[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 H+5N+AKb@  
/;1h-Rc>  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: C'z}jM`g  
_K>YB>W}7  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) ]\%u9,b%!  
vB/G#\Zqz  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). >x1?t  
w
tro'r3  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. dBp)6ok#c  
z`@|v~i0`  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： "\Nn,3qp  
}W"/h)q  
&14Er,K  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， 3hzKd_  
&p^8zEs  
TqXB2`
7Ri  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK Oc?]L&ap  
+,ZQ( ZW  
>BlF< d`X  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 4T:@W C  
|lf,3/*jDB  
u"1Zv!  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 64-;| k4F  
+dSO?Y]  
4] I7t  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： %:]ive]e  
nx'D&,VX  
kC-OZVoO  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 (E?X@d iu  
PzDekyl  
?r-W , n  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， Tf?|*P  
UgZuEfEGve  
<%]i7&8|  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ]eZrb%B.  
UB1/0o  
Vu_QwWXO  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 Qc]Ki3ls  
BO)Q$*G~JD  
m'.y,@^B  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： J PK
(S~  
iqPMCOPZ  
"_ i:  
保存：Data_Save Design。