微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 ZnFi<@UB)  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 $,I q;*7N  
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目录 y"]n:M:(  
译者序 Ehzo05/!  
前言 FZreP.2)!  
第1章面浮雕衍射光学元件 bo.(zAz  
1.1制造方法 =4GSg1Biy  
1.2周期和波长比 9a'-Y  
1.3光栅形状 'mI'dG  
1.4深度优化 [m^+,%m5]  
1.5错位失对准 j4=(H:c~E  
1.6边缘圆形化 Gm*X'[\DD  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 Y
*_)h\f  
1.8表面纹理结构 2r$#m*  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Kn+S,1r  
1.10太阳电池的表面纹理结构 UR:aD_h  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 0G!]=  
1.12成形金属基准层的制造工艺 I ZQHu h  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ceNix!P  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 &A#~)i5gF  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 CJ}5T]WZ  
致谢 w[P4&?2:  
参考文献 5SCKP<rb  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 P`r55@af4  
2.1概述和回顾 4k./(f2+  
2.2基本的刻蚀处理技术 <dyewy*.L  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 tabT0  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 8Sz})UZ  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 54zlnM$  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 !8`3GX:B_  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 (8_\^jJ  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 " RxP^l  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 TLehdZ>^  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 UGK*Gy  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 {Ay"bjZh  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 "RIZV  
致谢 Fl(T\-Eu  
参考文献 E7-@&=]v  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 .s$
z/Jv  
3.1概述 r'gOVi4t1*  
3.2相位掩模技术 F;^F+H  
3.3光学元件的设计和制造 `~eUee3b.~  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 |7x\m t  
3.3.2相位掩模的设计 K98i[,rP  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 FLEo*9u>b  
3.4轴对称元件的设计和制造 I-OJVZ( V  
3.5结论 e}1uz3Rh  
参考文献 HaIM#R32T  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 k{t`|BnPKB  
4.1概述 O$4yAaD X  
4.2电子束光刻术 ?7{H|sI
 
4.2.1电子束光刻术发展史 4j)tfhwd8  
4.2.2电子束光刻系统 Y))NK'B5  
4.2.3电子束光刻技术 /*0K92NB  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 qP<Lr)nUH  
4.3.1回顾 Yw0[[N<SW  
4.3.2硅 @IXsy  
4.3.3砷化镓 DK}"b}Fvq  
4.3.4熔凝石英 43=,yz2Ef  
4.4光学器件加工实例 U(x]O/m  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 4>J   
4.4.2熔凝石英微偏振器 ;| 1$Q!4  
4.4.3砷化镓双折射波片 * RtgC/  
4.5结论 ?,/U^rf^4  
致谢 ElUEteZ  
参考文献 ,i@X'<;y  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 n?V+dC=F}  
5.1概述 H= X|h)  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 S{3nM<  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 OrK&RC  
5.3.1纳米压印组件和工艺 !F?XLekTi  
5.3.2纳米压印设备 4WK3.6GN  
5.4商业化器件的应用 V*~Zs'L'E  
5.4.1通信用近红外偏振器 }u1O#L}F5  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 &4_qF^9J  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） \QB;Ja
_  
5.4.4高亮度发光二极管 Dwzg/
F(  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 33}oO,}t,  
5.4.6多层集成光学元件 C`q@X(_  
5.4.7分子电子学存储器 A~mum+[5  
5.4.8光学和磁数据存储 G+F:
99A  
5.5结论 P
~ &$
l2  
致谢 Ps<d('=  
参考文献 k!{p7*0  
第6章平面光子晶体的设计和制造 k?7 X3/O  
6.1概述 +zs4a96[  
6.2光子晶体学基础知识 ~ar=PmYV7  
6.2.1晶体学术语 b6*!ACY  
6.2.2晶格类型 M>/Zbnq  
6.2.3计算方法 3'X.}>o  
6.3原型平面光子晶体 W|o'&
 
6.3.1电子束光刻工艺 \J6j38D5  
6.3.2普通硅刻蚀技术 )(@Hd  
6.3.3时间复用刻蚀 M %Qt|@O  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 gmm.{%1_I;  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 y a_<^O 9  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 GQ-Rtn4v  
6.4.2负折射 )YqXRm  
6.5未来应用前景 ,#8e_3Z$  
参考文献 c;'[W60  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法
Sr?#S  
7.1对称性、拓扑性和PBG `HBf&Z  
7.2金属光子晶体 
x+]\1p  
7.3金属结构的可加工性 m1*O0Tg]"  
7.4三维光子晶体的制造 B2O}1.  
7.5胶体模板法 !3ctB3eJ  
7.6微光刻工艺 -! K-Htb-  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 [VWUqlNt>  
7.8膜层应力 kTvd+TP4  
7.9对准 LupkrxV  
7.10表面粗糙度 tzh1s i  
7.11侧壁轮廓 >i
6yl5s  
7.12释放刻蚀 /Js7`r=Rx  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 ~_!F0
1s  
7.14结论 o-Ga3i 8  
致谢 NG6& :4!  
参考文献