微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 pKnIQa[c  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 )6g&v'dq  
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目录 `P#8(GU  
译者序 y6bjJ}  
前言 YyG~#6aCh  
第1章面浮雕衍射光学元件 48;~bVr}  
1.1制造方法 4sI3(z)9H  
1.2周期和波长比 ~yd%~|  
1.3光栅形状 coSTZ&0  
1.4深度优化 D)h["z|F  
1.5错位失对准 7f[8ED[4  
1.6边缘圆形化 aam1tm#Q  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 [O [FCn  
1.8表面纹理结构 rpx0|{m  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 G;Us-IRZ  
1.10太阳电池的表面纹理结构 q;IhLBl'  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 JtThkh'-"  
1.12成形金属基准层的制造工艺 L,GShl0S  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 y{:]sHyG  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 2YaTT& J  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 Pb*q;9  
致谢 2Qw)-EB  
参考文献 Z"
4VHrA  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 m)(SG  
2.1概述和回顾 ]<Z&=0i#9  
2.2基本的刻蚀处理技术 8xc8L1;  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 anpJAB:1  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 neK*jdaP  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 x_]",2 W'  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 .QNjeMu.  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 SIj
6.RK  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 FfZ{%E  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 wVlSjk  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 m9v"v:Pw  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 $,p.=j;P  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 f2BS[$oV4  
致谢 $:xF)E  
参考文献 []^PJ  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 z<FV1niE  
3.1概述 iH($rSE  
3.2相位掩模技术 c1gz#,  
3.3光学元件的设计和制造 h4J{jh.  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 p)K9ZI  
3.3.2相位掩模的设计 {yGZc3e1j  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ;bUJ+6f:  
3.4轴对称元件的设计和制造 tn(f rccy  
3.5结论 BDarJY  
参考文献 ?
v0A/68s#  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 wjN`EF5$}&  
4.1概述 L#83f]vG  
4.2电子束光刻术 Wm];pqN  
4.2.1电子束光刻术发展史 K7)j  
4.2.2电子束光刻系统 fRZUY<t  
4.2.3电子束光刻技术 ?{y
:s!!  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 & y#y>([~  
4.3.1回顾 ~gSF@tz@  
4.3.2硅 dj8F6\  
4.3.3砷化镓 O('i*o4!}  
4.3.4熔凝石英 IMl9\U  
4.4光学器件加工实例 'vqj5YTj  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 zav*  
4.4.2熔凝石英微偏振器 f\U?:83  
4.4.3砷化镓双折射波片 
D5o+0R  
4.5结论 ;m2"cL>{l  
致谢 ~(Ih~/5\^  
参考文献 8=ukS_?Vy  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 +?4*,8Tmmz  
5.1概述 F^/~@^{P  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 CuV=C Ay>  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 R#[QoyJ  
5.3.1纳米压印组件和工艺 (ffOu#RQ3  
5.3.2纳米压印设备 uFA|rX  
5.4商业化器件的应用 N3S,33 8s  
5.4.1通信用近红外偏振器 ,}xpYq_/  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 
A>&>6O4  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） m!FM+kge  
5.4.4高亮度发光二极管 0+VncL)u  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ~T;ajvJ  
5.4.6多层集成光学元件 #*ZnA,  
5.4.7分子电子学存储器 b.w(x*a  
5.4.8光学和磁数据存储 pw(U< )  
5.5结论
Vsm%h^]d  
致谢 5 b#" G"  
参考文献 sqMNon`5  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Gdc~Lh  
6.1概述 S
evfxR  
6.2光子晶体学基础知识 7DC0W|Fe  
6.2.1晶体学术语 K~fDv
i  
6.2.2晶格类型 p;c_<>ws-Y  
6.2.3计算方法 + !E{L  
6.3原型平面光子晶体 Uy_}@50"l  
6.3.1电子束光刻工艺 e&FX7dsyy  
6.3.2普通硅刻蚀技术 g-{<v4NGI  
6.3.3时间复用刻蚀 5~kW-x  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 /ut~jf`  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 %BKR}  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 >? A `C!i  
6.4.2负折射 f)ucC$1=  
6.5未来应用前景 l9ch  
参考文献 O>o}<t7  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 x1&b@u  
7.1对称性、拓扑性和PBG {C,1w  
7.2金属光子晶体 #:Sy`G6!?  
7.3金属结构的可加工性 C&d"#I  
7.4三维光子晶体的制造 Ilt L@]e  
7.5胶体模板法 6S+K*/w  
7.6微光刻工艺 ;?HZ,"^I  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 3ZJagJ\O  
7.8膜层应力 2gC&R1H  
7.9对准 ]B-$p p  
7.10表面粗糙度 8n."
5,P  
7.11侧壁轮廓 Y/eN)  
7.12释放刻蚀 rz%[o,s  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 J:TI>*tn  
7.14结论 w7*b}D@65\  
致谢 Z%HEn$t  
参考文献