薄膜测量设备（膜厚、n、k等）

美国Filmetrics公司F20系列薄膜测量设备：可精确快速测量各种光学及半导体薄膜的厚度、折射率及消光系数等。 h'!V8'}O?  
精度：0.4%或1埃 C0(s
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测量速度：秒级 _Wma\(3$  
光谱范围：紫外到红外 <+q$XL0  
厚度范围：几十埃到几百微米 t3>$|}O]t  
多种光接入方式（样品测量平台）。 zo44^=~%  
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