光弹调制器

发布:昊量光电 2012-08-23 10:15 阅读:2011
美国Hinds Instruments, Inc公司是世界著名的(同时也是世界唯一的一家)光弹调制器(photoelastic modulators)生产商。Hinds Instruments公司的PEM光弹调制器可以控制光束的偏振状态的改变,调制速率为20~100kHz。光弹调制器(PEM)的作用就像一个“动态的波片”,可以使快轴和慢轴之间产生一个周期变化的折射率差,从而控制透过光束的偏振进行周期性的变化。具体而言即,光弹调制器(photoelastic modulators)通过对线偏振光添一定的相位使输出光在圆偏振、椭圆偏振、线偏振等状态之间井进行变化,同时光弹调制器(PEM)还可以使光在左旋、右旋两种状态之间进行切换。 Id->F0x0  
iM'{,~8R5  
N"d*pi#h  
光弹调制器对比声光调制器、电光调制器、液晶调制器的独特之处包括: 3)SO-Bz\  
E2f9J{ Ki=  
7=jeq|&kN  
    非常大通光孔径(15到30mm,标准),同时保持很高的调制器频率 ~ $I2{I#W  
    超大接受角度(市场角)范围(+/- 20°) oe1Dm   
    波长覆盖范围大(170nm~10um,FIR~THZ) UMe@[E=  
    高损伤阈值 Gx75EQ2  
    可精确控制相位延迟 <&&xt ?I.  
q*Xp"yBTo  
?kvc`7>  
PEM光弹调制器电学和光学头封装在不同的部件中。这样能够最小化光学系统单元的尺寸,同样也使得光学头与磁场或真空兼容(当这些有需要的时候)。 +*OY%;dQ7@  
XO |U4 #ya  
J(&a,w>p  
pq;)l( Hi  
需要进一步了解关于光弹调制器原理,请点击这里 0q%=Vs~@g  
nU Oy-c  
muSQFIvt  
~O{sOl _<4  
应用举例: $~,]F  
BS}uv3  
光弹调制器在偏振方向调制中的应用介绍.pdf x)@G+I \u  
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M5OH-'  
oh{!u!L`]  
V%~u8b  
Hinds Instruments光弹调制器主要分为两个系列: -B\`O*Q  
h%kB>E~  
l\8 l.xP  
Series I 系列光弹调制器使用矩形光学原件,波长覆盖紫外、可见光和红外至1或者2um。 ?3tR(H<  
IQK__)  
Series II系列光弹调制器使用对称或者八角形的光学原件,波长覆盖可见和红外(到中红外)频谱区域。特殊的型号可用于紫外。 -CW$p=y}  
p-U'5<n  
7Kx3G{5ja  
5utMZ>%w_#  
Hinds Instruments公司光弹调制器的光学头使用不同的光学材料,材料的选取主要取决于仪器频谱透射率的需要。表1列出了通常使用的材料。 >mI-h  
U4*5o~!=S  
r\+AeCyb"p  
$jb3#Rj4  
TABLE 1 tYt/m6h  
   IXp P.d  
   k|l"Rh<\~  
&o/&T{t}  
SPECTRAL REGION 1{+Ni{  
SERIES >gDsjHQ6;  
MATERIAL d>F=|dakL  
WU1 I>i  
Vacuum UV, UV {]-nYHGL  
I Xmy(pV!PF  
Lithium Fluoride ,*.C''  
[_j.pMH/P  
Vacuum UV to mid-IR La}=Ng  
I,II Y=/3_[G   
Calcium Fluoride M3 8,SH<  
&G55<tRE  
Vacuum UV to near-IR &..![,)w^!  
I,II hD\C[C,  
Fused Silica /B!"\0G/,  
De|@}@  
Mid-visible to mid-IR "z^Ysvw&~  
II d; @Kz^  
Zinc Selenide ;D]TPBE  
:i*JlKHJ d  
Near- to mid-IR n[WXIE<  
II iZ[o2Tre  
Silicon K@*m6)  
BU:s&+LYUv  
qd3B>f  
>FHTBh& Y  
fx.FHhVu  
相对于Series II八角形光学元件,Series I矩形的光学元件在相同厚度的情况下,相位延迟量更少。在红外波段,这是一个缺点,但是在紫外波段,尤其是真空紫外,这则变成为了一个很大优点。 ' 7>}I{Lq  
oTOe(5N8a  
~PuPY:"  
KnZm(c9+  
wSIt"g,%  
八角形(Series II)光学元件在给定的厚度下更加的有效率,因此在红外波段有更多的优势。使用Series II操作低延迟量(例如:深紫外)或许会造成一些问题。 O\OG~`HBN  
2ok>z$Y  
 [.z1  
~"Ek X  
& A9psc(,&  
V6wYJ$]  
可选选项(规格和价格会因为客户需要而改变,详情询问昊量光电的工程师) G`|mP:T:o  
7Yj\*N  
$.kIB+K  
    增透膜,Model ARC。防反射膜可用于任何光学调制器上,窄带宽和宽带宽镀膜都可得。 biGaP#"0  
    请联系昊量光电关于频谱范围和透射率要求 )#3 ,y6  
    无干涉选项,Model NIO。这一项用于偏转光束路径,因此消除了调制器干涉 f{ S)wE>;  
    特殊频率,Model SFO。标准的调制头配以特殊频率 v}[KVwse  
    特殊光学头/电学头电缆,Model SLHH ,`+y4Z6`W2  
    特殊调制头附件,Model SHE。光学头可以根据客户需要提供特殊形状 (U/[i.r5Cj  
    真空操作。PEM可用于真空环境,详情请询问Hinds ; @Gm@d  
           磁场兼容选项,Model MFC。光学头不含任何磁铁材料,用于强磁场中 {LJCY<IGq  
