光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
wa@Rlzij> M8-8 T 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
@ZI Sv'F Q^ W,)% 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
:of([e|u6 $z_yx
`5 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
2.Z#\6Vj 
d}O\:\}y o<5`uV!f 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
|Y Lja87 
HVa D dy+A$)gY< 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
N k@-yZ@,8 
>T;!Z 5L1 5ih>x3S1/ 单击Next_Apply即可。
-Y524
`i.f m1I ] @A6iY 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
n> )aw4 
}36A eJ7L qeM DC#N 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
K 1X-<5]{ 
fDDpR= 3m& r?xZs 单击OK.再Load新建的目标，
`]65&hWZL 
o<A-E Tx< WzFX F{( 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
]0'cdC 
O` CZwXD rL\}>VC) 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
/$%&fo\[ 
3F"vK 
