光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
,_rarU)[J Q77qrx3 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
p w>A Q ?%Y?z ] L# 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
? |8&!F `8FC&%X_ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
)SA$hwR 8.pz?{**T Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
9 ^a>U(, Sa,N1r 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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V2 VsJ 8@h zw~> 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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2zFdKs, ]nX.zE|F 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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"rX=G= 3]N}k|lb% 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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S_bay8L1 W$'pUhq\H 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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0[v :^H N7oMtlvL[w 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
?G? = ,tV 
p,tB J`RNik*> 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
,j_{IL690 
#Ejly2C, vhL&az 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
5)n v 
Mxd fuFss \B}W(^\wg; 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
(Wx)YI 
h5f>'l z @\"*Z&]8z0 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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ESo mw :.35pp,0 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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}TF<C !] /vPb 保存：Data_Save Design。
