[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 5NhAb$q2Y  
rBi6AM/  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 5.DmMG[T^=  
2.]d~\  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 06Q9X!xD  
UZmo?&y  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). j5A>aj  
:Nwv&+  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. IKaW],sr#  
-$_FKny  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： aof'shS8  
N9s.nu  
eu~ u-}.  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， ;PnN$g]Q  
=sefT@<  
:SWrx MT
 
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ~b0l?P*Ff  
vK+!m~kDu  
}2:q#}"  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 4\k{E-x $  
aQf2}kD  
9I$}=&"  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： _a|g >  
?L H[,8z  
!VsdKG)  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： >[wB|V5  
<|]i3_Z  
XD|Xd|/ {  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 q/Ji}NGm  
~D`R"vzw=  
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可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， %s
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GoH.0eQ^  
.Cs'@[Ciy  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： _qpIdQBo  
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|1/8m/2Af.  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 qs= i+  
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"u&7Y:)^wr  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： x\yr~$}(J  
%cDDu$9;  
+2}Ar<elP  
保存：Data_Save Design。