光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
EEmYfP[3 j4>1a 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
~p^&` FA #]pFE.o 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
uc4#giCD WVl yR\. 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
uQgv ;jsPz H$Om{r1j Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
|%.V{vgP7 ,;9byb 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
~ {OBRC 
FY h+G-Y# q ELy'\ 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
BMMWP 
CU'$JF < ]#'6' 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
G\4h4% a 
>DqV^%2l uaN0X" 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
H|& [,&M> 
x`/"1]Nf ,x#5 .Koz 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
\UZlFE 
R]hilb'a #5*|/LD 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
co^kP##Y 
CYD&#+o uM| *y-4 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
J eCKnt= 
CtiTXDc_ hJ[Z~PC\T0 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
6S*L[zBnA\ 
>;I$& 3Q'Q %2 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
Hxe!68{aR 
(Q~ p"Ch I6!~(ND7 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
+zM WIG 
im Gg3' h8# 14 ? 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
JRfG]u6GU 
Xtv^q> ! X.^S@3[ 保存：Data_Save Design。
