光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
*K_8=TIA* >k`qPpf& 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
4G I3|{ ox`Zs2-a 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
!;8Y?c-D tn Ufi8\ob 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
}Fu1Y@M% 6bUP]^d Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
@ "NP`# |U 1 [R\X 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
[ - 92] 
?XdvZf $ @~s5 { 4 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
AJ>E\DK0] 
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I HVU VD& wO 'U 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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Pn<_L )jl@ hnA 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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~ ' 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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"rM\ Q 1@{ov!YB] 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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VRY(@# q 3<<wH K;) 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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B!J?,SB }iDRlE, 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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){P`-ZF 5 P<1I7d 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
MF.!D;s 
E h;Ia6} XGR63 hXND 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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@ F(er I`XOv SO 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
yB7si(,1> 
eD7\ ,}O ESoqmCJjb: 保存：Data_Save Design。
