微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 qs8^qn0A  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 Vv`94aQTD  
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目录 0Bkc93  
译者序 l"h6e$dP  
前言 @eESKg(,  
第1章面浮雕衍射光学元件 2h@&yW2j  
1.1制造方法 I!lR 7%  
1.2周期和波长比 "fN 6
_
*  
1.3光栅形状 #<V5sgqS  
1.4深度优化 M
4 }))  
1.5错位失对准 A[F@rUZp  
1.6边缘圆形化 |g!$TUS.  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 }QCn>LXE  
1.8表面纹理结构 g&_f%hx?  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 N]ebKe  
1.10太阳电池的表面纹理结构 [1Qg
*   
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 szqR1A  
1.12成形金属基准层的制造工艺 w}97`.Kt!n  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 DHvZ:)aT}  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Fl(j,B6Z  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 p9MJa[}V  
致谢 E2=vLI]  
参考文献 !
X[7m  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 L|'B*  
2.1概述和回顾 s I0:<6W  
2.2基本的刻蚀处理技术 t
Q.H/;  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 NE &{_i!  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 JPZH%#E(  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 n0V^/j}  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 [CAFh:o  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 8RVRfy,w  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 <a+@4d;  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 4)XB3$<  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 (*T$:/zIS  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 j(>xP*il  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 fgA-+y  
致谢 ,sg\K>H=  
参考文献 vr6YE;Rs  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 r&F 6ZCw  
3.1概述 z${[Z=  
3.2相位掩模技术 u2[L^]|  
3.3光学元件的设计和制造 g<$2#c}  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 M[u6+`  
3.3.2相位掩模的设计 0xeY0!ux  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 CZ{7?:^f  
3.4轴对称元件的设计和制造 XBcbLF  
3.5结论 ;R@D  
参考文献 [;~"ctf{  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 E>r7A5Uo  
4.1概述 Wn?),=WQ{  
4.2电子束光刻术 j0{Qy;wP )  
4.2.1电子束光刻术发展史 yGV>22vv M  
4.2.2电子束光刻系统 i If?K%M7  
4.2.3电子束光刻技术 t4hc X[  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 R. vV
l+  
4.3.1回顾 e3[Q6d&|  
4.3.2硅 D O||o&u  
4.3.3砷化镓 VZ 7(6?W  
4.3.4熔凝石英 qN Ut&#  
4.4光学器件加工实例 =NNxe"Kd;U  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 .2ZFJ.Z"  
4.4.2熔凝石英微偏振器 $Fy>N>,E(  
4.4.3砷化镓双折射波片 i;29*"  
4.5结论 ekmWYQ ~  
致谢 O*W<za;  
参考文献 <zAYq=IU  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ',rK\&lL6  
5.1概述 OF-VVIS  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 MhB>bnWXR  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 3od16{YH  
5.3.1纳米压印组件和工艺 B^ddi  
5.3.2纳米压印设备
1Lp; LY"_  
5.4商业化器件的应用 [Q/kNK  
5.4.1通信用近红外偏振器 _8\B~;0  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 Ji6.
-[:  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） :l?mNm5  
5.4.4高亮度发光二极管 hMV>5Y[s  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 }Fo
x  
5.4.6多层集成光学元件 !?+q7U  
5.4.7分子电子学存储器 ~-R2mAUK  
5.4.8光学和磁数据存储 1083p9Uh  
5.5结论 <vD(,||  
致谢 O}}rosA  
参考文献 ]e+&Pxw]e  
第6章平面光子晶体的设计和制造 'G>9iw  
6.1概述 KCH`=lX  
6.2光子晶体学基础知识 pUW7
p  
6.2.1晶体学术语 N0JdU4'  
6.2.2晶格类型 :3b02}b7  
6.2.3计算方法
!_B*Po  
6.3原型平面光子晶体 @~UQU)-(  
6.3.1电子束光刻工艺 xH}bX-
m  
6.3.2普通硅刻蚀技术 8%xBSob{j  
6.3.3时间复用刻蚀 Bvh{|tP4  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 [9#zEURS  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 Z_Y'#5o#  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 \<G"9w  
6.4.2负折射 PrA(==FX/  
6.5未来应用前景 0'YJczDq:7  
参考文献 Fmz+ Xb  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 i$<")q  
7.1对称性、拓扑性和PBG zgH*B*)bj  
7.2金属光子晶体 *;~u 5y2b  
7.3金属结构的可加工性 S kB*w'k  
7.4三维光子晶体的制造 5O Y5b8  
7.5胶体模板法 U4yl{?  
7.6微光刻工艺 =)gdxywoC  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 y\Utm$)j  
7.8膜层应力 8F@Sy,D  
7.9对准 i" )_Xb_1  
7.10表面粗糙度 W8;!rFW  
7.11侧壁轮廓 Kpa$1x  
7.12释放刻蚀 5C^@w
 
7.13测量方法、测试工具和失效模式  5sN6&'[  
7.14结论 lBAu@M  
致谢 =9,^Tu|  
参考文献