ZEMAX(武汉)光学设计软件成像培训班2011年5月25-27日ZEMAX(武汉)光学设计软件成像培训课程 开课时间:2011年5月25-27日 开课地点:武汉市区 ● 主办单位 南京理工大学 电子工程与光电技术学院 光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn ● 课程形式 讲师讲授与学员互动式教学,课程均采用小班授课模式,下机讨论并指导上机练习,教材与PPT同步教学,通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。 ● 课程对象 光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 ●课程特色及内容 ☆本课程为ZEMAX标准学习课程,专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置,通过本课程密集培训和练习互动后,学员能达到独立轻松设计光学系统,并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括: 1、光学理论基础介绍,几何经典成像理论,像差理论,一阶光学与三阶光学计算像差,像差产生原因 及平衡像差的方法。 2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 3、光学系统设计实例,包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计,从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构,变焦镜头、扫描镜头设计。 4、ZEMAX的优化技巧探讨,设定评价函数及评估系统性能的方法,优化操作函数的选择,玻璃材料的优化方法。 5、衍射光学理论,衍射极限系统分析,MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 7、光学系统公差分析,模拟实际加工及装配中产生的误差,预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤,蒙特卡罗结果分析集阐释。 ------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ ● 费用及优惠 3000元/人 ☆ 同一单位有三人以上报名客户 ☆ 光研软件购买客户或参加过光学课程的客户 培训费用均享受8折优惠 ● 培训证,书 培训结束后,将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证,书。 ●其他事项 每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用,也可自带软件,统一安排培训 统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材,学员自带电脑,食宿需要自理(可提供中餐) 具体开课地点报名缴费后在开课前一周另行通知 ● 报名咨询及热线 联系人:侯小姐 电话:025-57929358-808 传真:025-57929359 E-mail:nancy@wavelab-sci.com.cn sales@wavelab-sci.com.cn ZEMAX光学设计成像培训班课表 5月25日-5月27日
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最新评论
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lucy24 2011-04-25 10:03报名啦!
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lucy24 2011-04-26 10:01好耶,报名参加!
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lucy24 2011-05-03 09:06争先恐后的报名了!
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zpbletter 2011-05-04 15:38好呀,值得一学。
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user_test 2011-05-04 16:38木有money
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lucy24 2011-05-05 12:00报名参加了
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bowanfen 2011-05-06 10:01还是要到武汉去参加啊!
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lucy24 2011-05-09 08:57近期是在武汉办培训,我们在全国各地的不同时期,都会有培训班的哦。如有兴趣,欢迎来电咨询!
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lucy24 2011-05-11 09:19争先恐后的报名了!
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zgdyx386 2011-05-12 09:55路过,顶一下
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