光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
R?k1)n P`0aU3pl 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
4Y'qo M; x<].mx 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
8G=4{,(A @eul~%B{X 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
Sc(2c.HO* '
x|B' Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
VrDv d h$3Y,-4 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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[ 69aTl>/ Y,9("'bo 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
> 2$M~to"1 
CU oMB r w% M 0Mu 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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($-o"y"x }9'rTLM 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
<[*s%9)'9 
i/->g:47P nWh?zf#{ 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
* fx<>aK 
WW&0FugY_ E: %%Dm 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
s)> ]'ii 
edch'H^2+P =,s MOJ c> 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
FT= w`NE,+ 
mZORV3bN \Ew2@dF{O 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
,}bC 
.DT1Jvl z E{.oi 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
]wP)!UZ 
sI`Lsd'V b2 z~C{l 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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DSN 
YoXXelO&
4bmpMF- 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
z\v\T|C 
%H:!/'45 X)Kd'6zg 保存：Data_Save Design。
