【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7686
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   f#RI&I\  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 8:%=@p>$  
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主办:Zemax China     +X4O.6Mn  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     :&#HrD[KT  
地点:上海 /qW5M4.w  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   vV.TK_ y  
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课程安排: &j\<UPn  
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成像设计 }t tiL  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 Y"G U"n~  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; =v4;t'_^  
材料库、镜头库介绍; EK^B=)q6:W  
如何定义新材料; o0Z(BTO  
如何使用镜头库;
MTF; =)Cqjp  
双高斯镜头设计及优化; i,Yq oe`  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; x&6SjlDb$K  
寻找最佳非球面; VZ?"yUZ Id  
曲率套样板; H+:SL $+<o  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; r7z8ICX'q  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; |sN>/89=/  
坐标断点面的使用技巧; (nk)'ur.  
序列模式棱镜建模; 1]HEwTT/1_  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; 2\flTO2Ny  
加工误差、装配误差;  >:whNp  
灵敏度分析; Yx21~:9}  
反灵敏度分析; ""[(e0oA  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; Ih*}1D)7  
局部优化; gU7@}P  
全局优化; `C~RA, M  
锤形优化; -2}-;|  
优化函数架构技巧; Ju""i4  
透镜优化实例; h)[{{JSf  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; ~n:dHK`  
投影系统设计; j?&Rf,,%  
集光系统设计;
公差评价标准; `6KTQk'  
公差操作数; i5  x[1  
补偿变量的使用; {EKzPr/  
单透镜公差分析; d\Xi1&&  
库克镜头公差分析; 60KhwD1  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   N;cEf7+f  
实例设计及分析; ,wJ#0?  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; ~7$E\w6  
小结及答疑;
公差脚本的使用; pyEi@L1p  
镜头出图、CAD出图; 2ZMYA=[!  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 <eU28M?\  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 :DP%>H|  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; D8a[zXWnc  
光源与探测器;
案例:背光模组; >hcA:\UPk  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; o9dqHm  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; !xs. [&u8  
光偏振与膜层;
表面散射; HC0q_%j  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; ZCJOh8  
光谱模型; |oq27*ix~m  
真彩色数据探测;
物体表面属性; YNc] x>  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; pK=$)<I"6  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   I^iJ^Z]vx  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; yc.Vm[!  
非序列系统错误排查;
体散射; t+'|&b][Qi  
荧光模型
@5n!t1(  
7^|oO~x6  
特色:     [6@{^  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     d,}fp)  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     B4^+&B#  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     vn"2"hPF|  
& 2MI(9v  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     {HKd="%VG  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     tlw$/tMa  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     %liu[6_  
QJc3@  
报名方式:     w9I7pIIl  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     <rUH\z5cP  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   rrK&XP&  
5y7rY!]Bf  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   y2k '^zE  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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