[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 ]O:u9If  
+MHIZI  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: *GYLj
[  
Muq~p~m}  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) ~Fo2MwE2~  
f uU"  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). pRlScD_};  
wbr$w>n  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 9a@S^B>  
nF]E":  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： f'"PQr^9  
yz,_\{}  
"x]
7et,  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， 6yUThv.G#  
W,,3@:  
$s ,g&7*-  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK 0FL'8!e<  
%L)QTv/  
~x4]p|)</  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 wPYeKOh'  
6)=;cc{Vr  
h5@7@w%
 
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： _7u&.l<;  
nfZe"|d  
b^<7a&  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： +-TEB  
!"/"Mqs3$  
RWu< dY#ym  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 )#4(4 @R h  
jp}.W  
xh<{
lZ)KJ  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， wZCboQ,  
OhaoLmA}6  
HnFH|H<Uf  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： h7.jWJTo  
/_expSPHl  
(I;81h`1G  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 I5[@C<b  
@@R&OR  
sm[zE/2b  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： txMC^-J2l  
=d~pr:.F  
dKXzFyW  
保存：Data_Save Design。