[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 _A0avMD}  
jc.Uh9Kc  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: -`1L[-<d=/  
OL+40J  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) @<{#v.T  
TVh7h`Eg  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). @V CQ4X7T  
/ {bK*A!  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. X#C7r@H  
SPm5tU  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： hl~F1"q)  
YU"\Wd[  
|(8h:g  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， "TNUw&ih  
`r bqYU0  
>~8Df61o`  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK y:Ab5/bHy  
vF\zZ<R/  
j`pR;XL1[  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 %QZ!Tb  
c|a|z}(/J  
oD2;Tdk  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： JF=ABJ=  
l[0P*(I,  
8"rX;5 vP  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： 7VBw@Rh  
HcUz2Rm5XP  
6242qb  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 c324@o^V  
*F&&rsb  
a<36`#N  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， V1U[p3J-S  
p&M'DMj+  
zUu>kJZ  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： pU'sADC  
+# >%bq x  
^*W<$A_  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 1/BMs0 =  
PTZ1oD  
*[YN|  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： K9Fnb6J$u  
@zq{#7%z  
&4
FdA|9T  
保存：Data_Save Design。