光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 WcZck{ehd
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) :J~sz)n4
#57D10 j
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 0hoi=W6AQ
$9Pscu bM4
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： |x$2- RUP
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m0 [JiwPI
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： d"~-D;
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}MCJ$=5
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 :}{,u6\
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K'u66%wAL
单击Next_Apply即可。 /gUD!@
z]33_[G1U
9%6W_ 0>
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 I] vCra
Jo Ih2P D
Y2 QX9RN
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） j _p|>f<}
}Gi4`Es
5 4vDP 9
单击OK.再Load新建的目标， T(4OPiKu
4pG!m&4]ze
p6|RV(?8
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 o@ j)clf
YIZ+BVa
C[IY9s:Pf
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 ]aqg{XdGt
ML-?#jNa<
