光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
@ B[V'| %URyGS]* 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
2{%BQq>C
#8(@a
Y 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
3j3AI 7c [m 4<j 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
`Ffn:=Do 
QTDI^ZeuF $`riB$v 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
]02V,'x 
/f2*J 1b't"i M 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
]_ _M* 
6Y=$7%z 4~
iKo 单击Next_Apply即可。
i\3`?d 
Lkb?,j5 `yf#(YP 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
{:" bX~<^ 
LsmC/+7r$1 YlYTH_L>E 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
Nc7YMxk' H 
^,rbA>/L U_!6pqFc 单击OK.再Load新建的目标，
w</kGK[O 
\:Nbl<9(9 .|rpj&>g 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
ge E7<"m % 
^
sz4rk Bkcs4 x 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
uYs+ x X_ 
f6z[k_lLN 
