光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
BuCU_/H Q.*qU,4); 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
gLa#y @F]6[ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
VLQDktj& 3;zJ\a.+ 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
-v'7;L0K +ByxhSIr s4<[f%^ 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
ID
&Iz `Rub"zM B.-5$4*s 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
:DXkAb2 ^o+2:G5z} \bw71( Q 单击Next_Apply即可。
S7N3L." : ~"^st_[! IHZ WNT2 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
nyWA(%N1 &?IOrHSv! DmEmv/N= 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
Oh9wBV 4(o: #9I }@J&yrqg 单击OK.再Load新建的目标,
z'=*pIY5f ywXerz7dUk S5*wUd*p# 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
B$1nq#@ <"{Lv)4 []/=!?5B 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
R/R[r> 1)6 Z#BwJHh