半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 qnWM %k
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一. 半导体激光器的基本结构 GRkN0|ovfj
•1.半导体双异质结构 /BQqg08@L
•2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) Is<XMR|{
•3. 侧模控制(基侧模) UA2KY}pz5
•4.横模控制 -\;0gnf{J
•5. 动态单模半导体激光器 ]$9y7Bhj.
•6. 波长可调谐半导体激光器 n=F
r v*"Z
•7.长波长VCSEL的进展 @|wU
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•8.微腔激光器和光子晶体 kN{$-v=K
•9.半导体激光器材料的选择 |mHf7gCX
8Q)|8xpYS
二.半导体光波导 `aG_ m/7|
•1. 平板波导的模式,TE和TM模 fsw[R0B
•2. 光限制因子和模式增益 p'%S{v@5((
•3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 i\b^}m8c.N
•4. 半导体激光器镜面反射系数 WG\
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•5. DFB激光器的藕合模理论 ">3t+A
•6. DFB半导体激光器的一维模拟 }79jyS-e
•7. 等效折射率近似 e`LkCy[_
•8. 数值模拟 o 7tUv"Rs
W SxoGly
三.半导体中的光跃迁和增益 L*,h=#x(
•1. 费米分布函数及跃迁速率 =7H\llL4BC
•2. 电子波函数及跃迁矩阵元 :3D6OBkB
•3.简约态密度及增益谱 V]+y*b.60
•4.模式的自发辐射速率 8IxIW0
•5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 z~~pH9=c2
•6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 ~|O; Sdo=
•7.增益谱峰值的近似表达式 8OV=;aM?{
jIrfJ*z
四. 速率方程和动态效应 bfZt <-
•1.单模速率方程及基本物理量 A[7H-1-
•2.稳态输出 !m9hL>5vR
•3. 共振频率和3dB带宽 Bt,'g*Cs
•4. 载流子输运效应对带宽影响 &S66M2
•5. 开启延迟时间 AzZhIhWl">
•6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 5Ww,vSCV)
•7. 自发辐射引起的噪声 4K7ved)
•8. 相对强度噪声 )[ZXPD
•9. 模式线宽 1y1:<t
•10. 多模速率方程 x7<l*WQ
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五.半导体激光器的基本工艺和特性 lZ[J1:%
1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 7.ein:M|CB
3.激光器寿命 x4wTQ$*1
4.激光器阈值电流的温度特性 r*$f^T!|
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