[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 Hhk`yX c_  
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: toPFkc6`  
!T:7xEr  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) =?+w5oI0  
Ah@e9`_r  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). U&Atgv  
B=^M& {  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. F !OD*]  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： )G, S7A  
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i?@7>Ca  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， NJd4( P  
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P*N(m<  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK nSQ]qH&4d  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 +lFBH(o]X  
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0LzS #J+  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： DoO ;VF  
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单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： gN(kRhp  
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在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 5?Q5cD2]\6  
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可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， nZL!}3@<  
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在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： Lp}V 94xT  
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上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 ouoIbA9X  
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8  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 7TypzgXNe  
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保存：Data_Save Design。