光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
<B @NSj $Sc _E:`] 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
tSy 9v bQD8#Ml1 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
.!q_jl%U "DN,1Q
lCp 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
st iF`l 
hp f0fU c5p,~z_Dtu 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
H&-3`< 
e5mu- y\v#qFVOZ 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
si&du 
=A !oLe$ % A%#M#hD/ 单击Next_Apply即可。
<zCWLj3 
%P }H3;2 ~q`f@I 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
^cZ< .d2 
")KqPD6k V
u")%(ix 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
s.4+5rE 
hh4R ?22U0U F 单击OK.再Load新建的目标，
cr;:5D%_ 
ILr=< j /mwUDf 6x 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
k'r} @-X 
{ <Gyjq =%8 yEb*5# 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
0SvPr [ > 
1v &!%9 
