【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:8079
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   )0F\[Jl}  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! W>jgsR79M  
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主办:Zemax China     @|A w T  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     H{&o_  
地点:上海 Ekq&.qjYG"  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   y9<]F6TT  
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课程安排: ,V$PV,G  
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成像设计 $inpiO|s  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 ">$.>sn{  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; L p(6K  
材料库、镜头库介绍; {u 7%Z}<0  
如何定义新材料; ,gdf7&r  
如何使用镜头库;
MTF; Os1o!w:m5  
双高斯镜头设计及优化; SLCV|@G  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; #HgXTC  
寻找最佳非球面; nMz~.^Q-  
曲率套样板; :#yjg1aej  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; .JkcCEe{G  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; |Wo_5|E  
坐标断点面的使用技巧; u0 & aw  
序列模式棱镜建模; EUVB>%P  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; ,F4 _ps?(  
加工误差、装配误差; -~wGJM VA  
灵敏度分析; xt{f+c@P  
反灵敏度分析; O&ur |&v  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; rXortK#\%  
局部优化; zAr@vBfC%  
全局优化; IV#kF}9$  
锤形优化; WJB/X"J  
优化函数架构技巧; b[mAkm?9+1  
透镜优化实例; uU7s4oJ|  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; g91X*$`]  
投影系统设计; =*ZQGM3w  
集光系统设计;
公差评价标准; &7gL&AY8  
公差操作数; > x$eKN  
补偿变量的使用; <Z8I#IPl  
单透镜公差分析; EPY64 {  
库克镜头公差分析; .6@qU}  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   0Q2P"1>KT/  
实例设计及分析; Wq4>!|  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; ,gvv297  
小结及答疑;
公差脚本的使用; ;M<jQntqS{  
镜头出图、CAD出图; .x 1&   
小结及答疑
照明设计与杂散光分析  qac4GZ  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 ~6:<OdQ  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; L_3undy,  
光源与探测器;
案例:背光模组; "`sr#  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; Z#n!=k TTm  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; H*l2,0&W  
光偏振与膜层;
表面散射; JWu^7}@~=  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; ,]OL[m  
光谱模型; nm!5L[y!0  
真彩色数据探测;
物体表面属性; sj)$o94=  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; WVP^C71  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   M]S&vE{D  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; -Qs4 s  
非序列系统错误排查;
体散射; :r<uH6x|  
荧光模型
M_o<6C  
rPK)=[MZ  
特色:     Ab]`*h\U  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     {=(GY@yU/  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     OygR5s +  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     !'4HUB>+  
i+ I%]  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     |<,!K;@  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     A4}6hG#  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     63ig!-9F  
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报名方式:     V!eq)L  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     :hre|$@{a  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   vOb=>  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   JEF2fro:Z  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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