光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
L+lX $k M
9 N'Hk= 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
) >N=B 2P Z ? ATWCa 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
(rQ)0g@ >ktekO:H 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
z3M6<.K 
g(R!M0hdF [7l5p( = 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
k;<F33v;Mh 
lr[&*v?h A{wk$`vH 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
WV;[v g] 
{~V_6wY g [9Hrpo]tU: 单击Next_Apply即可。
;I>77gi`] 
jF{)2|5 P u }PE-b 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
} 7i}dyQv} 
s5ILl wr 3V/f-l] X/ 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
"R[6Q ^vw 
f|,2u5
;z f.RwV+lq 单击OK.再Load新建的目标，
scZ'/(b-E 
`nL^]i uvA 2`%T/ 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
*jl_,0g] 
Q [bIkvr| [ZETyM` 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
~{D:vj4> 
_m1WY7 
