[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 Z9MU%*N  
J10/pS  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: sc-+?i  
#3>jgluM'  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) wk?i\vm  
|d\1xTBLp  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). A]%*ye"NT  
`)8SIx  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. s{c|J#s  
mxH63$R  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： Rc93Fb-Zp  
#xR=U"  
mDt!b6N/  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， =^zGn+@z  
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>,0  
Z6So5r%wZ  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK CZ^ ,bad  
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B$OV^iwxK  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 <v\$r2C*  
0}` -<(  
/Aw@26  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： dBM{]@bZ  
<Pf4[q&wM  
# dUi['  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： r|z B?9Q  
0e:j=kd)NH  
I~HA ad,k  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 E
&"V~  
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C!1)3w|  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， Y~r)WV!G  
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8+re;  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： |rgPHRX^Hn  
N3)n**  
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ZMHIW  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 fG8^|:  
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}QCn>LXE  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： g&_f%hx?  
N]ebKe  
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*   
保存：Data_Save Design。