光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 [(PD2GO+
b%"Lwqd r7
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) `/\Z{j0_
bL"!z"NA
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). y8|?J \eRy
568qdD`PS
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： 'mR 9Uqq\
l-G] jXu
Vi o ~2
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： :$gR
>.`
Mpu8/i
gX,
*oca
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 w\QMA3
Q
/Xo8 kC
单击Next_Apply即可。 ">D7wX,.>
Od5I:p]N
mpysnKH
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 Kfl#78$d
.,$<waGD
D<:J6W7]
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） ` 7mRUDz
klwNeGF]N
\WN ,.
单击OK.再Load新建的目标， r}]%(D](v
N +M^e`H
H@%Y"iIUP
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 8 BgHoQ*
;%_s4
&)y$XsSMW
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 m_pqU(sP
@;K-@*k3
