光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 By9/tB
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参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 7^F?key?
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). OsXQWSkj~
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设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: R)=<q]Ms
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单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: yT4|eHl
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图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 y[cAU:P?
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单击Next_Apply即可。 z!%}0
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于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 '&Ku Ba
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网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) 5>HI/QG
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单击OK.再Load新建的目标, Z+?j8(:n
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其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 }7V/(K
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优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 __QTlj
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