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rS\mFt X 内容简介 >/C,1}p[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ve[Kv07 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 FN sSJU3ld 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 L~|_)4 }o
GMF~ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 _%rkN0-(a 目录 ct*~\C6Ze Preface 1 8_D:#i 内容简介 2 PB8U+ 目录 i u^ wGVg 1 引言 1 w{;bvq%lY 2 光学薄膜基础 2 P&o+ut: 2.1 一般规则 2 w"Zws[pm] 2.2 正交入射规则 3 @&G
%cW( 2.3 斜入射规则 6 Pvkr$ou 2.4 精确计算 7 * e,8o2C$ 2.5 相干性 8 f]Z9= 2.6 参考文献 10 uX7"u*@Q*~ 3 Essential Macleod的快速预览 10 y>UQm|o<W 4 Essential Macleod的特点 32 R<h:>.M 4.1 容量和局限性 33 gY-}!9kW] 4.2 程序在哪里? 33 8.`5"9Vh 4.3 数据文件 35 =%FhY^- 4.4 设计规则 35 fk5pPm|MiL 4.5 材料数据库和资料库 37 !qs~j=;y3 4.5.1材料损失 38 MGKSaP;x 4.5.1材料数据库和导入材料 39 QA!'p1{# 4.5.2 材料库 41 ![%:X)? 4.5.3导出材料数据 43 +>mU4Fwp 4.6 常用单位 43 1G, ' 4.7 插值和外推法 46 :,^x?'HK 4.8 材料数据的平滑 50 !Cm9DzG 4.9 更多光学常数模型 54 FO|Eg9l 4.10 文档的一般编辑规则 55 ` NvJ 4.11 撤销和重做 56 J]*?_>"#8 4.12 设计文档 57 L{6Vi&I84[ 4.10.1 公式 58 >Cr'dKZ} 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~m7?:(/lb 4.10.3 沉积密度 59 ^''3}<Ep 4.10.4 平行和楔形介质 60 pvqbk2BO 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 5=_))v<Tp 4.10.4 性能 61 t+WUz#i" 4.10.5 保存设计和性能 64 Bd13p_V"6 4.10.6 默认设计 64 s)~H_, 4.11 图表 64 YQfQ[{kp 4.11.1 合并曲线图 67 Fmrl*tr 4.11.2 自适应绘制 68 $xj>j 4.11.3 动态绘图 68 -v WXL 4.11.4 3D绘图 69
pe`&zI_`? 4.12 导入和导出 73 8bEii1EM 4.12.1 剪贴板 73 DVyxe} 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 H 4W4#\M 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 dy0xz5N- 4.13 背景 77 pXxpEv 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ud,_^Ul 4.15 生成Rugate 84 Ba|76OBRJ 4.16 参考文献 91 ]M9r<x* 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 EtvYIfemr 5.1 Jobs 92 #>\8m+h 9 5.2 创建一个新Job(工作) 93 &uTK@ G+ 5.3 输入材料 94 o{
\r1<D 5.4 设计数据文件夹 95 jP"='6Vrw 5.5 默认设计 95 2Yd;#i) 6 细化和合成 97 IY9##&c3> 6.1 优化介绍 97 ww{07g 6.2 细化 (Refinement) 98 =dI2j@}c 6.3 合成 (Synthesis) 100 T
.L>PL?= 6.4 目标和评价函数 101 #v4q:&yKf 6.4.1 目标输入 102 z2A1h!Me 6.4.2 目标 103 f9&po2Pzf 6.4.3 特殊的评价函数 104 {[.<BU- 6.5 层锁定和连接 104 V\o&{7! 6.6 细化技术 104 wTY8={p] 6.6.1 单纯形 105 &!FWo@ 6.6.1.1 单纯形参数 106 W[tX%B 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 l+8G6?@]> 6.6.2.1 Optimac参数 108 $5/lU
}To 6.6.3 模拟退火算法 109 lAPvphO 6.6.3.1 模拟退火参数 109 "@)9$-g 6.6.4 共轭梯度 111 u~^d5["T 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /F6=iHK(l 6.6.5 拟牛顿法 112 t1tZ:4 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 okZDxg`6 6.6.6 针合成 113 9i+SU|;j 6.6.6.1 针合成参数 114 _!*??B6u 6.6.7 差分进化 114 mC(q8%/; 6.6.8非局部细化 115 4#y 6.6.8.1非局部细化参数 115 ?KfV>.() 6.7 我应该使用哪种技术? 116 #\fxU:z~r 6.7.1 细化 116 T"$yh2tSY 6.7.2 合成 117 o=VDO,eS 6.8 参考文献 117 nZ2mY!* 7 导纳图及其他工具 118 /!Ng"^.e 7.1 简介 118 /?j
vv& 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 =9JKg4I6 7.2.1 四分之一波长规则 119 ?N*|S)BN 7.2.2 导纳图 120 `by\@xQ) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]2P*Z6Az 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 u`vOKajpH$ 7.5 斜入射导纳图 141 IZkQmA= 7.6 对称周期 141 0
