光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
6%1o<{(%f brot&S2P>< 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
63$m& ]x ! .}{
f;Ls 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
Z_+No :F7I ywte \} 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
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d5 ~'2 (DAJ( r~ Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
,BAF?} 04= Bk <P~-I 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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t,nB`g? UlytxWkUX 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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W -&5
v l0) uu4| 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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K(S/D(\
FL K4~O x 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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Q8i6kf! 2=EKAg=S 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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W9"I++~f v(~m!8!TI 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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4uA^/]ygo g (k|"g`* 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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-&}E:zoe
M='Kjc>e 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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pkx>6(Y zdE^v{}| 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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/jD' o> ej+!|97M 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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J7xmf,76w HenJlo 保存：Data_Save Design。
