光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
lh"*$.j - ZzupK^5Z 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
r niM[7K 3*=0`}jMJ 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
rjK`t_(= K$M+"#./ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
_i+@HXR & s b;q)Rh Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
V9v20iX A'KH_]) 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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gk% @& TB/ 1Q > nS[ 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
GcdJf/k 
~.%HZzR6& =otO@22Np 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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~x9 ]?T a9.yuSzL 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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]h,rgO ; aE`d[d SG 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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I8 v 
zOs}v{8" "ntP92 8 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
Jo\P,-\( 
LWF,w7v[L f_jhQ..g<g 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
cl%+m 
m [B#k$ jb.H[n,\ 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
K p`{-dUf 
Db,"Gl QJVbt 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
-r={P _E6 
T+<.KvO- "B_3<RSL 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
[k6I#v<& 
y?<K N0j gw]%:
WeH 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
-fq 
#J"xByQKK 0X=F(, >9 保存：Data_Save Design。
