微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 Z6Mjc/  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 hfbu+w):  
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目录 cg]Gt1SU  
译者序 m0.g}N-w  
前言 eG2'W  
第1章面浮雕衍射光学元件 fXnewPr=#  
1.1制造方法 WZ!zUUp}V  
1.2周期和波长比 54WX#/<Yik  
1.3光栅形状 +]wM$
bP  
1.4深度优化 [P~7kNFOh  
1.5错位失对准 Jh%SenP_oP  
1.6边缘圆形化 /!>OWh*~  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 gWjr|m<  
1.8表面纹理结构 x_-V{ k  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 #Q=c.AL{  
1.10太阳电池的表面纹理结构 a0A=R5_  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 !^NZ
p%Yd  
1.12成形金属基准层的制造工艺 hCgk78O?  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 t(6i4c>  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 6~{'\Z  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 @aFk|.6  
致谢 47{5{/B-  
参考文献 }#&[[}@th  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 rqBoUS4  
2.1概述和回顾 EAWBgOO8iC  
2.2基本的刻蚀处理技术 &ZFHWI(P
 
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 !or_CJ8%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 %c]N-  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ~W4SFp  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 6v%ePFul  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Us#/#-hJ  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 pNQ7uy  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 mv,a>Cvs[  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 up8d3  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 pH3\X cn  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 tV pXA'"!x  
致谢 KMqGWO*  
参考文献 q&6|uV])H  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 rxy5Nrue  
3.1概述 B2LXF3#/  
3.2相位掩模技术 g;[t1
~oF  
3.3光学元件的设计和制造 hc0$mit  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 c8Q2H  
3.3.2相位掩模的设计 km^ZF<.@  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 -U_,RMw~  
3.4轴对称元件的设计和制造 b9T6JS j  
3.5结论 hz<TjWXv'  
参考文献 pz/W#VN  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 %FqQ+0^  
4.1概述 O/(vimx.#F  
4.2电子束光刻术 h|Qb:zEP,  
4.2.1电子束光刻术发展史 >X:!Y[N  
4.2.2电子束光刻系统 <rui\/4NJ  
4.2.3电子束光刻技术 cZoj|=3a  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 =;I+:K  
4.3.1回顾 't
*]6^  
4.3.2硅 .YB/7-%M[  
4.3.3砷化镓 ~5Mj:{B  
4.3.4熔凝石英 MwQt/Qv=  
4.4光学器件加工实例 EASmB  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 xA2I+r*o  
4.4.2熔凝石英微偏振器 S+t2k&pm  
4.4.3砷化镓双折射波片 3q@JhB  
4.5结论 c(5XT[Tw  
致谢 1#+|RL4o  
参考文献 :1bDkoK  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 vE#8&Zq  
5.1概述 l1L8a I,8  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 AkO);4A;Jd  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 H*f2fyC1\  
5.3.1纳米压印组件和工艺 9CN'29c  
5.3.2纳米压印设备 X+,0;% p  
5.4商业化器件的应用 =_@) KWeX$  
5.4.1通信用近红外偏振器 cuy9QBB :  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 tW-[.Y -M,  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Tj<B;f!u  
5.4.4高亮度发光二极管 "Vo
ufXM:  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 >O~V#1 H  
5.4.6多层集成光学元件 yFd942  
5.4.7分子电子学存储器 &U}8
@;  
5.4.8光学和磁数据存储 w?N>3`Jnf  
5.5结论 d`5AQfL&  
致谢 : vgn0IQ  
参考文献 uKD }5M?{  
第6章平面光子晶体的设计和制造 BYa#<jXtAT  
6.1概述 oaILh  
6.2光子晶体学基础知识 q.@% H}  
6.2.1晶体学术语  _X=6M gU  
6.2.2晶格类型 `/!FZh<  
6.2.3计算方法 C"s-ttP   
6.3原型平面光子晶体 Lg#(?tMp,'  
6.3.1电子束光刻工艺 E:A!tu$B  
6.3.2普通硅刻蚀技术 vW?/:  
6.3.3时间复用刻蚀 R1%J6wZq  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 7(^F@,,@  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 :!?Fq/!  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 GY0OVAW6'c  
6.4.2负折射 V+l7W  
6.5未来应用前景 ocUBSK|K)  
参考文献 !)W#|sys&  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Q0x?OL]A  
7.1对称性、拓扑性和PBG S0r+Y0J]<  
7.2金属光子晶体 >NV1#\5_R@  
7.3金属结构的可加工性 Rxlv:  
7.4三维光子晶体的制造 a{rUk%x  
7.5胶体模板法 u5KAwMw%Q  
7.6微光刻工艺 b+hN\/*]  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 }?c%L8\  
7.8膜层应力 '}bmDb*  
7.9对准 HPt\ BK  
7.10表面粗糙度 e#3RT8u#  
7.11侧壁轮廓 6uUn  
7.12释放刻蚀 zM<L_l&  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 hJir_=  
7.14结论 3/]FT#l]i  
致谢 C|3cQ{  
参考文献