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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 2oXsPrtZ  
    "diF$Lj  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: e4b`C>>  
    WogJ~N,d53  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) WNrgqyM  
     \U(qv(T  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). :;cKns0OA  
    "EQ`Q=8  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. p[4KN(PyK  
    R+Dx#Wn I  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: /csj(8^w  
    -%E+Yl{v  
    &#;vR 0O  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, OIGu`%~js  
    ry\Nm[SQ  
    ;+'x_'a  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK gtHWd;1&f  
    12U1DEd>-  
    z|^:1ov,  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 \HF|&@}hU  
    }xcA`w3u2?  
    F.i*'x0u  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: `wj<d>m  
    {'C PLJ{R  
    Azv j(j  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: rz+)z:u  
    ~~!iDF\  
    .|^L\L(!  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 (S$ziV  
    vnwS &;-k~  
    48vKUAzx`  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , u&z5)iU  
    btoye \ rl  
    FpN>T  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: -L%tiz`_  
    Z`y%#B6x.  
    A:Pp;9wl  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 }G}2Y (  
    d#xi_L!  
    .`*h2  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: C ioM!D  
    -X BD WV  
    =$xxkc.~G  
    保存:Data_Save Design。
     
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