光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
i(2y:U3[@ <c,~aq#W' 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
i}TwOy<4s ] *%+H|l 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
Em13dem t~K%.|' 0 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
K.> wQA& ;n# %G^!H Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
a0Oe:]mo\ E@QA". 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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]Ql 0v"` F #y"=Cz=1u7 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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fW0$ s` ){Mu~ P 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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]]iO- } {^q)^<#JT 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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K4 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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eE:&qy ^ ,axDMMDI 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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;\ #ch 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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2P~)I)3V hCc0s Rp 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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H:oQ @Jv# fr 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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oNRG25 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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-Wjh* * ;El <%{( 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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# 保存：Data_Save Design。
