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光控镀膜时,光控片及监控波长的使用方法
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光控镀膜时,光控片及监控波长的使用方法
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qxb2008
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发表于: 2014-04-03
各位光友,小弟请教一个问题:光控
镀膜
时,一个光控片可以监控几层,只能监控同种
折射率
的层,还是可以高低折射率交叉监控?还有监控
波长
的选择需要遵循什么原则(是不是目的比率在20~45左右最佳)?
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e_\4(4x
0(@8
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leehow534
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1楼
发表于: 2014-04-03
我们这一般是一块下班监控二层,第1层高折,光量上扬,第二层低折,跟你图示一样,刚好。
Z-Bw?_e_K
至于比例最佳值,同求高手解答!
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qxb2008
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2楼
发表于: 2014-04-04
我看了新科隆电脑里面实际存储的程式,一般都是一个光控片监控三层。第一个监控片低、高、低折射率,因为趋势是下降,所以起始光亮值设置比较高。大概在为90左右;第二个监控片高、低、高折射率,因为趋势是上扬,所以起始光亮值设置为20。每层的起始光亮值的选定保证目的比率基本都在20~30左右为最佳。以上都是我个人按照实际情况做出的总结,如有不足和错误,请高手指正。
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qxb2008
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3楼
发表于: 2014-04-04
还有一个问题,TFC中的光控监控曲线数据是膜厚和反射率曲线。请问如何直接设置成光亮值和膜厚曲线啊,否则还要通过其它软件重新模拟一遍比较麻烦。
P `T&z