微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 u@;6r"8q  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 6@"lIKeP  
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目录 0gR!W3dh  
译者序 vZDM}u  
前言 YA";&
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第1章面浮雕衍射光学元件 J6WyFtlyLc  
1.1制造方法 r#%e$
 
1.2周期和波长比 *A2D}X3s  
1.3光栅形状 zlUXp0W  
1.4深度优化 )L)jv
Cw,e  
1.5错位失对准 -^Pn4
y]A)  
1.6边缘圆形化 *8ZaG]L  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 j}uVT2ZE%  
1.8表面纹理结构 9Y6Ear .W  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 _{eH" ,(  
1.10太阳电池的表面纹理结构 F5hOKUjv  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 TA2?Ia;@xV  
1.12成形金属基准层的制造工艺 {Q%"{h']  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 _iJ8*v8A  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 \Ax[/J2aO  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 }m`+E+T4  
致谢 WOv m%sX  
参考文献 B 66-l!xa  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 dx/NY1  
2.1概述和回顾 Y(qyuS3h~*  
2.2基本的刻蚀处理技术 pb\W7G  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 }JF,:g Lk  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 '@{'T LMCi  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 Ti{~  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ~{8X$xs  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 <~rf;2LZ  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 p$qpC$F  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 U2lDTRt  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ?qdZ]M4e  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 \-Oq/g{j  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 */T.]^  
致谢 MPexc5_  
参考文献 \Y>!vh X  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 [K*>W[n  
3.1概述 $@ous4&  
3.2相位掩模技术 QSaJb?I  
3.3光学元件的设计和制造 NoR=:Q 9e  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 &s+F+8"P+  
3.3.2相位掩模的设计 B%.XWW$  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 O%>FKU>(?  
3.4轴对称元件的设计和制造 nVO|*Bnf)  
3.5结论 ~> xVhd  
参考文献 }
'"4q  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 "K!9^!4&  
4.1概述 /+11`B0
9  
4.2电子束光刻术 -F]0Py8(  
4.2.1电子束光刻术发展史 |t1ij'N  
4.2.2电子束光刻系统 ,X&(BQj h  
4.2.3电子束光刻技术 Q#,j,h
 
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 #fuc`X3:HL  
4.3.1回顾 >h[ {_+  
4.3.2硅 wG,
"ZN  
4.3.3砷化镓 'QMvj` -  
4.3.4熔凝石英 miq"3  
4.4光学器件加工实例 `:4\RcTb/  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ?>\JX  
4.4.2熔凝石英微偏振器 "F$0NYb]I  
4.4.3砷化镓双折射波片
-UhSy>m  
4.5结论 Dd=iYMm7  
致谢 aCwb[7N  
参考文献 b
6LwKUl  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 P+hp'YK1  
5.1概述 ;'|Mt)\  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 bR0z$~  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 qMA K"%x  
5.3.1纳米压印组件和工艺 }gfs  
5.3.2纳米压印设备 B <CK~ybY  
5.4商业化器件的应用 MV~-']2u  
5.4.1通信用近红外偏振器 .;:jGe(  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 .t7mTpi  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） =` %iv|>r0  
5.4.4高亮度发光二极管 :.K#=ROP  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 #Is/j =  
5.4.6多层集成光学元件 ]t23qA@^2  
5.4.7分子电子学存储器 [^J2<\<0  
5.4.8光学和磁数据存储 2f=7`1RCD  
5.5结论 DM73 Nn^5  
致谢 OFyZY@B-C~  
参考文献 E2 5:eEXa  
第6章平面光子晶体的设计和制造 EE^ N01<"\  
6.1概述 fFBD5q(n  
6.2光子晶体学基础知识 ]rhxB4*1  
6.2.1晶体学术语 }IRx$cKV  
6.2.2晶格类型 $;ssW"7~Qn  
6.2.3计算方法 4Y=sTXbFt  
6.3原型平面光子晶体 7Lv5@  
6.3.1电子束光刻工艺 3=SN;cn  
6.3.2普通硅刻蚀技术 X`,]@c%C`  
6.3.3时间复用刻蚀 hlgBx~S[  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 '%D$|)  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 YTtuR`  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 .\W6XRw  
6.4.2负折射 ~I+}u]J  
6.5未来应用前景 ~MgU"P>  
参考文献 CXzN4!  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 )/:r$n7  
7.1对称性、拓扑性和PBG 1e0O-aT#Q  
7.2金属光子晶体 cITF=Ez  
7.3金属结构的可加工性 yXpU)|o  
7.4三维光子晶体的制造 `D#3  
7.5胶体模板法 :=0XT`iY  
7.6微光刻工艺 T{L{<+9%  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 5_d=~whO&2  
7.8膜层应力 2K8?S  
7.9对准 lF=l|.c  
7.10表面粗糙度 8olR#>  
7.11侧壁轮廓 +>F #{b  
7.12释放刻蚀 6L2Si4OGjG  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 I>]t% YKj  
7.14结论 !Gphs`YI  
致谢 !*U
#,qY  
参考文献