光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
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_ <?p& 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
h"ATRr^ ) JA^FQ5N 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
T $o;PJc n,b6|Y0 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
=5 $BR<' f/^T:F6 Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
i [2bz+Z? P,K^ oz} 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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7_ 5-gt D xHuw ?4 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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8} |!p> n6#z{,W<3 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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G8Zl[8 E.^F:$2 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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C=P}@| K $`"$ZI6[ 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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LOe l6Ui ~ {{@m]P 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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O+ J0X*&x W-4R;!42 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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j.SE'a_ 3u1\zse 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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WTu1t] y6 gaoj 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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r .v.y[u 3F {R$M} 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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a]0hB: F)=*G a 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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Poxoc-s (kSb74*g 保存：Data_Save Design。
