【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7471
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   9th,VnD0  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! *Em,*!  
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主办:Zemax China     1 .6:#  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     {yExQbN  
地点:上海  \*<d{gZ~  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   .qZI$ l .  
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课程安排: pS7w' H  
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成像设计 |/)${*a4n  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 @qYp>|AF  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; ~5oPpTAe  
材料库、镜头库介绍; IqoR7ajA  
如何定义新材料; %xyou:~0zs  
如何使用镜头库;
MTF; ?)ONf#4Y  
双高斯镜头设计及优化; WA&!;Zq  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; 5f 5f0|ok  
寻找最佳非球面; w {3<{  
曲率套样板; (:> ,u*x%  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; 73\JwOn~  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; [wzb<"kW  
坐标断点面的使用技巧; Sxh]R+Xb  
序列模式棱镜建模; BNs@n"k  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; lp^<3o*1  
加工误差、装配误差; mUik A9u5=  
灵敏度分析; V: TM]  
反灵敏度分析; |3KLk?2  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; I<6P;  
局部优化; "[ZB+-|[0  
全局优化; '?p<lu^^B  
锤形优化; *(T:,PY  
优化函数架构技巧; B e0ND2oo  
透镜优化实例; YF>m$?;  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 2HsLc*9{4  
投影系统设计; |}di&y@-JI  
集光系统设计;
公差评价标准; 85Otss/mM  
公差操作数; ) iN/ua  
补偿变量的使用; Tq[kl'_  
单透镜公差分析; lrIjJ V  
库克镜头公差分析; 8b;1F Q'  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   BdH-9n~,  
实例设计及分析; sW'2+|3"  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; t^G"f;Ra+  
小结及答疑;
公差脚本的使用; LQRQA[^  
镜头出图、CAD出图; :Ra,Eu  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 0?:} P  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 WGZ9B^A  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; \=ux atw  
光源与探测器;
案例:背光模组; aGtf z)  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; mQ|v26R  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; .ufTQ?Fe  
光偏振与膜层;
表面散射; OX?\<),  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; MS 81sN\d  
光谱模型; 2Ay* kmW  
真彩色数据探测;
物体表面属性; m4hg'<<V  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; |es?;s'  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   3 09hn  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; f$Fhf ?'  
非序列系统错误排查;
体散射; L>aLqQ3  
荧光模型
fY51:0{  
H2jgO?l;!  
特色:     xRzFlay8  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     pm 9"4z  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     y[)>yq y  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     #mCL) [  
RL@VSHXc  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     ZQ%'`q\c  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     :*Z4yx  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     SwTL|+u  
QSdHm  
报名方式:     %In A+5s`  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     t!W(_8j  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   F@'Jbd`   
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   t4zkt!`B  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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