【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:8018
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   4 3]6J]!)  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! k`oXo%  
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主办:Zemax China     g+ 2SB5 2D  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     M?[lpH3  
地点:上海 GdG%=+  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   *ivbk /8  
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课程安排: JGj_{|=:  
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成像设计 _& KaI }O  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 8^dGI9N  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; d57(#)`  
材料库、镜头库介绍; =;Wkg4\5  
如何定义新材料; ZmmuP/~2K  
如何使用镜头库;
MTF; g:[&]o} :9  
双高斯镜头设计及优化; AQQj]7Y  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; {/Q pEd>3+  
寻找最佳非球面; U-WrZ|-  
曲率套样板; cLR8U1k'  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; NA/+bgyuT>  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; Nz!AR$  
坐标断点面的使用技巧; cgz'6q'T  
序列模式棱镜建模; J,7_5V@jJ  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; \GMudN  
加工误差、装配误差; n0vPW^EQ  
灵敏度分析; }}_WZ},h  
反灵敏度分析; LR9'BUfFv  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; "H G:by  
局部优化; 5~rs55W  
全局优化; Jt)<RMQ^R  
锤形优化; =WO{h48]  
优化函数架构技巧; A=XM(2{aN  
透镜优化实例; !kV?h5@Bo  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; E"L'm0i[[  
投影系统设计; xFpJ#S&  
集光系统设计;
公差评价标准; e;!<3b  
公差操作数; >`oO(d}n[0  
补偿变量的使用; Pyyx/u+?@  
单透镜公差分析; %+pXzw`B  
库克镜头公差分析; VJ=!0v  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   (>;~((2  
实例设计及分析; |#-Oz#Eg'  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; *-P@|eg  
小结及答疑;
公差脚本的使用; pn =S%Qf]  
镜头出图、CAD出图; ait/|a  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 eGguq~s`  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 P AKh v.7  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; [xE\IqwM  
光源与探测器;
案例:背光模组; ~?L. n:wu  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; ;$%+TN  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; .5I1wRN49  
光偏振与膜层;
表面散射; Q7Dkh KT  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; 9]7^/g*!  
光谱模型; YEZ"BgUnbp  
真彩色数据探测;
物体表面属性; $hEX,  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; !MGQ+bD6  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   UhEnW8^bz1  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; lq%s/l  
非序列系统错误排查;
体散射; i\t4TdEx(  
荧光模型
7vHU49DV  
>G-D& A+  
特色:     SgY>$gP9S  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     YE^|G,]  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     Pd@?(WQ  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     |H |ewVUY  
9wI1/>  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     GJ((eAS)  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     YHAy+S  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     S&QZ"4jq  
h\20  
报名方式:     k@wxN!w;  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。      oR5`-  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   N:d" {k  
QzV:^!0J  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   )9PQ j  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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