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  • 光场成像原理

    作者:Hui_JiaMing 来源:CSDN 时间:2018-11-05 17:44 阅读:7114 [投稿]
    传统成像方式只能记录光线所经过的位置信息,而丢失了与场景深度、目标几何形态、场景遮挡关系等光线角度信息,即三维信息。

    为了记录A点的方向信息,即从根本上解决光线角度信息的采集问题,我们在图1中CCD所在平面处加一种特殊的光学元件——微透镜阵列,通过记录光辐射在传播过程中的位置和方向的信息,这样就构成了光场采样方式,如图2所示:物点A的三束光线折射后在A'点相遇,但由于没有接收像的介质所以没有发生干涉叠加,他们仨相见后匆匆离开,彼此不干涉彼此,向着自己原有的方向继续前进,最终到达A1,A2,A3的位置,并在此记录下了A点的这三个方向的信息。

    二、四维光场函数模型与光场成像

    我们常在很多论文中看到用全光函数模型分析光场,但鲜有将其与光场成像的关系讲清楚的,从而给我们造成误解。首先了解一下七维全光函数,如图3所示:我们用三维坐标(x, y, z)、任意传输方向(θ,φ),以及光的波长(λ)和时间(t)描述一条光线。由于我们只关注光线的位置和传播方向,所以将其简化成四维光场函数(x, y, θ,φ),如图4所示:其中xy平面代表着光线的位置信息,θφ平面代表光线的方向信息,这样我们很容易将其与光场成像时的相关光学元件对应,即xy平面与微透镜阵所在列平面相对应,θφ平面与CCD所在平面相对应。这里一定要注意:初学者很容易将xy面和θφ平面与主透镜平面和微透镜阵列平面相对应。


    图3


     

    图4

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