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    [求助]求助各位镀膜工程师前辈 [复制链接]

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    离线cxc0816
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2013-10-13
    镀增透膜后的基底就像有一层雾一样是什么原因，望各位前辈给小弟解答一下（多层膜，膜系al2o3 zro2 mgf2） p6M9uu  
    还有在镀多层膜过程中，是否要对基底经行全程烘烤以便保持基底温度，镀膜时间大约持续1小时
     
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    离线中国镀膜人
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    只看该作者 1楼 发表于: 2013-10-13
    镀灰了！找机器毛病
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    离线cxc0816
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    只看该作者 2楼 发表于: 2013-10-15
    回 中国镀膜人 的帖子
    中国镀膜人:镀灰了！找机器毛病 (2013-10-13 21:50)  &raqrY|V  
    T(|'.&a  
    能讲解的详细点儿吗，应该从机器的什么方向改进，从温度，真空度，还是电子枪蒸发速度，这个膜系制备过程中真空度平均在9*10-3pa左右，蒸发速度是al2o3 0.25nm/s ，zro2是0.15nm/s ，mgf2是1nm/s，还有在镀膜全过程中是不是要求烘烤装置全程打开对基底进行加热。
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    离线yzhuang
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    只看该作者 3楼 发表于: 2013-10-16
    烘烤不能停，一停温度就下降很快的，还有如果没有离子源镀膜温度要接近３００度，因为ＭＧＦ２材料容易脱膜，还有你的真空度太低了，应该不低于5*10-3pa，另外，如果是基底是ＺＦ料，这个材料组合可能不合适
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    离线cxc0816
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    只看该作者 4楼 发表于: 2013-10-20
    回 yzhuang 的帖子
    yzhuang:烘烤不能停，一停温度就下降很快的，还有如果没有离子源镀膜温度要接近３００度，因为ＭＧＦ２材料容易脱膜，还有你的真空度太低了，应该不低于5*10-3pa，另外，如果是基底是ＺＦ料，这个材料组合可能不合适 (2013-10-16 09:11)  7FH(C`uKi  
    }s,NM%oI  
    对于这个膜系我 用经典四层膜系（zro2（0.058） mgf2（0.072）  zro2（0.5）  mgf2（0.25））做了一些代替 并且在mgf2外层又加镀了10nm左右的sio2作为保护层，但是真空度就是控制的不好，请问您，在镀膜过程中有没有一些常用的方法能控制好真空度的数值。ps：我们现在镀膜所采用的蒸发速度是al2o3 0.25nm/s ，zro2是0.15nm/s ，mgf2是1nm/s。
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    离线hongtaoliu
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    只看该作者 5楼 发表于: 2013-10-20
    你ZRO2镀的不慢吗？你的工艺存在问题。 kf@JEcKV  
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    离线中国镀膜人
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    只看该作者 6楼 发表于: 2013-10-21
    1,、测温度。无离子源不能低于300，镀完膜再关烘烤。 N7?]eD  
    2、真空度太低，必须5.0E-3以下，最好3.0E-3 Y` }X5(A@  
    3、蒸发速率。ZrO2太慢，MgF2有点快，3-5埃/s 1 Uup.(  
    4、氧化物需要充氧
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    离线27676995
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    只看该作者 7楼 发表于: 2013-10-30
    我觉得是基底的原因吧 打底材料部合适 出现白晕膜吧
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    离线flyinlove79
    论坛版主
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    只看该作者 8楼 发表于: 2013-11-16
    6楼说的不错，再一个问题要看看基底有没有清洁干净。
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    离线luffy17520
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    只看该作者 9楼 发表于: 2013-11-21
    zro2 速率调到3 F! =l r  
    加热不能停 _mSefPl  
    是否使用离子源，使用的话真空度保持在1.0E-2以下把 #Hrzk!&9   
    镀mgf2 需要加热300度  从一开始到镀膜结束一直需要这个温度
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