光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
G!<-9HA5 g PJZpaS 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
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ARW! !_i;6UVG 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
ja2BK\"1: Ea<kc[Q 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
ny l[d|pVa vRI0fDu Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
]K0G!T R < v?O6|0#x 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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O yG# HI\V29
a 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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a[ Y\5Ojm 9]4 W 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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HSG7jC'_ /: GeXDJw 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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Ne b") 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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) <K3Fz
Bs &P:2`\' 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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8 ?4/ h an S8 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
T*1 `MIkv 
>c30k pGg C j5=UUnO 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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[}Z!hq @Wl2E.)K; 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
{8e4TD9E0 
w Qw&.)T H[J5A2b 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
[kKg?I$D@B 
f+V^q 4 "QLp%B,A 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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q]rqFP0C IfzW%UL 保存：Data_Save Design。
