光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
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&|*| 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
3W0:0I d<e.`dhc 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
&T}e9 3 ] FgaBw d^W 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
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0[Aa2H* iOxygs#p 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
>?<d}9X 
z0Hh8* aH~"hB^e 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
; oE4, 
U"Oq85vY cKAl 0_[f" 单击Next_Apply即可。
p { 3|W< 
XzsK^E0R XwMC/]lK< 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
|{Q,,<C 
*^ BE1- )=@ XF0 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
0g\&3EvD 
>sq9c/}X ]W,g>91m 单击OK.再Load新建的目标，
H++rwVwj#h 
ok'1 uv!/DX# 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
!$HW UxM;p 
MiRB*eA #S)*MT4ke 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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