关于举办“2006年光学薄膜培训班”的通知
Q4r)TR , /|Za[ 9VdVom|e 具体信息请登陆协会网站或论坛察看:::
www.coema.org.cn/bbs l@nkR&4[ 2`/JT 各会员单位和光学光电行业业界同仁:
KHKf+^u u Z3Os9X9p 8SK}#44Xz b5_(Fv 光学光电子行业作为未来四大支柱产业之一,近些年得到迅速发展。技术创新和专利获得逐年增长,产品升级换代速度加快,国内国际市场均表现活跃。
h|"98PI .P.TqT@)r 4;WeB 'WkDpa 光学薄膜技术是光学光电子行业发展不可或缺的组成部分,正在发挥越来越重要的作用,在激光技术,红外技术,IR-CUT,数码投影等领域都拥有广泛的应用。光学薄膜技术在军民结合技术中更有着广泛的应用前景,逐步走向产业化。
EAp6IhW{ FqAW>< \2)a.2mAz gUzCDB^.: 中国光学光电子行业协会应广大会员单位的要求,为了逐步普及真空镀膜理论知识,同时为业界骨干企业的青年专家和工艺员工提供沟通交流机会,定于2006年5月14—20日在北京举办“2006年光学薄膜培训班”,敬请参加!
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fQc2K|V #bgW{&_y X6%w6%su5 有关培训班具体事宜,详情见附件一。
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N+;K0 |3W\^4>, 主办:中国光学光电子行业协会
\9dSI |5S/h{gq ^%wj6 |rkj$s, 北京光学学会
x&7%U gsd9QW j7=I!<w V VQV7W 协办: 中国光学光电子行业协会光学元件和仪器分会
F;Ms6 "K -~ytk= -q\5)nY QPjmIO 中国光学光电子行业协会激光分会
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aU6] :D6"h[7 _,(]T&j #2 中国光学光电子行业协会红外分会
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qW[p .jN w#g0nV"X6 &x19]?D"+ B4 5B`Ay WV_y@H_ 中国光学光电子行业协会
d)`XG cx{= mcAg,~"HB :L<$O7 @sv==|h 2006年3月17日
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MU@J 0mo^I==J1 附件一:光学薄膜培训班培训计划及报名回执表
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! 0.S].Y[ 具体培训计划如下:
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(]t} vf(8*}'!Q e\i K 1.时间:2006年5月14—20日(14日全天报到,领取培训资料)
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e&Z}struE F_;oZ <e"O`*ZJ Vr/UbgucJ 3.专家:
RbX!^v<0f6 mMmzi4HL ?6.vd]oNO 1\1a;Q3W%, 周立伟
CBdSgHA3> tdg.vYMDPC s>z$_ 中国科学院院士
epa)ctS9 ,t5X'sY L BX$t |t;!m :0>wm@qCQ 卢维强
@-~YQ@08` mLX1w)=r pv039~Sud 教授
_ b}\h,Ky <b"ynoM.A ut%t`Y(
] \W;~[-"# 尤大伟
Va Z+TE nW+rJ LB%_FT5 研究员
hk4f)z Zy@35;r 06*R)siC quk~z};R>\ 赵福庭
6~GaFmW= :Bp{yUgi@ lGqwB,K$z4 研究员级高工
{"8\~r &b Z:aDKAboU ZV}BDwOFI VHVU*6_w 张福初
ie^:PcU B5Rm z& T_ Q/KhLU 研究员级高工
f]"][!e!, Taxi79cH #C|:]moe 7|PpAvMF 朱 震
uxk&5RY #{7= uoFH{.) 研究员级高工
'GQ1;9A57 ]+)z}lr8 C |s|>46E h*)spwF- kac@yQD 4.内容:
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0:Js{$ZL4 K @"m0 上 午
KrVF>bq+ wRf_IBhCd =Y|TShKk 下 午
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每天上午安排光学薄膜系统理论,薄膜光学授课
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+*1 Z<En3^j` tc@v9`^_ 每天下午安排专题技术讲座,主要内容如下:
jD0^,aiG \A:m<:: S +|aCRS Yg/e 8Q2 离子源辅助蒸发技术
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