))W [ 7.7 参考文献 142 U&\8~h 8 典型的镀膜实例 143 jQiKof> 8.1 单层抗反射薄膜 145 +5+?)8Ls 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 IPhV|7 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 80M"`6 8.4 W-膜层 148 o4"7i 9+g 8.5 V-膜层 149 >f$>Odqe 8.6 V-膜层高折射基底 150 T~rPpi& 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 !5P\5WF~Y 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 M6P`~emX2 8.9 四层抗反射薄膜 153 KPOr8=Rc 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 A%pBvULH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 &O5W 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 u!As?AD. 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 I(*4N^9++ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 iwl\&uNQU 8.15十五层宽带抗反射膜 159 {\Eqo4A5} 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 n~g,qEI;<x 8.17 1/4波长堆栈 162 l25E!E-'b 8.18 陷波滤波器 163 .'y]Ea 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 KU> $=Rd 8.20 褶皱 165 aD1G\*AFJ 8.21 消偏振分光器1 169 L/,W 8.22 消偏振分光器2 171 XJ|CC.]1u 8.23 消偏振立体分光器 172 m\88Etl@ 8.24 消偏振截止滤光片 173 Lii,L} 8.25 立体偏振分束器1 174 pk*cch# 8.26 立方偏振分束器2 177 J<<0U; 8.27 相位延迟器 178 ESl-k2 8.28 红外截止器 179 i%8I (F 8.29 21层长波带通滤波器 180 ix<sorR H 8.30 49层长波带通滤波器 181 WvN!8*XFM 8.31 55层短波带通滤波器 182 S'NZb!1+ 8.32 47 红外截止器 183 4{h?!Z* 8.33 宽带通滤波器 184 $\|$ekil4 8.34 诱导透射滤波器 186 ?X1vU0c
8.35 诱导透射滤波器2 188 @"9^U_Qf1z 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 4|Dxyb>pS 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 tTT./-*0 8.35 增益平坦滤波器 193 }2^_Gaj
8.38 啁啾反射镜 1 196 J?WT 8.39 啁啾反射镜2 198 0B^0,d(s 8.40 啁啾反射镜3 199 ))"
*[ 8.41 带保护层的铝膜层 200 |-Z9-rl 8.42 增加铝反射率膜 201 <|_/i/H 8.43 参考文献 202 dcMWCK 9 多层膜 204 /hPgOaB 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 .D^=vuxt~ 9.2 内部透过率 204 ;IC :]Zu 9.3 内部透射率数据 205 $z!o&3c'x 9.4 实例 206 W_NQi 9.5 实例2 210 d~](S<k 9.6 圆锥和带宽计算 212 A#gmKS<J/7 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 fA!uSqR$V
10 光学薄膜的颜色 216 IS`1}i$1% 10.1 导言 216 U5;
D'G 10.2 色彩 216 $= '_$wG
8 10.3 主波长和纯度 220 Y|t] bb 10.4 色相和纯度 221 qNP&f8fH 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
o*2TH2 10.6 色差 226 }JXAG/<
10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 Vd2bG4*= 10.8 颜色渲染指数 234 ~yH<,e 10.9 色差计算 235 G 2]/g 10.10 参考文献 236 ~7Ey9wRkD 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 %(GWR@mfC 11.1 短脉冲 238 PiMW29B^ 11.2 群速度 239 )_P|_( 11.3 群速度色散 241 NPws^ 11.4 啁啾(chirped) 245 DGl_SMJb 11.5 光学薄膜—相变 245 kw8?::
< 11.6 群延迟和延迟色散 246 fRp+-QvE 11.7 色度色散 246 &>UI { 11.8 色散补偿 249 ]de'v 11.9 空间光线偏移 256 Y27x;U 11.10 参考文献 258 -4|\,=j 12 公差与误差 260 &ah!g!o3 12.1 蒙特卡罗模型 260 :- B,Q3d 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 =W(mZ#*vdY 12.2.1 误差工具 267 HS"E3s8 12.2.2 灵敏度工具 271 ]sBSLEie
' 12.2.2.1 独立灵敏度 271 pp$WM\r 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ?mxBMtc
12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 =B9Ama 12.3 参考文献 276 0?} ),8v> 13 Runsheet 与Simulator 277 V @A+d[ 13.1 原理介绍 277 6eSc`t& 13.2 截止滤光片设计 277 D"^4X'6 14 光学常数提取 289 h}&WBN 14.1 介绍 289 xSFY8 14.2 电介质薄膜 289 }W{rDc kv 14.3 n 和k 的提取工具 295 ezRhSN? 14.4 基底的参数提取 302 4,CQJ 14.5 金属的参数提取 306 "'us.t. 14.6 不正确的模型 306 .i[rd4MCK 14.7 参考文献 311 ~^((tT 15 反演工程 313 J<h^V+x 15.1 随机性和系统性 313 &kKopJH 15.2 常见的系统性问题 314 5z8CUDt
0 15.3 单层膜 314 S'>(4a 15.4 多层膜 314 8?ldD 15.5 含义 319 /t=R~BJu 15.6 反演工程实例 319 cd1M0z 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 N|[P%WM3 15.6.2 反演工程提取折射率 327 lub(chCE[ 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 QXZjsa_| 16.1 光学性质的热致偏移 329 L&$ X\\Lv^ 16.2 应力工具 335 s& |