光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:评估设计曲线
 2oXsPrtZ   "diF$Lj  例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
 e4b`C>>   WogJ~N,d53  参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 
 WNrgqyM   
\U(qv(T  层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
 :;cKns0OA   "EQ`Q=8  Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK.
 p[4KN(PyK   R+Dx#Wn	I  打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: 
 /csj(8^w    -%E+Yl{v   ;vR0O
  -%E+Yl{v   ;vR0O  单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称,
 OIGu`%~js    ry\Nm[SQ   ;+'x_'a
 ry\Nm[SQ   ;+'x_'a  单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
 gtHWd;1&f    12U1DEd>-   z|^:1ov,
 12U1DEd>-   z|^:1ov,  然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。
 \HF|&@}hU    }xcA`w3u2?   F.i*'x0u
 }xcA`w3u2?   F.i*'x0u  同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500:
 `wj<d>m    {'C PLJ{R   Azvj(j
  {'C PLJ{R   Azvj(j  单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图:
 rz+)z:u    ~~!iDF\   .|^L\L(!
  ~~!iDF\   .|^L\L(!  在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口
 (S$ziV   vnwS&;-k~   48vKUAzx`
  vnwS&;-k~   48vKUAzx`  可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots ,
 u&z5)iU    btoye \rl   FpN >T
  btoye \rl   FpN >T  在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:
 -L%tiz`_    Z`y%#B6x.   A:Pp;9wl
  Z`y%#B6x.   A:Pp;9wl  上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。
 }G}2Y (    d#xi_L!   .`*h2
 d#xi_L!   .`*h2  单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图:
 C	ioM!D    -XBD	WV   =$xxkc.~G
 	-XBD	WV   =$xxkc.~G  保存:Data_Save Design。