【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7472
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   /h3RmUy   
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! SE  %pw9  
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主办:Zemax China     eeB{c.#  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     tG a8W  
地点:上海 zK@@p+n_#.  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   4|?;TE5  
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课程安排: MQ8J<A Pf-  
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成像设计 S<Xf>-8w  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 &%J08l6  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; oCz/HQoBk  
材料库、镜头库介绍; Sdryol<  
如何定义新材料; 4.t-i5  
如何使用镜头库;
MTF; 9\7en%(M  
双高斯镜头设计及优化; 3.y vvPFEM  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; N~'c_l  
寻找最佳非球面; N(yz k_~  
曲率套样板; _oeS Uzq.  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; sXFZWj }\  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; fz "Y CHe  
坐标断点面的使用技巧; Nj/ x. X  
序列模式棱镜建模; WH^%:4  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; S?2>Er  
加工误差、装配误差; 0o&5 ]lEe  
灵敏度分析; zdam^o  
反灵敏度分析; tKXIk9e  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; RZTiw^  
局部优化; o }m3y  
全局优化; r9?Mw06Wc5  
锤形优化; 3=oDQ&UFt  
优化函数架构技巧; CU!Dhm/U  
透镜优化实例; }Zp,+U*"  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; ^U/O !GK  
投影系统设计; pMM8-R'W-  
集光系统设计;
公差评价标准; 'LDQgC*%  
公差操作数; _|`S3}q|d  
补偿变量的使用; ?}Y]|c^W  
单透镜公差分析; p5*EA x  
库克镜头公差分析; x]j W<A  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   -XG@'P_  
实例设计及分析; TWX.D`W  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; n+M<\  
小结及答疑;
公差脚本的使用; !dq.KwL  
镜头出图、CAD出图; v`T c}c '  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 Tp2.VIoQ=  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 &UFZS94@r  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; *{5fq_  
光源与探测器;
案例:背光模组; uPvEwq* C  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; )t%b838l%  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; Dw"\/p:-3  
光偏振与膜层;
表面散射; %(Icz ?  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; 'Pbr v  
光谱模型; 8eRLy/`gd  
真彩色数据探测;
物体表面属性; Q,Eo mt  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; Pg{J{gn  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   t6t!t*jO  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; K (|}dl:  
非序列系统错误排查;
体散射; \Oo Wo  
荧光模型
yf,z$CR  
_Z\G5x  
特色:     B#R|*g:x  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     n=q 76W\  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     !()Qm,1u  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     NxILRKwO  
!<F3d`a  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     yt2PU_),  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     ~VB1OLgv#.  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     0*v2y*2V  
-:rUw$3J  
报名方式:     2`-Bs  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     [D1Up  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   6S{l' !s'  
-Qe'YBy:  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   y B$x>Q'C(  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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