【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7750
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   ?$3r5sx  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 5d+<EF+N  
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主办:Zemax China     XdcG0D^  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     WNhbXyp_  
地点:上海 lY.B  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   DMB"Y,  
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课程安排: \yM-O-{  
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成像设计 WE")xhV6  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 K'NcTw#f  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; 9SY(EL  
材料库、镜头库介绍; k_!+V`Ro#  
如何定义新材料; tevQW  
如何使用镜头库;
MTF; N=#4L$@-  
双高斯镜头设计及优化; e$/&M*0\f  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; _ENuwBYW-  
寻找最佳非球面; yLW/ -%I#u  
曲率套样板; e&2wdH&  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; ymtd>P"  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; \83sSw  
坐标断点面的使用技巧; 1i u =Y  
序列模式棱镜建模; PPa^o8jd  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; MHo1 lrZa+  
加工误差、装配误差; FSU<Y1|XM  
灵敏度分析; 0qv$:w)g+v  
反灵敏度分析; 8Y# bN*!  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; "<*awWNI  
局部优化; .B>B`q;B  
全局优化; u?kD)5Nk  
锤形优化; ~s#e,Kav"  
优化函数架构技巧; A:eG5K}  
透镜优化实例; =MC~GXJSNw  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 6 mO"  
投影系统设计; o'Pu'y  
集光系统设计;
公差评价标准; Fd7*]a  
公差操作数; [?KJ9~+0  
补偿变量的使用; # .<V^  
单透镜公差分析; 9= V>f )R  
库克镜头公差分析; 'S?;J ,/  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   hmZvIy(  
实例设计及分析; 4<.O+hS  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; cx^{/U?9}  
小结及答疑;
公差脚本的使用; YsP/p-  
镜头出图、CAD出图; 'L{p,  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 %9o+zg? RJ  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 t\r:E2 O  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; 5h8o4  
光源与探测器;
案例:背光模组; Z)&D`RCf  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; /APcL5:=  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; ~O: U|&  
光偏振与膜层;
表面散射; '# z]M  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; %M&3VQ9w  
光谱模型; Rg* J}  
真彩色数据探测;
物体表面属性; \dq!q=b\  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; 5)'P'kVi7.  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   5+P@s D  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; Sdd9Dv?!  
非序列系统错误排查;
体散射; XoR>H4xh  
荧光模型
\iU]s\{).  
hazq#J!  
特色:     rg5]&<Vq8  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     alm- r-Kb3  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     * OsU Y=;  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     5]"SGP  
+l?; )  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     *7" L]6  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     B9X8  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     *8)2iv4[  
{J]-<:XD  
报名方式:     E'c%d[:H,  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     -2i\G.,J  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   Lw*]EG|?  
u+D[_yd^  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   q0O&UE)6Y  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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