[讨论]光控镀膜时，光控片及监控波长的使用方法 [复制链接]

我们一般是两层（我是新柯隆的） o\><e1P   r&0IhE  
先镀高折射率，再镀低折射率。 wKpb%3   @SX-=Nr  
另外，监控波长的选择也很有讲究， - q(a~Ge   B3NDx+%m  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。 ShlTMTgS   41oXOB  
T.')XKP)1N   ;GF+0~5>  
如果第一层镀低折射率，会影响准确度。

各位大神 DYej<T'?3  
宽波段时（近红外）监控波长如何设定

长江:我们一般是两层,光驰机器，先高折射 率，后低折射率 (2016-09-10 20:24)  +rWcfXOHM  

g|=1U  
同是光驰机，也是监控两层

我们一般控制一个光控点控制两层，高折射率一层，低折射率一层 |YcYWok  

回头比例一般控制在5~95%

ouyuu:我们一般是两层（我是新柯隆的） ~`<_xIvrq  
先镀高折射率，再镀低折射率。 :tp{(MF  
另外，监控波长的选择也很有讲究， ni-4~k  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。
....... (2014-04-04 15:06)  VL2ACv(  

=|qYaXjT$  
为什么第一层镀折射率会影响精准度?

第一层低折射率，常常为二氧化硅，因为其折射率跟监控片接近，光量变化不大，光控不容易判断准确。 g>H\"cUv  
第一层用二氧化硅还是很普遍的，也有优点。 +?uZ~VSl  

dcfcwdx:为什么第一层镀折射率会影响精准度?[表情] (2018-09-02 12:00)  NZt 8L?  

@
\JoICz  
膜林的专家已经讲的很清楚了。 K5:>  
因为光控片的折射率和SIO2接近，直接在光控片上镀SIO2光量变化很小， L=<{tzTc  
放大后的光控波形上能看到有很多毛刺，这会影响光控电脑判断PEAK和截止点的精确度。 zn/b\X/  
先镀高折再镀低折则能避免这种情况。 @M8vPH  
dS~#Lzm  
v>p}f"$`  
[:bYd}J  

我司是用光馳 >e9xM Gv  
Evb %<`gd  
一個監控點=控制兩層(高、低折射率) h-=lZ~W~  
I9E]zoj8  
高折射 start set 20 ；低折射 start set 80 -+Ab[  
qo5WZ be  
選擇監控波長，我會選過一轉折點後的30%左右。 ahx*Ti/e  
0ZjinWkR[  
另外注意的是 還要配合一開始校正光源的頻譜圖，避開一些不好的監控點

看评论有很大帮助，不然一头雾水