Dear各位大大................. l/BLUl~z
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我在做led模擬,目前遇到些瓶頸,請各位大大為我解答一下....... CEXyrs<
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以下是我的模擬資料,其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........ XOxr?NPQ^
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1.LED Chip:由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ w<C#Bka
m;p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 ?f#y1m
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2.基板:Sapphire substrate (藍寶石基板),Index=1.7。 uG?_< mun
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3.材料:GaN (氮化鎵),Index=2.4。 bsuus
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4.光源:p-n junction上下面各1 流明,共2流明。 6S\C}U/
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5.光束:p-n junction上下面各1000 rays,共2000 rays。 UUSq$~Ct
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6.監視面:10mm*10mm之正方面。 6^%UU
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7.距離:LED Chip與監視面之間距離為15mm。 ML:Q5 ^`
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8.模擬光源假設條件: 7bqBk,`9
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(1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收,無反射現象,上部無任何設定,下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 wkP#Z"A0~
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(2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收,無反射現象,上部與下部無任何設定。 t/ +=|*
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9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7,設定為不發光,其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm,但我做研究的結果,其厚度改變,但結果卻是不變,也就是說光強度並未改變,我有設important sampling,target center z為15.003,如果薄膜厚度改變,其光強度不變的話,與光學原理不符,請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? '=[?~0(B