【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7769
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   ^oZD44$  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! &Fl* ,  
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主办:Zemax China     SI;SnF'[7  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     p"q4R2_/jh  
地点:上海 `BY&&Bv#?  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   =)2!qoE  
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课程安排: 0^3@>> ^  
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成像设计 6n'XRfQp)&  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 H_7X%TvXb  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; |79n 1;+\?  
材料库、镜头库介绍; cz$q~)I$  
如何定义新材料; A@OSh6/{h  
如何使用镜头库;
MTF; |I=\+P}s  
双高斯镜头设计及优化; l}mzCIw%  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; Z#|IMmT;*=  
寻找最佳非球面; {1]Of'x'  
曲率套样板; 6Er%td)f  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; VK?c='zg  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; 2bt2h.a  
坐标断点面的使用技巧; qGKQrb,K  
序列模式棱镜建模; uM9RlI5  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; \S"YLRn"  
加工误差、装配误差; #zc{N"!  
灵敏度分析; L51uC ,QF  
反灵敏度分析; 0x8aKq\'  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; "K-2y ^Dl  
局部优化; yX;v   
全局优化; B$%7U><'  
锤形优化; 0Xw3h^%  
优化函数架构技巧; r2 o-/$  
透镜优化实例; GHo=)NTjy  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; -( +/u .  
投影系统设计; WjvD C"  
集光系统设计;
公差评价标准; IBr|A  
公差操作数; =o+))R4  
补偿变量的使用; \%N | X  
单透镜公差分析; 3re|=_ Hy  
库克镜头公差分析; 5\$8"/H  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   C/x<_VJzN/  
实例设计及分析; JOJ? .H&su  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; edD"jq)J  
小结及答疑;
公差脚本的使用; {9C+=v?  
镜头出图、CAD出图; ? $LKn2C  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 =e$6o2!'}  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 fdRw:K8  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; BKQI|i  
光源与探测器;
案例:背光模组; _o-D},f*e  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; V_"K  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; ONw;NaE,  
光偏振与膜层;
表面散射; {JlW1;Jc7  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; 79 ZBVe(}  
光谱模型; )R`w{V  
真彩色数据探测;
物体表面属性; *PjW,   
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; kM T73OI>_  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   RZeU{u<O  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; uk~4R@=&H  
非序列系统错误排查;
体散射; }$ZcC_  
荧光模型
,pz^8NJAI  
HrZ\=1RB  
特色:     9V=bV=4:  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     F! ;0eS"xp  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     ~rX2oLw{&  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     -Vi"hSsUP  
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培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     d8? }69:h  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     6n.W5 1g(s  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     N3Jfp3_b@  
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报名方式:     AZCbUkq  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     \e/'d~F  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   &T8prE?  
6/Coi,om  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   @,63%  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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