【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7478
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   oW5Ov  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! .Ei#mG-=}&  
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主办:Zemax China     8aqH;|fG}  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     I!?)}d  
地点:上海 2M+}o"g  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   -k?K|w*X  
SHc?C&^S  
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课程安排: <.Dg3RH  
7;I;(iY  
成像设计 "X(9.6$_  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 !b"2]Qv  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; S`Xx('!/|  
材料库、镜头库介绍; b$eN]L   
如何定义新材料; ~eyZH8&  
如何使用镜头库;
MTF; p)qM{`]G\  
双高斯镜头设计及优化; h ^.jK2I  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; HdR TdV  
寻找最佳非球面; d4m@u$^1B  
曲率套样板; x MFo  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; dHkI9;  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; { .j030Q  
坐标断点面的使用技巧; BM o2t'L  
序列模式棱镜建模; 1 )H;}%[  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; .T1n"TfsGO  
加工误差、装配误差; G@3Jw[t  
灵敏度分析; =E$B0^_2RC  
反灵敏度分析; 2M>`W5  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; +MtxS l  
局部优化; dC/@OV)0#  
全局优化; OJ1MV7&  
锤形优化; 6zp]SPY  
优化函数架构技巧; "$nff=]  
透镜优化实例; :'4 ",  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; +w2 `  
投影系统设计; cX#U_U~d  
集光系统设计;
公差评价标准; =3Ohy,5L  
公差操作数; o3X0c6uU  
补偿变量的使用; hK UK#xx  
单透镜公差分析; =p[a Cb i  
库克镜头公差分析; c 'rn8Jo}  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   7lx]`u>  
实例设计及分析; '-BD.^!!  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; 3>6rO4,  
小结及答疑;
公差脚本的使用; G-TD9OgZ  
镜头出图、CAD出图; 3ESrd"W=  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 b(Yxsy{U  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 Yw6uh4  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; 6@x^,SA  
光源与探测器;
案例:背光模组; $T6+6<  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; I uC7Hx`z  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; GvBmh.  
光偏振与膜层;
表面散射; e8eNef L$  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; !-m 'diE  
光谱模型; 25;(`Td 5  
真彩色数据探测;
物体表面属性; FY)US>  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; N<O<wtXIj  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   cEIs9;  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; k+zskfo  
非序列系统错误排查;
体散射;  6lL^/$]  
荧光模型
&Z(6i}f,Gp  
lf\^!E:  
特色:     *mkVk7]c  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     2;x+#D8  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     Nj.;mr<  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     eVzZfB-=4}  
:_h#A }8Xd  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     3a'#Z4Z-  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     ?ph>:M  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     lMgPwvs'  
M6j~`KSE  
报名方式:     3:>hHQi  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     ]QQeUxi  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   >IipWTVo<  
*6G@8TIh  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   %Iiu#- 'B  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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