微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 z] |Y   
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 Xg}~\|n  
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目录 ]O~/k~f  
译者序 ^{g+HFTA@  
前言 i^/H>E%u  
第1章面浮雕衍射光学元件 24Htr/lPCT  
1.1制造方法 =[Tf9uQY  
1.2周期和波长比 Ll^9,G"Tt  
1.3光栅形状 11JO[  
1.4深度优化 ET3+07  
1.5错位失对准 `UkPXCC\1  
1.6边缘圆形化 r\|"j8  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 `=8G?3  
1.8表面纹理结构 fXkemB^)_  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 %'dsb7n  
1.10太阳电池的表面纹理结构 =}W)%Hldr.  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 K]i2$M  
1.12成形金属基准层的制造工艺 E+eC #!&w  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 &MP8.(u `  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 DzY`O@D[  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 oF0*X$_X  
致谢 p*=9Ea:  
参考文献 8V:yOq10  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 3. g-V  
2.1概述和回顾 ?^: xNRE$j  
2.2基本的刻蚀处理技术 glWa?#1  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺
.eDI ZX  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ]&L[]  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 y#e<]5I  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 R<1[hH9"o  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Lmyw[s\U  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ;#?+i`9'q  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 v>mr  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 E
a3 4x  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 &v_b7h  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 %:.00F([r  
致谢 TM$`J  
参考文献 `LVX|l62  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 D,'@b+B[  
3.1概述 <}Rr C#uiA  
3.2相位掩模技术 cX@72  
3.3光学元件的设计和制造 ZD]5"oHY  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 1)=sbFtS  
3.3.2相位掩模的设计 imf_@_  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ;+]GyDgVq  
3.4轴对称元件的设计和制造 ^'aMp}3iu  
3.5结论 =n
N&8vRH  
参考文献 81U(*6  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 }!RFX)T  
4.1概述 0@8EIQxK"  
4.2电子束光刻术 v#`P?B\  
4.2.1电子束光刻术发展史 g\ p;  
4.2.2电子束光刻系统 To19=,:  
4.2.3电子束光刻技术 |Xl,~-.  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 DvvjIYB~  
4.3.1回顾 q9c:,k  
4.3.2硅 KA$l.6&d  
4.3.3砷化镓 ]i@VIvYq  
4.3.4熔凝石英 {EGm6WSQ^  
4.4光学器件加工实例 4]]1JL(Ka  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 "5R8Zl+  
4.4.2熔凝石英微偏振器 `ynD-_fTN  
4.4.3砷化镓双折射波片 #x|h@(y|  
4.5结论 I- 
X|-  
致谢 !B{N:?r  
参考文献 Nbnu
QPb'  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 )fz<n$3|$#  
5.1概述 p<3^= 8Y$  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 X6]eQ PN2  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 :K_JY   
5.3.1纳米压印组件和工艺 <ib#PLRM  
5.3.2纳米压印设备 f^f{tOX  
5.4商业化器件的应用 /Hl]$sJY  
5.4.1通信用近红外偏振器 @l:\Ka~TS  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 <w d+cPZQr  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） k;pTOj  
5.4.4高亮度发光二极管 0@ 9em~  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ?gMxGH:B.&  
5.4.6多层集成光学元件 6uf+,F  
5.4.7分子电子学存储器 !fcr3x|Y~M  
5.4.8光学和磁数据存储 +<P%v k  
5.5结论 3N,
!y  
致谢 T7=~l)I  
参考文献 z`D;8x2b  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ',yY  
6.1概述 48BPo,nWR  
6.2光子晶体学基础知识 QviH+9  
6.2.1晶体学术语 5M2G ;o  
6.2.2晶格类型 gs_nUgcA  
6.2.3计算方法 =MqefV;-  
6.3原型平面光子晶体 X,<n|zp  
6.3.1电子束光刻工艺 ^\uj&K6l  
6.3.2普通硅刻蚀技术 8*^Q#;^~99  
6.3.3时间复用刻蚀 t*zBN!Wu_  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 S&@uY#_(*T  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 MKYXYR  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 F$FCfP7  
6.4.2负折射 (:>:tcE  
6.5未来应用前景 yU~OfwQ  
参考文献 47xJ(yO  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 KF|<A@V  
7.1对称性、拓扑性和PBG 2rq)U+
  
7.2金属光子晶体 MeqW/!72$L  
7.3金属结构的可加工性 K
d _tjWS  
7.4三维光子晶体的制造 Brh<6Btl  
7.5胶体模板法 f#a ~av9rC  
7.6微光刻工艺 dD3I.?DY  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 X
TD_q  
7.8膜层应力 3n/U4fn_  
7.9对准 XU Hu=2F  
7.10表面粗糙度 D84`#Xbi  
7.11侧壁轮廓 88 *K  
7.12释放刻蚀 N&!qur \  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 YB h:  
7.14结论 }MDuQP]  
致谢 n)w@\Uyc  
参考文献