【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7642
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   ]')  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 7;I;(iY  
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主办:Zemax China     o5E5s9n  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     pJ3-f k"i  
地点:上海 [t6Y,yo&h4  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   ^, &'  
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课程安排: h+c9FN  
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成像设计 )Z*nm<=  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 c Cx_tGR"  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; ae#Qeow`  
材料库、镜头库介绍; Gc=uKQ+\V  
如何定义新材料; o zMn8@R  
如何使用镜头库;
MTF; k|^YYi= xF  
双高斯镜头设计及优化; O@>ZYA%  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; [w*]\x'S  
寻找最佳非球面; a)8;P7  
曲率套样板; X%98k'h.y  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; AZE  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; I&%KOe0  
坐标断点面的使用技巧; kXgc'w6EhF  
序列模式棱镜建模; [#SiwhF|  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; m++=FsiX=  
加工误差、装配误差; >|pN4FS  
灵敏度分析; hRNnj  
反灵敏度分析; `)tIXMn  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; Zg4kO;r08  
局部优化; sE])EwZ  
全局优化; O'{g{  
锤形优化; d}2(G2z^  
优化函数架构技巧; p=[SDk`  
透镜优化实例; eUKl(  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; wu.>'v?y  
投影系统设计; 3ESrd"W=  
集光系统设计;
公差评价标准; vawS5b;  
公差操作数; gh-i| i,  
补偿变量的使用; n= q7*<l  
单透镜公差分析; `n"PHur  
库克镜头公差分析; ]G~Z'fs<(  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   z~th{4#E ;  
实例设计及分析; `|<? sjY  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; < w;49 0g  
小结及答疑;
公差脚本的使用; & h\!#X0  
镜头出图、CAD出图; 2Z-QVwa*U  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 61}eB/;7  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 i!*8@:VI  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; MnP+L'|  
光源与探测器;
案例:背光模组; 7$v_#ZE.H  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; O Cn  ra  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; 2%/+r  
光偏振与膜层;
表面散射; f#\Nz>tOhE  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; !tSh9L;<O  
光谱模型; +q%b'!&Q  
真彩色数据探测;
物体表面属性; 9TZ6c  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; @V Sr'?7-  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Ek60[a  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; {(l,Uhxl""  
非序列系统错误排查;
体散射; MvTp%d.  
荧光模型
v\+`n^=  
z<_a4 ffR  
特色:     w3&L 6|,  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     7u:QT2=&  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     lHFk~Qp[  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     o%OwKp s  
uQ%3?bx)T  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     \x|8  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     d(K}v\3!  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     y@r0"cvz9  
(o^?i2)g  
报名方式:     "y60YYn-#J  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     .vie#,la  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   /CUBs!  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   ByacSN  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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