光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
&HW9Jn +R &g qja 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
vt8By@]: Tx D#9]Q` 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
w}KkvP^ JI}'dU>*U: 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
}j%5t ~Qa [6fQ7uFMM8 Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
UVP vOtZj N[' .BN 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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[~HN<>L@C si I;" ? 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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*pq\MiD/ nUO0Ce 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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^sw?gH* [WmM6UEVS 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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#mF" 1 QW b=vkiO`2 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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UNYqft4 &ncvGDGi 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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@]j1:PN-
{ FkF 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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:X=hQ:>P 'DR!9De 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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uT"rq:N 7! N s m 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
R&&4y 7 
V! Uc( M]^5 s;y 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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L0,'mS ?< +WG/(d 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
[JiH\+XLPs 
-RwE% cr \e*]Ls#jS 保存：Data_Save Design。
