光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
`3+ i.wR g52a
vG 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
% MHb -=ZL(r
1 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
~^m Uu`@r xn P!P2 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
'Y L [s 8H!QekQZ]\ Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
9j,g&G.K ]?Ef0?4 4 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
}Z!D?( 
TktH28tK K+B978XD 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
UiFH*H T 
/R) wM#& ^kez]> 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
FfoOJzf ~o 
G95,J/ w +# W94s~0V 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
6
63o 
(Fv
tL* rO1!h%&o" 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
Ut Z,q!sg 
%`Re {%1; {28| LwmL 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
4= zs& 
zw0w. "V
%b W_,b 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
xP;r3u
s 
X#B b?Pv MmuT~d/ 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
wX$:NO O 
@-N` W9 *b~6 B M$ 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
GD
W@/oQr 
x%{]'z bDI%}k9# 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
7N.b- }$( 
1>!LK_ G0cG%sIl 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
0XHQ 5+"8 
.n-#A $vO&C6m$ 保存：Data_Save Design。
