[讨论]在CODEV中，优化过程怎么对相对照度约束 [复制链接]

在MTF文本中可以以看到，但不知道怎么提取出来 }=v4(M`%  
FIELD (X,Y)=( 0.00, 0.61)MAX, (  0.00, 65.00)DEG       RiAg:  
      RELATIVE ILLUMINATION =  45.0 PER CENT               qdZ ^D  
     ILLUMINATION (UNIT BRIGHTNESS) = 0.022769             wbF`wi?  
      DISTORTION = -16.31 PER CENT ,gNZHKNq  
      RELATIVE ILLUMINATION =  45.0 PER CENT                850.0 NM       1      1180 40MKf/9  
      ILLUMINATION (UNIT BRIGHTNESS) = 0.022769             830.0 NM       1      1236 s"#N;  
      DISTORTION = -16.31 PER CENT

见过一个，抛砖引玉，@RI=（（M FL R2 SI）-(M FL R3 SI))*(L FL R4 SI)/2*(M F1 R2 SI)**2 ,nL~?h-Zh  
iCpm^XT  
来控制最后视场相对照度，和真实光线追迹稍有差异，可用于优化。 >;Oa|G  
希望大牛来发表见解

不懂，有没有大牛出来

i| cA)  

准确来说是@RI=((M F100 R2 SI)-(M F200 R3 SI))*(L F100 R4 SI)/2*(M F1 R2 SI)**2) 1c"s+k]9  
(:~_#BA  
其中F100是最大视场。 
/oe
0  
这个式子表示的是轴上、轴外视场在方向余弦空间中出瞳的面积之比，也就是相对照度。

看来必须用命令

优秀，不知道codev为什么不做一个指令来执行，应该很简单且很有用

新人报道，好好学习.

好复杂的样子。

hello追月:见过一个，抛砖引玉，@RI=（（M FL R2 SI）-(M FL R3 SI))*(L FL R4 SI)/2*(M F1 R2 SI)**2
来控制最后视场相对照度，和真实光线追迹稍有差异，可用于优化。 X]CaWxM  
希望大牛来发表见解 (2017-04-18 19:49)  *JOv  

*m]%eU(  
对头，可以用这个来控制其中某个视场的相对照度来提高相对照度、曲线平滑度