光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
tdF9NFMD x5Z-{" 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
# DjCzz\ A, PlvI 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
Y=
7%+WyD (LtkA|: 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
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9 F^;! ,b$2= JO'f 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
|Cdvfk 
P=5NKg
YOAn4]j 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
Sc]P<F7N] 
!tHt,eJy Q#Y k?Kv~ 单击Next_Apply即可。
v[lnw} =m9 
Q8MS ,7y/ XTDE53Js& 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
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{F I\~ q Y?#i{ixX6n 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
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?R5'#|EyX C#w]4 $/ 单击OK.再Load新建的目标，
G] Jz"xH# 
kHJ 96G ap}5ElMR 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
F8+e,x 
o/,NG U * \HRw +cL 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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