光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
)f#@`lf[< bu"Jb4_a> 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
}i_[wq{E& ~D@p k>I 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
F= : 4$Ex2 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
U@[P.y~J u E:#m.Q Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
;@K,>$ur- {y0*cC 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
#I9 |>XE1 
AG) N^yd $I_ 04k#t 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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Vja' :i E*Vx^k$ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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+AyQ4Q(-o a AYO(;3 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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~ 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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)<4o"R:* ;nj 'C1 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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'*_rh>+ 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
,: w~- 
;3\F b 3d &dvJg 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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u]E% R& G% ycA m 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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`]]gD EPG{ P,h@F+OZN 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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5:|5NX[.b v Xio 1hu 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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: ` F>B EBzg<-?o 保存：Data_Save Design。
