主要用途
hx!7w}[A tk?UX7F 利用X光对样品内部的
结构特征进行无损检测;
p^QZ q>v CEtR[Cu 性能
参数 :L$4*8@`+ ">90E^ a)几何放大倍数2000倍,整体放大倍数10000倍;
f(:1yl\a XD%wj b)2D检测尺寸:310mm ×310mm;
* gqSWQ $kz!zjC' c)3D检测尺寸:210mm ×100mm;样品厚度:100mm;
tYe:z:7l?< R}{GwbF_\ d)采用数字平板
探测器,灰度等级不低于16bit,
像素尺寸不少于127um,像素不小于1000 x 1000 Pixel;
NPJ.+ph kBsXfVs9 应用范围
1y[B[\ Y;Y1+jt 1.检测DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip等不同
封装的
半导体、电阻、电容等
电子元
器件以及小型PCB印刷
电路板;
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