切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 406阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6850
    光币
    28400
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 0g#xQzE  
    o4agaA3k  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 U/_hH*N"!  
    p =-~qBw  
    8Y:x+v5  
    场景 5=8t<v1Bn  
    lNTbd"}$:  
     g8@F/$HY  
    DVDzYR**4  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 )"7z'ar  
    gMp' S  
    系统构建块     T wzpq1  
    D  ,[yx='  
     9_ZGb"(Lj  
    pF(6M3>IN  
    组件求解器 B>@l(e)b  
     GInw7  
    5Vai0Qfcu:  
    _(I)C`8m  
    ls~9qkAyLx  
    eHR]qy 0_X  
    系统构建块 dnh~An 9  
    9SJSUv:@  
     =ADOf_n}  
    YOUB%N9+  
    总结 G,<l}(tEG  
    :zNNtv iA  
    M27H{} v  
    2\;/mQI2A  
    几何光学仿真 /y6I I$AvM  
    通过光线追迹 k|{ 4"4r  
     \xcf<y3_  
    结果：光线追迹 UcH#J &r  
    &gUa^5'#  
     y~su1wUp  
    &I%E8E  
    快速物理光学仿真 /)`]p1c1%w  
    通过场追迹 Et0)6^-v  
     cBv"d ~  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _"*s x-  
    PB!XApTb  
     vVrM[0*c  
    pMAP/..+2  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;8^(Z  
    \9uK^oS  
     B|,d  
    1 -C~C]&  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 OiS\tK?|GV  
    xGOVMo +  
    ),[@NK&=  
    ?~(#~3x  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 [J(b"c6  
    h=JW^\?\]  
     W/}_y8q  
    +\)Y,@cw  
    总结 5G$ ,2i(  
    E31Yk D.A  
    T7Y}v,+-  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表