光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:评估设计曲线
#C*8X+._y k,Qskd-N] 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
ks;%*d O;Y:uHf 参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
KLQTKMNv bF}V4"d,B3 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
q~K(]Ya/ 9 t
n!t Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK.
iX{G]< n B#%;Qc 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口:
AN:@fZ 2
+5e0/_V Mn: /1eY 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称,
-C7]qbT
} C.MoKa3 cp
Ear 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
S*)1|~pRvQ HG>j5 ,"}Rg1\4t 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。
Rs& @4_D `'_m\uo _>o-UBb4]T 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500:
o/cjXun* a@d=>CT$ ITuq/qts]A 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图:
CDy^UQb [t]X/O3< R!
s6% :Yg 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口
#Sg\q8(O Z^KA {1J&xoV" 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots ,
}*U[>Z-eO eEc4bVQa AF\T\mtvRm 在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:
6"j_iB ?z-}>$I; v]:=K-1n 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。
*y[PNqyd >:sUL<p qUF'{K 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图:
SJ'
%
^ Ac k}QzXO hm$X]H`uMX 保存:Data_Save Design。