半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 <l]P
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一. 半导体激光器的基本结构 r=P)iE:
•1.半导体双异质结构 \$YKw0K
•2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) ;EbGW&T
•3. 侧模控制(基侧模) Aifc0P-H
•4.横模控制 M*FUtu
•5. 动态单模半导体激光器 P'f
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•6. 波长可调谐半导体激光器 }S51yDV G_
•7.长波长VCSEL的进展 n 1MZHa,
•8.微腔激光器和光子晶体 O6Bs!0,
•9.半导体激光器材料的选择 ~Q"3#4l
E8g Xa-hv
二.半导体光波导 nmZz`P9g
•1. 平板波导的模式,TE和TM模 yQE|FbiA
•2. 光限制因子和模式增益 j78WPG
•3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 8uq^Q4SU
•4. 半导体激光器镜面反射系数 "*W:
•5. DFB激光器的藕合模理论 |D+"+w/
•6. DFB半导体激光器的一维模拟 I|69|^
•7. 等效折射率近似 u~n*P``{
•8. 数值模拟 W1'F)5(?7
a5=8zO#%g
三.半导体中的光跃迁和增益 <WFA3
•1. 费米分布函数及跃迁速率 0+MNu8t
•2. 电子波函数及跃迁矩阵元 bA}9He1
•3.简约态密度及增益谱 \J[m4tw^
•4.模式的自发辐射速率 u(l[~r>8W;
•5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 d%_=r." Y
•6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 #\s*>Z
•7.增益谱峰值的近似表达式 C'&)""3d
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四. 速率方程和动态效应 MuXp*s3[
•1.单模速率方程及基本物理量 i
,Cvnp6Lv
•2.稳态输出 i!g}PbC[
•3. 共振频率和3dB带宽 CXt9 5O?
•4. 载流子输运效应对带宽影响 Qt` hUyL
•5. 开启延迟时间 P^V,"B8t
•6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 nZZNx
•7. 自发辐射引起的噪声 xIu#
•8. 相对强度噪声 :T^!<W4
•9. 模式线宽 !v/5G_pr
•10. 多模速率方程 8G$ %DZ $
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五.半导体激光器的基本工艺和特性 8:=&=9%
1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 gGF]Dq
3.激光器寿命 iUSP+iC,
4.激光器阈值电流的温度特性 biAI*t
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