微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 WM$ MPs  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 nsC3  
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目录 ;?iW%:_,  
译者序 20h, ^  
前言 AM\'RHL  
第1章面浮雕衍射光学元件 BoWg0*5xb  
1.1制造方法 -zgI_u9=EB  
1.2周期和波长比 >uB#&Q  
1.3光栅形状 z'n:@E  
1.4深度优化 I-*S&SiXjI  
1.5错位失对准 #&aqKVY  
1.6边缘圆形化 &)ChQZA  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 19)i*\+  
1.8表面纹理结构 D?_Zl;bQ'^  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 F^BS/Yag  
1.10太阳电池的表面纹理结构 lT?v^\(H  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 $k%2J9O  
1.12成形金属基准层的制造工艺 .@U@xRu7|  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 _7L-<  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 9~XAq^e  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 Rtl"Ub@HV  
致谢 b5vC'B-!  
参考文献 Qn.om=KDs@  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 sIGMA$EK  
2.1概述和回顾 oW*16>IN9l  
2.2基本的刻蚀处理技术 kJsN|
=  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 BM .~ 5\  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 Id .nu/  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 WiR(;m<g  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 NP3
y+s  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 vMH  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 "7F?@D$e  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 E KLyma&}Y  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 f+,qNvBY/  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 EgCAsSx(  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 <)c)%'v  
致谢 ;))+>%SGCt  
参考文献 h2]P]@nW;W  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 'XjZ_ng  
3.1概述 ~Otoqu|  
3.2相位掩模技术 9v
c2VB$  
3.3光学元件的设计和制造 {qJ1ko)$  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 37.S\gO]  
3.3.2相位掩模的设计 F_{Yo?_  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Z
t{[*~  
3.4轴对称元件的设计和制造 WO>nIo5Y  
3.5结论 ,j_i?Ff  
参考文献 CXM
Lt  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 FHg 9OI67  
4.1概述 {]@= ijjf  
4.2电子束光刻术 e2oa($9  
4.2.1电子束光刻术发展史 KBc1{adDx@  
4.2.2电子束光刻系统 >jLY"  
4.2.3电子束光刻技术 $Sip$\+*  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Vv=. -&'  
4.3.1回顾 sBg.u  
4.3.2硅 xdt- ;w|  
4.3.3砷化镓 :{l_FY436  
4.3.4熔凝石英 z,p~z*4  
4.4光学器件加工实例 G<J?"oQbRT  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 p]+Pkxz]'  
4.4.2熔凝石英微偏振器 H40p86@M  
4.4.3砷化镓双折射波片 Fq<A  
4.5结论 rw JIx|(  
致谢 v^*K:#<Q!  
参考文献 w;amZgD>  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 nMUw_7Y6  
5.1概述 ul>3B4  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 d^ 8ZeC#  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 :tg)p+KB  
5.3.1纳米压印组件和工艺 c-6?2\]j@  
5.3.2纳米压印设备 E*K;H8}s  
5.4商业化器件的应用 dkTX  
5.4.1通信用近红外偏振器 +\ .Lp 5  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 }|NCboM^_  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） bK&+5t&  
5.4.4高亮度发光二极管 WW~sNC\3`(  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 o3P${Rq  
5.4.6多层集成光学元件 Ai3*QX  
5.4.7分子电子学存储器 [sjosV  
5.4.8光学和磁数据存储 `b7t4d*  
5.5结论 +iRh
  
致谢 {_p_%;  
参考文献 ( ^Nz9{  
第6章平面光子晶体的设计和制造 R-d:j^:f  
6.1概述 V {ddr:]
4  
6.2光子晶体学基础知识 YUy0!`!`  
6.2.1晶体学术语 Hf2_0wA3  
6.2.2晶格类型 je=a/Y=%U{  
6.2.3计算方法 KB(8f*  
6.3原型平面光子晶体
1\2no{Vh  
6.3.1电子束光刻工艺 h J)h
\  
6.3.2普通硅刻蚀技术 .p" xVfi6  
6.3.3时间复用刻蚀 `Eo.v#<  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 w%jII{@,  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 -X2Buz8  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 _F|Ek;y%  
6.4.2负折射 wjB:5~n50k  
6.5未来应用前景 /"Uqa,{  
参考文献 [5Mr@f4I  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 o`z]|G1''  
7.1对称性、拓扑性和PBG 5K8^WK  
7.2金属光子晶体 ~dTrf>R8M  
7.3金属结构的可加工性 x7<K<k;s  
7.4三维光子晶体的制造 u <v7;dF|s  
7.5胶体模板法 /!XVHkX[  
7.6微光刻工艺 60?%<oJ oH  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 Si;H0uPO  
7.8膜层应力 7n<::k\lb  
7.9对准 FP4P|kl/9'  
7.10表面粗糙度 #BH*Z(  
7.11侧壁轮廓 Ry6@VQ"NLb  
7.12释放刻蚀 59;KQ  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 2.%ITB  
7.14结论 uiR8,H9*M  
致谢 CryBwm  
参考文献