2011年09月10日-09月12日TracePro 深圳照明设计标准培训
南京光科信息技术公司 精品课程:TracePro LED照明设计专题培训课程
时间:2011年09月10日-09月12日 地点:深圳 罗湖区 光科培训中心 报名热线:025-84305866 照明课程费用 ¥4000元 科学合理的授课过程,TracePro照明设计的标准培训 2011年全面升级 -------------------------------------------------------------------------- 本课程特色: 从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 第一天课程内容 上午 光度学与色度学 OSRAM LED -LUW W5AM 实例 光源建模 光线追迹 照度分析 光强分析 物体建模练习 3D模型文件导入导出 下午 IES文件导入 光科IES文件生成器的使用 方光手电筒设计 球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC 光源数据图形识别 表面光源特性生成器 第二天课程内容 上午 光线追迹保存光源数据文件 手动建立SIEMENS LED 散射ABg模型 反射 透射 人眼观察效果-亮度计算 CREE Xlamp 系列光源 手电筒透镜设计实例 下午: LED反光杯矿灯设计实例 练习:1 XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 PMMA 直径 < 23MM 练习:2 XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 TracePro的自动优化 光源坐标优化光效 反光杯准直优化 吸顶灯均匀光斑自动优化 第三天课程内容 上午: LED透镜均匀光斑自动优化 反光杯均匀光斑自动优化 自动优化练习:LED 二次透镜设计 XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 设计过程: 第一步:打开初始文件 光源Source 调节光线数量 目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 第二步:执行Macro 了解主要参数 透镜 中心厚度 外径 (demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) 第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) 第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 增加光线数量,看最终效果 设计过程参数: (optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) (optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) (optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) 根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 下午: CPC TIR透镜设计 阵列Macro的使用 双向非球面Macro 花生粒LED路灯透镜设计 LED投影机的整体设计 分享到:
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最新评论
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optotek_gk 2011-08-15 08:49LED反光杯矿灯设计实例
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optotek_gk 2011-08-15 08:53深圳开课啦!
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optotek_gk 2011-08-15 16:55请多多关注!
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optotek_gk 2011-08-16 13:213D模型文件导入导出
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optotek_gk 2011-08-17 09:51LED路灯二次光学设计
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optotek_gk 2011-08-18 16:30CREE Xlamp 系列光源
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optotek_gk 2011-08-19 13:52各位来关注一下吧!
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optotek_gk 2011-08-22 09:01更多工程实例分析!
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optotek_gk 2011-08-23 09:08自动优化讲解
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optotek_gk 2011-08-24 09:05关心LED的朋友来关注一下吧!
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