光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
 ,( ?q   @TTB$  参数为:500-600nm AR  QWM@500,   12L     基底:GLASS(1.52) 
  &1:_+   H]XY  层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
 ygA~d9"   9ne13qVm+  设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
 ?k*%r;e>    k{ru<cf   $%3"@$
  k{ru<cf   $%3"@$   单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
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E#2a    [1\k'5rp    3wQUNv0z
  [1\k'5rp    3wQUNv0z  图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
 S3G9/    A=z+@b6    Rz Os,
 A=z+@b6    Rz Os,  单击Next_Apply即可。
 *h `P+_Q7    i#lnSJ08   =y$|2(6
 i#lnSJ08   =y$|2(6  于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
 C " W,    D[NJ{E.{   d*e0/#s
  	D[NJ{E.{   d*e0/#s  网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
 vl"l    4w\@D>@}H   ey~5DY7
  4w\@D>@}H   ey~5DY7  单击OK.再Load新建的目标,
 w'/Mn+    oVK3=m@{   xDU{I0M
  oVK3=m@{   xDU{I0M  其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
 8{t^<	j$n    sr=~Uq{g   <;R}dlBASW
  sr=~Uq{g   <;R}dlBASW  优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
 :?*|D p1    d=q&%gqN
 d=q&%gqN   