薄膜厚度测量---激光椭偏仪

发布:myjoy88 2010-01-13 17:44 阅读:3982
Multiple Angle Laser Ellipsometer 多入射角激光椭圆偏振仪 ;-Jb1"5  
产品特点: H`geS  
精度、高稳定性 :(H>2xS,s  
快速、高精度样品校正 9Fr3pRIJ  
快速测量、操作简便 1u|Rl:Q  
多角度测量 T =2=k&|  
样品可水平或垂直放置 p^pOuy8  
一体化集成设计  HyR!O>  
椭圆偏振法简称椭偏法,是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难,直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进,已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测,极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级),测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率,也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此,椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。 a<h1\ `H7  
Wn>@9"  
产品说明: EFc-foN  
;q1A*f\:#  
多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征: ":nQgV\ 9  
<u=4*:QE  
1) 单层纳米薄膜; m B\C?=_  
.%82P(  
2) 多层纳米层构膜系; bUY>st'  
jU5}\oP@  
3) 块状材料(基底) r lKlpl  
3<=G?of  
4)透明薄膜 UQ.7>Ug+8s  
9RWkm%?  
EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好,尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域,如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外,高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。 J=dJs k   
5H9r=a  
EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件,改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要,可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性 g(| 6~}|o+  
8x[YZ@iM-  
产品性能简介: {vE(l'  
fkSwD(  
高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法,以及低噪声探测技术,保证了系统的高稳定性和高准确度; *;XWLd#  
Gxa x2o  
样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度,从而获得最佳优信号,没有位置校准很难保证样品在合适位置,信号不能调整到最佳输出状态,测量的重复性和准确定都很难保证。 @p|$/Z%R,  
ov\HsTeZ  
高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试,可以提高信噪比,保证测量结果的稳定和正确。 ;zdxs'hJ  
1LY8Ma]E  
采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度,没有死角,可确定△的正负号,并可计算出偏振因子P的值,P值可从侧面评估测量结果;针对太阳能电池绒面特征,测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高;没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低,也就是有两个测量死角,在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大,当然也无法计算偏振因子P的值,也就无从判断结果的可靠性。 WW@d:R  
SZ_V^UX_  
耗材是仪器长期使用的耗费品,并会带来进一步的资金投入,EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转,定位精度高,基本没有损耗,采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题,并周期性的带来更换的费用和不便。 YQ0)5}  
&,.Y9; b  
高精度的光学自准直望远技术,保证了快速、高精度的样品校正; :ah 5`nmPO  
,2]X}&{i  
稳定的结构设计、可靠的样品位置校准,结合先进的采样技术,保证了在单入射角度下的快速、稳定测量; [>|FB'  
4R8G&8b  
分立式的多入射角位置选择,可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量; _qWliw:0#  
o-cAG{.WC  
仪器适应性的结构设计,保证了样品可水平放置或垂直放置,方便进行液相池中的样品测试; ]p!Gt,rYq  
'r\ V. 4  
一体化集成式的仪器结构设计,使得系统操作简单、整体稳定性提高,并节省空间; 178Mb\8  
-<#!DjV6(  
专用软件中预定义了当前一些常见的应用(如半导体、微电子、生命科学等),可方便用户。 Ap$y%6  
++Ww88820  
内置模型数据库,免费的软件升级  >Ng)k]G  
j8K,jZ  
规格及主要技术指标: wl1m*`$  
dC<LDxlv  
EM01技术指标: Em7 WDu0  
[/_+>M  
激光波长 632.8nm(He-Ne laser)
激光稳定性 0.1%(rms)
ψ和Δ的精度 δ(ψ) = 0.08°,δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)
膜层厚度精度 0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
重复性 0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
折射率精度1x10-3(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
结构 PSCA
激光光束直径 1mm
入射角度 手动选择,范围40°-90°,步进5°
样品方位调整 三维平移调节:±25mm(X-Y-Z) ;<Km 3  
二维俯仰调节:±4° LC0d/hM  
光学自准直望远系统监视
最大样品尺寸 Φ170mm
单次测量时间 200ms
推荐测量范围 0-2000nm
外形尺寸(长x宽x高)980x660x430mm (入射角为90º时)
7}_!  
dec-kevin@163.com
分享到:

最新评论

小青0228 2011-09-06 11:12
有没有详细资料啊
元小忠 2012-10-31 18:13
算是广告贴吗?
我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2024 光行天下 蜀ICP备06003254号-1