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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 KF-n_:Bd+  
    A$ s4Q0Mf  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: "_9Dau$  
    :V8 \^  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) oas}8A)  
    c$>Tfa'H  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). BaqRAO7  
    ~ZT(@w  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. Z:5e:M  
    y_QK _R<f  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: hv8V=Z'Q  
    lLl^2[4k5  
    `N$<]i]s5  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, &_G^=Nc,H  
    @=:( b"Sg  
    -FdhV%5]  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK <w<&,xM  
    ?bW|~<X~  
    S}mqK|!  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 Wu?4oF  
    F^z&s]^~  
    yMB*/vs  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: ?u/RQ 1  
    a;8q7nC  
    { LZ` _1D  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: %9C_p]P*  
    h`;w/+/Zr  
    :VGvL"Kro  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 ===M/}r  
    tUaDwIu#  
    C5"=%v[gQv  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , __O@w.  
    j]~;|V5Z  
    +`'=K ;{U  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: > yk2  
    P+K< /i  
    RzgA;ZC'  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 HtFc+%=  
    c%tb6@C  
    :rR)rj'  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: )"KKBil0  
    Pr|BhX  
    JiH^N!  
    保存:Data_Save Design。
     
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