半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 Bh$hgf.C
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一. 半导体激光器的基本结构 WW82=2rJ9
•1.半导体双异质结构 /{Ksi+q
•2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) pt .0%3
•3. 侧模控制(基侧模) DP **pf%j
•4.横模控制 ;S5*n:d
•5. 动态单模半导体激光器 j3jf:7 /\
•6. 波长可调谐半导体激光器 :=WiT_M
•7.长波长VCSEL的进展 l&2A]5C
•8.微腔激光器和光子晶体 :c3}J<Z
•9.半导体激光器材料的选择 F* "
%SuEfCM
二.半导体光波导 S'm&Ll2i@
•1. 平板波导的模式,TE和TM模 G&$+8r
•2. 光限制因子和模式增益 Q/&H3N
•3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 Y^$^B,
•4. 半导体激光器镜面反射系数 ZLw7-H6Fh
•5. DFB激光器的藕合模理论 1CK}XLdr
•6. DFB半导体激光器的一维模拟 #
le<R
•7. 等效折射率近似 .|`JS?L[
•8. 数值模拟 D{g6M>,\
,{P*ZK3u
三.半导体中的光跃迁和增益 4UD<g+|
•1. 费米分布函数及跃迁速率 x
LR
2H>B}
•2. 电子波函数及跃迁矩阵元 \o3)\
e]o
•3.简约态密度及增益谱 3`[f<XaL
•4.模式的自发辐射速率 ZlD\)6 dZ
•5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 ={,\6a|]:
•6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 _ #]uk&5a
•7.增益谱峰值的近似表达式 Q`k=VSUk
YCZl1ry:V=
四. 速率方程和动态效应 6p`AdDV
•1.单模速率方程及基本物理量 D#|+PG7
•2.稳态输出 Lt>"R! "x
•3. 共振频率和3dB带宽 ):HjpJvF
•4. 载流子输运效应对带宽影响 KPO?eeT.WZ
•5. 开启延迟时间 .U|irDO
•6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 Wm>[5h%>
•7. 自发辐射引起的噪声 F|p&v7T
•8. 相对强度噪声 ]G.ttfC
•9. 模式线宽 }pOL[$L
•10. 多模速率方程 ?u.&BP
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五.半导体激光器的基本工艺和特性 l",JN.w
1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 fa7Z=:aG
3.激光器寿命 [@d$XC]Qz
4.激光器阈值电流的温度特性 a9S0glbwf
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