光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
WGx>{'LJ AlxS?f2w 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
(I.`bR xW4+)F5P( 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
> xKRU 5 Y c k bc6F 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
~=ktFuEa U;@jl?jnG Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
"-?Y UY` *% *^a\2 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
/f<(K-o] 
m5X=P5U =;=V4nKN 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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?g4|EV-56 I >#ChV)(# 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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rg}kx vu %#a%Lu q 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
AUde_ 1hi 
NN'<-0~ UD`Z;F 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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T}[vfIJD 5I,X#}K[ 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
oZ[ w 
/ nF w A5ID I<a 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
L? +|%[ 
o7XRa] O yZ$;O0f&& 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
CD[=z)<z{ 
YO0x68 |l(lrJ{ 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
h_yR$H&tX 
t| QMS M?s
(Nb1R"J ` 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
U&$]?3? 
E}/|Lja [frD
L) 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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<h 51KPo^P M&c1iK\E8 保存：Data_Save Design。
