光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
}i8y/CA vxZ' -&;t 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
&x1A {j_ p-i Fe\+ 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
jC'h54 ,Mr un 5r9 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
hP) Zm%@0f 5REFz Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
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!Z{I 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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Dz0D ^(;V o ks;G([ 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
[`@M!G. 
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dA y w : 6Nb,Hh~ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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~3.*b% , RvAgv[8 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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Q` &#u# 4;A F\De 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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xS 1|t}; )Jjp^U3Ub 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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` Ta p0V @/:4beh 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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K80f_ iT 5 zu1"`K3b 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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R$awo/'^ /F;2wT; 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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\}Am]Y/ w HF*0 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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sm`c9[E 4MPy}yT * 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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\oWpyT _ !K( 保存：Data_Save Design。