f$V']dOj1q  
dJNYuTZ'  
F$F5N1<  
基本指标 Xg!Mc<wA[  
drtQEc>qT  
j- F=5)A  
Model 3CQpe  
Optical Material mq'q@@:c  
Nominal +$},Hu69j  
oL }FD !}  
Frequency =K8`[iH  
Retardation Range GUat~[lUrj  
Useful !h9 An  
f.+e  
Aperture1 uX}M0W  
C UBcU  
Quarter Wave <;9 vwSH>  
Half Wave _rjCwo\  
wK#UFOp  
I/FS50 MiOSSl};  
Fused Silica :sT<<LtI-  
50 kHz =t)eT0  
170nm - 2μm r="X\ [on  
170nm - 1μm k )){1O  
16mm &Vgjd>  
T/ S-}|fhQ  
I/FS20 :^iR&`2~  
Fused Silica O gHWmb  
20 KHz XTW/3pB  
170nm - 2μm e`}|*^-  
170nm - 1μm 8CEy#%7]}  
22mm cW&OVNj  
5&94VQ$d  
I/CF50 yx/:<^"-$  
Calcium Fluoride l^0 <a<P  
50 kHz p3^7Hr  
130nm - 2μm ]Dx?HBM"DC  
130nm - 1μm IHagRldG  
16mm `hH1rw@7<  
I/^Lr_\  
II/FS20A N pRC3^  
Fused Silica T,?^J-h^  
20 kHz xOu cZ+  
170nm - 2μm >) S a#w;  
170nm - 1μm RPp_L>&~<  
56mm Y}f%/vus  
]m}>/2oSs  
II/FS20B ^jCkM29eu  
Fused Silica l_f"}l  
20 kHz tU)+q?Mw  
1.6μm - 2.6μm 80+" x3r  
800nm - 2.5μm PiH#9X B  
56mm ! B)Em  
BwBv 'p+n  
II/FS42A H9jj**W ;$  
Fused Silica z1]RwbA?1  
42 kHz has5"Bb  
170nm - 2μm u-k*[!JU  
170nm - 1μm V@Po}  
27mm yr;oq(&N  
@ObsW!g  
II/FS42B @8_K^3-~e  
Fused Silica iWtWT1n8n  
42 kHz 1^$Io}o:S  
1.6μm - 2.6μm ZGp8$Y>r  
800nm - 2.5μm D@j `'&G  
27mm ;2X1qw>  
t~bjDV^`  
II/FS47A m$O@+;>l  
Fused Silica (cCB3n\20  
47 kHz TAGqRYgi  
170nm - 2μm LL,~&5{  
170nm - 1μm p$"*U[%l  
24mm ~^3B(feQ]  
FNm8j#c~Q  
EIf~>AI  
dB1bf2'b#  
II/FS47B 'vCFT(C-  
Fused Silica M=!x0V;  
47 kHz *~-~kv4-  
1.6μm - 2.6μm r<b g->lX  
800nm - 2.5μm d ch(HB}[  
24mm i-/'F  
L:%h]-  
II/FS84 ;>Kxl}+R  
Fused Silica f:BW{Cij;y  
84 kHz  lual'~  
800nm - 2.5μm Zo&U3b{Dy  
400nm - 2.5μm CP={|]>+S  
13mm Li7/pUq>}!  
<GR]A|P  
II/IS42B ]p$fEW g  
Fused Silica fM8 :Nt$  
42 kHz 8~4{e,} ,  
1.6μm - 3.5μm W;hI[9  
800nm - 2.5μm 6t@3 a?  
27mm ?N`W,  
b)`<J @&{  
II/IS84 8# 9.a]AX  
Fused Silica Lo !kv*  
84 kHz -lLq)  
800nm - 3.5μm h],_1!0  
400nm - 1.8μm aA\v  
27mm O*c +TiTb  
L]9*^al  
II/CF57 ON !1lS  
Calcium Fluoride RX#:27:  
57 kHz )kg^.tP  
2μm - 8.5μm t&-7AjS5  
1μm - 5.5μm y5oiH  
23mm C/lp Se  
Nhuw8Xv  
II/ZS37 z i<C 5E`  
Zinc Selenide E Xo"F*gW  
37 kHz k}JjSt1_A;  
2μm - 18μm &Tl3\T0D  
1μm - 9μm _jP]ifu`  
19mm esFBWJ  
"-\I?k  
II/ZS50 !WAbO(l  
Zinc Selenide ld}- }W-cq  
50 kHz .hn "NXy  
2μm - 18μm z,$^|'pP  
1μm - 10μm $1/yc#w u  
14mm _PQQ&e)E  
7)<&,BWc  
II/SI40 !~PV\DQN  
Silicon [&"`2n  
40 kHz lP0'Zg(  
FIR - THz dd_n|x1  
FIR - THz FzW7MW>\x  
36mm b m`x  
)g+~"&Gcx  
II/SI50 G4]T  
Silicon qK,rT*5=  
50 KHz $,F1E VJ  
FIR - THz kwWDGA?zFB  
FIR - THz mM!Gomp  
29mm -I '#G D>  
UJ n3sZ<}  
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