[求助]求助各位镀膜工程师前辈 [复制链接]

镀增透膜后的基底就像有一层雾一样是什么原因，望各位前辈给小弟解答一下（多层膜，膜系al2o3 zro2 mgf2） "4'kb  
还有在镀多层膜过程中，是否要对基底经行全程烘烤以便保持基底温度，镀膜时间大约持续1小时

建议用LaTiO3和MgF2

Al2O3的速率：3A/s Ft3I>=f{  
ZrO2的速率：3A/s w2k<)3 g~  
MgF2的速率：6-8A/s Ah*wQow  
烘烤温度：300℃左右，从关门到镀完MgF2，不要停 t @;WgIp(&  
可以不用离子源， "<qEXX  
可以不充氧气

老兄你这个问题解决了吗？ #^Ys{  
对于你这个问题你主要提的外观问题，没有膜层性能不良问题。我观点分析如下： F%Kp9I*  
1.如果是镀mgf2时钟罩的温度不够容易产生脱膜。 N ,+(>?yE  
2.如果真空度不够膜层容易出现膜强度弱，即擦拭就会造成划痕。 vmvFBzLR  
3.如果是镀膜硬件和镀膜工艺问题的话，首当其冲的是性能不量. C>4UbU  
4.直接造成产品外观不量的问题主要还是玻璃片镀膜前的洁净度不够，即有脏污残留。此残留一般是肉眼不容易检查的残留。且不影响镀膜后产品的指标和性能。 wEE2a56L-  
5.如果是产品洁净度问题，外观上一般产生局部性发雾，或同一炉产品有一部分轻微，一部分严重，也可以出现良品。如果是设备和 工艺问题就会出现外观不良状态的均衡性。即不良的样子都一样，且全部都是，不分轻重。 #XcU{5Qm5  
希望能够对你有帮助，镀膜和清洗工艺交流可以联系我：13620221452  QQ294955027

zro2 速率调到3 zFywC-my@  
加热不能停 .9OFryo  
是否使用离子源，使用的话真空度保持在1.0E-2以下把 #sZIDn J#  
镀mgf2 需要加热300度  从一开始到镀膜结束一直需要这个温度

6楼说的不错，再一个问题要看看基底有没有清洁干净。

我觉得是基底的原因吧 打底材料部合适 出现白晕膜吧

1,、测温度。无离子源不能低于300，镀完膜再关烘烤。 5kn+ >{jh`  
2、真空度太低，必须5.0E-3以下，最好3.0E-3 @1bH}QS  
3、蒸发速率。ZrO2太慢，MgF2有点快，3-5埃/s \I:.<2i  
4、氧化物需要充氧

你ZRO2镀的不慢吗？你的工艺存在问题。 7W|Zq6pi  

yzhuang:烘烤不能停，一停温度就下降很快的，还有如果没有离子源镀膜温度要接近３００度，因为ＭＧＦ２材料容易脱膜，还有你的真空度太低了，应该不低于5*10-3pa，另外，如果是基底是ＺＦ料，这个材料组合可能不合适 (2013-10-16 09:11)  NXU`wnVJ  

`hrQ
w)5?r  
对于这个膜系我 用经典四层膜系（zro2（0.058） mgf2（0.072）  zro2（0.5）  mgf2（0.25））做了一些代替 并且在mgf2外层又加镀了10nm左右的sio2作为保护层，但是真空度就是控制的不好，请问您，在镀膜过程中有没有一些常用的方法能控制好真空度的数值。ps：我们现在镀膜所采用的蒸发速度是al2o3 0.25nm/s ，zro2是0.15nm/s ，mgf2是1nm/s。