微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 oy5+}`  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 @9vvR7{P  
(6R4 \8z2  
tS<h8g_  
定价：￥ 66.00 j#3m|dQ  
优惠价格：￥ 49.50 可以享受免费送货，货到付款。 jDTUXwx7V  
WNF9#oN|oT  
9p`r7:  
B< hEx@  
本帖为实体书购买信息推荐，暂无电子文档！ {|6z+vR  
]"sRS`0+  
目录 m}5q]N";x  
译者序 c'05{C  
前言 m*oc)x7'  
第1章面浮雕衍射光学元件 Uh}X<d/V  
1.1制造方法 {mSJUK?TKl  
1.2周期和波长比 Hku=pr3Gn  
1.3光栅形状 fxtxu?A>  
1.4深度优化 p{.8_#O%S  
1.5错位失对准 k1fRj_@WPT  
1.6边缘圆形化 3cC }'j  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 S}7>
RHe  
1.8表面纹理结构 "2;N2=~7  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 3LW[H+k  
1.10太阳电池的表面纹理结构 -H\,2FO  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 ]l[2hy= cV  
1.12成形金属基准层的制造工艺 +'XhC#:  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 hYb9`0G"2  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 IN^_BKQt  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 2EfflZL3  
致谢 \hbiU]  
参考文献 tcA;#^jc  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 a)S7
}0|R  
2.1概述和回顾 GuO`jz F  
2.2基本的刻蚀处理技术 =M<z8R  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 lIh[|]  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 wL2XNdo}<  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ,4Y*:JU4  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 QlD6i-a  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Q4wc-s4RN  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 *48IF33&s  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 #C\4/g?=,  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 <*
Y'lV  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 El6bD% \G  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 @\}YAa>>"I  
致谢 G9RP^  
参考文献 s'L?;:)dyB  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 CgnXr/!L  
3.1概述 Ror2qDF  
3.2相位掩模技术 (X}@^]lpa  
3.3光学元件的设计和制造 Y {c5  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ut5yf
$%  
3.3.2相位掩模的设计 }Bff,q  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 p4>,Fwy2  
3.4轴对称元件的设计和制造 
#J$qa Ul  
3.5结论 AyTx'u  
参考文献 HFS
+QwHW  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 Uix{"  
4.1概述 PayV,8   
4.2电子束光刻术 6fwY$K\X  
4.2.1电子束光刻术发展史 iV hJH4  
4.2.2电子束光刻系统 h^M^7S  
4.2.3电子束光刻技术 7&6Y  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 HXks_ix )  
4.3.1回顾 Pp_V5,i\  
4.3.2硅 @ yxt($G  
4.3.3砷化镓 _N'75  
4.3.4熔凝石英 -&Gfh\_NW  
4.4光学器件加工实例 7co`Zw4}g  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 7ZFJexN]  
4.4.2熔凝石英微偏振器 8QF`,o
XQO  
4.4.3砷化镓双折射波片 J70D+  
4.5结论 ^M|K;jt>  
致谢 W9R`A  
参考文献 0"4@;e_)>  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 QnK
C#   
5.1概述 EOVZGZF  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 cZQu*K^j  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 9?`RR/w  
5.3.1纳米压印组件和工艺 qm(1:iK,0  
5.3.2纳米压印设备 i'tp1CI  
5.4商业化器件的应用 i_U}{|j  
5.4.1通信用近红外偏振器 nNn56&N]  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 (0jr;jv  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Vxh.<b6&'  
5.4.4高亮度发光二极管 ixw(c&gL  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 fLB1)kTS  
5.4.6多层集成光学元件 1D{#rA.X  
5.4.7分子电子学存储器 t ;-L{`mW  
5.4.8光学和磁数据存储 kx{!b3"  
5.5结论 vA-PR&  
致谢 (pYYkR"  
参考文献 A=`*r*  
第6章平面光子晶体的设计和制造 7BFN|S_l  
6.1概述 WE.Tuo5L  
6.2光子晶体学基础知识 [7\>"v6  
6.2.1晶体学术语 '29WscU  
6.2.2晶格类型 8H $#+^lW  
6.2.3计算方法 yJD>ny  
6.3原型平面光子晶体 )HVcG0H1  
6.3.1电子束光刻工艺 x9V {R9_gf  
6.3.2普通硅刻蚀技术 '_o@VO  
6.3.3时间复用刻蚀 ^:DyT@hQB5  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 uO'/|[`8  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 \P?A7vuhLs  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 A1_ J sS  
6.4.2负折射 $D_HZ"ytu  
6.5未来应用前景 }lfn0 %(@  
参考文献 0IzZKRw  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 l$XA5#k  
7.1对称性、拓扑性和PBG XxOn3i  
7.2金属光子晶体 r95
zP]T  
7.3金属结构的可加工性 K`4GU[ul  
7.4三维光子晶体的制造 GqUSVQ  
7.5胶体模板法 POGw`:)A  
7.6微光刻工艺 #
nEL~
&  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 i6>R qP!69  
7.8膜层应力 y8?t-Pp]1  
7.9对准 yGEb7I$h  
7.10表面粗糙度 }O*WV1  
7.11侧壁轮廓 MY F
#A  
7.12释放刻蚀
\ X$)vK  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 y
Nva1I  
7.14结论 \dV Too  
致谢 "DjU:*'  
参考文献