光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:评估设计曲线
@G/':N P1PP#>E-2 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
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@l+
n^ xP@VK!sc 参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
*%0f^~!G<p Bx(+uNQ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
)9,*s!)9 dhW; | Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK.
] o!#]] wu*WA;FnA 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口:
3t(8uG<rL
5io7!% 0Sz&Oguv 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称,
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a2 h]Zc&&+8{ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
;qI5GQ {
'-jKv=D+ h;vD"!gP 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。
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d}f| HOFq nsyg>=j 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500:
MDkIaz\U
CvpqQ7&k7 lY}mrb 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图:
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=q|fe%# =#XsY,r 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口
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";~}"Yz?[ }iy`Ko+B"b 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots ,
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)O@ ; 在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:
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Q:+Y-&||" 3&*0n^g 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。
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8Gb=aF1 0:G@a&Lr 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图:
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?xf59mY7 | -Di/. 保存:Data_Save Design。