微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 lZ'Z
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《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 (fqU73  
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目录 7X{@$>+S  
译者序 =Sjf-o1V  
前言 y F;KyY{  
第1章面浮雕衍射光学元件 zqCr'$  
1.1制造方法 v;.w*x8Jw  
1.2周期和波长比 qZ<|A%WQ  
1.3光栅形状 eW\C@>Ke  
1.4深度优化 w,zm$s^  
1.5错位失对准 ecdM+kP  
1.6边缘圆形化 F9J9zs*,  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 M2Zk1Z  
1.8表面纹理结构 j
Br3Ay@<  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 k &6$S9  
1.10太阳电池的表面纹理结构 (nnIRN<}$  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 dTVh{~/  
1.12成形金属基准层的制造工艺 gg?O0W{  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 u`gY/]y!  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 z{(c-7*  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 WqRaD=R->;  
致谢 3J}/<
&wv  
参考文献 OrRU$5Lo  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 @$7l  
2.1概述和回顾 92D :!C  
2.2基本的刻蚀处理技术 c:u2a/Q?  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 T]lVwj  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ]L;X Aj?  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 #XeEpdE  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 -~TgA*_5]  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 jc7NYoT:  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 oV;I8;#\J  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 F3=iyiz6  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 /g\m7m)u  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 0czEA  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 w=x [=O  
致谢 {SwvUWOf"  
参考文献 JL=s=9N;3  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 +GlG.6  
3.1概述 8;fi1 "F;}  
3.2相位掩模技术 iX6'3\Q3A  
3.3光学元件的设计和制造 E
>&oe&`o'  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 qM9> x:V  
3.3.2相位掩模的设计 n_S)9C'=  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 3h4'DQ.g  
3.4轴对称元件的设计和制造 %&&;06GU}  
3.5结论 psM&r  
参考文献 7NP Ny  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 8
?[#\KgH1  
4.1概述 =`f"8,5  
4.2电子束光刻术 Nrfj[I  
4.2.1电子束光刻术发展史 FQO>%=&4  
4.2.2电子束光刻系统 ^cI 0d,3=  
4.2.3电子束光刻技术 9D H
}6fO  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Ji;R{tZ.R  
4.3.1回顾 ^T_2s  
4.3.2硅 (I ~r~5^  
4.3.3砷化镓 "a]Ff&T-  
4.3.4熔凝石英 mAuN* (  
4.4光学器件加工实例 6#(rWW"_  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 *v0}S5^/"  
4.4.2熔凝石英微偏振器 o(3`-ucD`  
4.4.3砷化镓双折射波片 *K=Yrisz  
4.5结论 [8rl{~9E  
致谢 F:cenIaBF  
参考文献 > m##JzWLr  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 RrRE$g  
5.1概述 iNEE2BPp  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 8BggK6X  
5.3纳米压印光刻术的相关概念
[|dQZ  
5.3.1纳米压印组件和工艺 Sj9NhtF]f  
5.3.2纳米压印设备 {"@E_{\  
5.4商业化器件的应用 "Rq)%o$Z  
5.4.1通信用近红外偏振器 _?~)B\@~0  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 O`2hTY\  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） z|WDqB%/I  
5.4.4高亮度发光二极管 N-<m/RS  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 zH1:kko  
5.4.6多层集成光学元件 UkgiSv+  
5.4.7分子电子学存储器 &J}w_BFww  
5.4.8光学和磁数据存储 50Y^##]&  
5.5结论 > @n?W"  
致谢 )+v'@]r  
参考文献 Q??nw^8Hi  
第6章平面光子晶体的设计和制造 <:Z-zQp)?  
6.1概述 K0z@gWGE  
6.2光子晶体学基础知识 i~;Yrc%AEX  
6.2.1晶体学术语 jLgx(bM
n  
6.2.2晶格类型 _%6Vcy  
6.2.3计算方法 :Tn1]a)f6  
6.3原型平面光子晶体 OE_>Kw7q  
6.3.1电子束光刻工艺 >TQnCG=  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ,]8$QFf  
6.3.3时间复用刻蚀
8jm\/?k|  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 .80L>0  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 D_-<V,3t  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 [" nDw
<U  
6.4.2负折射 O"~BnA`dJ  
6.5未来应用前景 :}}~ $$&  
参考文献 ZX03FJL7u  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 *u?N{LkqS  
7.1对称性、拓扑性和PBG )1 =|\  
7.2金属光子晶体 >2@ a\  
7.3金属结构的可加工性 pi?[jU[Tn  
7.4三维光子晶体的制造 {Wh7>*p{3  
7.5胶体模板法 kKil]L  
7.6微光刻工艺 G2e0\}q  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 bsgrg  
7.8膜层应力 P},d`4Ty@  
7.9对准 fY{&W@#g  
7.10表面粗糙度 [sweN]b6F  
7.11侧壁轮廓 4.}J'3 .  
7.12释放刻蚀 v|K<3@J  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 s^Wh!:>r/  
7.14结论 >Pw ZHY  
致谢 Gp5=
cV'k  
参考文献