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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 @G/':N   
    P1P P#>E-2  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: pB @l+ n^  
    xP@VK!sc  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) *%0f^~!G<p  
    B x(+uNQ  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). )9,*s !)9  
    dhW;|  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. ] o!#]]   
    wu*WA;FnA  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: 3t(8uG<rL  
    5io7!%  
    0Sz&Oguv  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, ;O YwZ  
    ~ "l a2  
    h]Zc&&+8{  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ;qI5GQ {  
    '-jKv=D+  
    h;vD"!gP  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 Xco$ yF%  
    d}f| HOFq  
    nsyg>=j  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: MDkIaz\U  
    CvpqQ7&k7  
    lY}mrb  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: >l$vu-k)~4  
    =q|fe%#  
    =#XsY,r  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 3 )f=Z2U>  
    ";~}"Yz?[  
    }iy`Ko+B"b  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , .}fc*2.'  
    VmQ7M4j*  
    - Pz )O@ ;  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: AK<ZP?0  
    Q:+Y-&||"  
    3&*0n^g  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 Y51XpcXQ  
    8Gb=aF1  
    0:G@a&Lr  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: 98C~%+  
    ?xf59mY7  
    | -Di/.  
    保存:Data_Save Design。
     
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