光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
p=Y>i 'CG `s"d]/85VW 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
V'pqxjfd asVX8 2< 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
j}f [W [2 5M F#&v 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
,SUT~oETP ZVih =Y-w Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
Y@uh[ aS! Kct@87z 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
H:Qhr L+7_ 
O
)d[8jw" F wG! > 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
6RoAl$}' 
j:,9%tg /7"I#U^u/ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
-c *\o3) 
Z Zxk]D< =9wy/c$ 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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`A@w7J' BuOgOYh9 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
6.WceWBR 
viX
+|A4gJ P8Qyhc 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
K > g[ k _ 
]?+{aS-]?k 3gEMRy*+ 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
nz]&a1"& 
ac{?+]8} #5} wuj%5 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
L gk 
T{v>-xBRy Xf[kI 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
\ 0W!4D
dT"hNHaf > L2HE T 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
Q\ppfc{, 
+V b8f["+- L{-LX= G^ 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
saf&dd 
GL Mm( zi9[)YqxPH 保存：Data_Save Design。
