
11.4  啁啾(chirped) 245 t#pS{.I  
11.5  光学薄膜—相变 245 J 9iy  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ;^I*J:]  
11.7  色度色散 246 xzZ38xIhV  
11.8  色散补偿 249 //<nr\oP  
11.9  空间光线偏移 256 ,lA  s  
11.10  参考文献 258 xZwLlY  
12  公差与误差 260 l +OFw)8od  
12.1  蒙特卡罗模型 260 !~D}/Q;#}\  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 :Ab%g-  
12.2.1  误差工具 267 t+iHQfuP9A  
12.2.2  灵敏度工具 271 \EtQ5T*u  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 &3Sz je  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 h*$y[}hDuv  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 (l- ab2'  
12.3  参考文献 276 >X4u]>X  
13  Runsheet 与Simulator 277 [^e%@TV>d  
13.1  原理介绍 277 4$S;(  
13.2  截止滤光片设计 277 JYd 'Jp8bP  
14  光学常数提取 289 9:1Q1,-i!-  
14.1  介绍 289 8a'.ZdqC?  
14.2  电介质薄膜 289 $5< #n@  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Sf7\;^  
14.4  基底的参数提取 302 oxkoA  
14.5  金属的参数提取 306 ve/<=IR Zo  
14.6  不正确的模型 306 qHrA%k^!2O  
14.7  参考文献 311 C:C}5<fk x  
15  反演工程 313 S` ;?z  
15.1  随机性和系统性 313 tEKmy7'#  
15.2  常见的系统性问题 314 ()+ <)hg}2  
15.3  单层膜 314 o .G!7  
15.4  多层膜 314 DhT>']Z  
15.5  含义 319 B$!)YD;  
15.6  反演工程实例 319 -Sx\Xi"<o=  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ws|;  `  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 2hkRd>)&5  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 g,95T Bc  
16.1  光学性质的热致偏移 329 #=f?0UTA  
16.2  应力工具 335 M&U j^K1  
16.3  均匀性误差 339 k |%B?\m  
16.3.1  圆锥工具 339 _/!y)&4"  
16.3.2  波前问题 341 ?zVL;gVWA  
16.4  参考文献 343 &n?^$LTPY  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 wK-3+&,9  
17.1  引言 345 >W`4aA  
17.2  操作数 345 :^x?2% ~K.  
18  如何在Function中编写脚本 351 1/-43B  
18.1  简介 351 %V{7DA&C  
18.2  什么是脚本? 351 R>"OXFaE  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 S.q].a  
18.4  基础 352 G\r?f&  
18.4.1  Classes(类别) 352 ugx%_x6  
18.4.2  对象 352 `zXO_@C  
18.4.3  信息(Messages) 352 Yf~{I-|`q  
18.4.4  属性 352 i21Gw41p:  
18.4.5  方法 353 (tGY%oT"  
18.4.6  变量声明 353 8o 0%@5M  
18.5  创建对象 354 ?Cg>h  
18.5.1  创建对象函数 355 eT8}  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 'hv k  
18.5.3 丢弃对象 356 | j a-  
18.5.4  总结 356 s)2fG\1  
18.6  脚本中的表格 357 Eb>78k(3I)  
18.6.1  方法1 357 &0(  
18.6.2  方法2 357 FEW_bP/4  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Xy &uZ  
18.8 3D Plots in Scripts 359 }~h(w^t  
18.9  注释 360 0,Y5KE{  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 4bJZmUb  
18.11  一个更高级的脚本 362 Io|Aj  
18.12  <esc>键 364 ld7v3:M  
18.13 包含文件 365 xvSuPP4 m  
18.14  脚本被优化调用 366 #I3$3^0i#  
18.15  脚本中的对话框 368 (nab  
18.15.1  介绍 368 $Qy7G{XJ[^  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Z@%HvB7  
18.15.3  输入框函数 370 5 `RiS]IO]  
18.15.4  自定义对话框 371 ~w;]c_{.b  
18.15.5  对话框编辑器 371 :BGA.  
18.15.6  控制对话框 377 Wt9Q;hK  
18.15.7  更高级的对话框 380 {?}*1,I  
18.16 Types语句 384 \S)2  
18.17 打开文件 385 wB{;bB{  
18.18 Bags 387 3o|I[!2.  
18.13  进一步研究 388 KB!|B.ChN(  
19  vStack 389 vHE^"l5v  
19.1  vStack基本原理 389 UYtuED  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 N8`4veVBx'  
19.3  五棱镜 393 kz S=g|_  
19.4 光束距离 396 PSmfiaThwo  
19.5 误差 399 45H!;Q sk  
19.6  二向分色棱镜 399 Kw`VrcwjT  
19.7  偏振泄漏 404 M#@aB"@J>  
19.8  波前误差—相位 405 'snYu!`z  
19.9  其它计算参数 405 U`x bPQ  
20  报表生成器 406 Jj^GWZRu  
20.1  入门 406 [;b=A  
20.2  指令(Instructions) 406 ^-M^gYBR  
20.3  页面布局指令 406 :b,^J&~/)1  
20.4  常见的参数图和三维图 407 -)y%~Zn  
20.5  表格中的常见参数 408 T/P7F\R  
20.6  迭代指令 408 FCc=e{  
20.7  报表模版 408 (,xZGa  
20.8  开始设计一个报表模版 409 d= ]U_+  
21  一个新的project 413 L{ymI) Y^  
21.1  创建一个新Job 414 k,Zm GllQ]  
21.2  默认设计 415 2PSTGG8JV  
21.3  薄膜设计 416 m$$?icA  
21.4  误差的灵敏度计算 420 i$-#dc2qY  
21.5  显色指数计算 422 3|Y!2b(:?  
21.6  电场分布 424 [Id}4[={e  
后记 426 lg1PE7  
WO,xMfK  
P l{QOR  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 3An(jt$%Q  
^i:\@VA:  
《Essential Macleod中文手册》
{sC=J hs-  
f e $Wu  
目  录 Eb.;^=x  
wh~s Z  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 X$wehMBX  
第1章 介绍 ..........................................................1 3^G96]E  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 %3a|<6  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Y~"9L|`f/  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 N5 q725zJ  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 sS,#0Qt.  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44  ?B4#f!X  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ,sb1"^Wc  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 #Mi|IwL  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 M g!ra"  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 _F8T\f |  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 / = ^L iP  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 0MpS4tW0=  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 |R'i:=  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 -fux2?8M  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 z/vDgH!s  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 OKQLv+q5K)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 w<d*#$[,*  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 C.E[6$oVc  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 #S i|!  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 /w~C~6z @!  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 fSV5  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 !3KPwI,  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ;Prg'R[o;  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 q)Je.6$#X  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 X RRJ)}P  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 /.-m}0h|W-  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 n1)'cS5}  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Q2$/e+   
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1