微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 U&a]gkr  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 #5I "M WA  
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目录 =f p(hX"  
译者序 y@z#Jw<  
前言 DpR%s",Q  
第1章面浮雕衍射光学元件 [(K^x?\Y0'  
1.1制造方法 \ a<Ye T  
1.2周期和波长比 LMDa68 s  
1.3光栅形状 Q'Tn+}B&  
1.4深度优化 ZqGq%8\.s  
1.5错位失对准 G j:|  
1.6边缘圆形化 vT~a}  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 A|+{x4s`  
1.8表面纹理结构 3WVHI$A9  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 vtT:c.~d  
1.10太阳电池的表面纹理结构 *\>2DUu\`  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 _B[(/wY  
1.12成形金属基准层的制造工艺 Z~gqTB]H  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 m4 (Fuu  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 U#P#YpD;==  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 YD%Kd&es  
致谢 1$W!<:uh  
参考文献 ro{MDs  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 $p@g#3X`  
2.1概述和回顾 EIfrZg7R  
2.2基本的刻蚀处理技术 zYNJF>^<  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 *%e#)sn*  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ^eRuj)$5A  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 Xz@>sY>Jc  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 z,EOyi  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 kShniN  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 xl^'U/  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 J@fE")  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 73.b9mF  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 9.B7Owgr89  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 F*=RP$sj  
致谢 2^aTW`>L  
参考文献 one>vi`=  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 jj2UUQ|  
3.1概述 ~83P09\T%  
3.2相位掩模技术 (r4\dp&  
3.3光学元件的设计和制造 SJ-Sac58r  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 @n(In$  
3.3.2相位掩模的设计 *Y ZLQT  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 \zUsHK?L"t  
3.4轴对称元件的设计和制造 =!X4j3Cv  
3.5结论 URgF8?n
 
参考文献 O#\>j  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 g]#Wve  
4.1概述 luT8>9X^:a  
4.2电子束光刻术 7w*&Yg]  
4.2.1电子束光刻术发展史 1^3#3duV  
4.2.2电子束光刻系统 2cg z n@  
4.2.3电子束光刻技术 Dhoj|lc  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 ~}*;Ko\  
4.3.1回顾 EiUV?Gvz  
4.3.2硅 %-Z~f~<?  
4.3.3砷化镓 \t@`]QzG:  
4.3.4熔凝石英 (% P=#vZ  
4.4光学器件加工实例 |_*$+  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 /(aX>_7jg  
4.4.2熔凝石英微偏振器 s|'L0` <B  
4.4.3砷化镓双折射波片 s_LSsyqo  
4.5结论 3XtGi<u  
致谢 val<N293L>  
参考文献 ]r6bJ2  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 {)qP34rM  
5.1概述 (&,R1dLo  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 U^&Cvxc[[  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 K7c8_g*>4=  
5.3.1纳米压印组件和工艺 |5Pbc&mH8A  
5.3.2纳米压印设备 =jt_1L4  
5.4商业化器件的应用 1`{ib  
5.4.1通信用近红外偏振器 h6i{5\7.  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 @`D6F
;R  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 8A.7=C' z  
5.4.4高亮度发光二极管 $4L3y uH  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 N
~jQ!y  
5.4.6多层集成光学元件 c^IEj1@}'?  
5.4.7分子电子学存储器 h$\hPLx  
5.4.8光学和磁数据存储
($>0&w  
5.5结论 hJsC \C,^  
致谢 8zWPb  
参考文献 w>_EM&r6~u  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ':]a.yA\1  
6.1概述 1,'^BgI,  
6.2光子晶体学基础知识 C:MGi7f  
6.2.1晶体学术语 +=Wdn)T  
6.2.2晶格类型 dy
?|Q33Y"  
6.2.3计算方法 .`N`M9  
6.3原型平面光子晶体 Els=:4  
6.3.1电子束光刻工艺 Q0\5j<'e  
6.3.2普通硅刻蚀技术 UE w3AO  
6.3.3时间复用刻蚀 |LE++t*X~  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 0f/!|c  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 \r,.hUp  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 1o78e2B  
6.4.2负折射 z 5+]Z a~  
6.5未来应用前景 }92lr87  
参考文献 }Xv1KX'  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 zqr%7U  
7.1对称性、拓扑性和PBG Fjt,  
7.2金属光子晶体 z %E!tB2o  
7.3金属结构的可加工性 PM!t"[@&  
7.4三维光子晶体的制造 [Od9,XBa  
7.5胶体模板法 l>Ja[`X@  
7.6微光刻工艺 iGVb.=)  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 bCUh^#]x  
7.8膜层应力 $ywh%OEH  
7.9对准 ^)^|;C\`  
7.10表面粗糙度 O \8G~V 5"  
7.11侧壁轮廓 y7EX&  
7.12释放刻蚀 yc=#Jn?S  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 @]wem  
7.14结论 ?9@Af{b t2  
致谢 cG!2Iy~lA  
参考文献