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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 om?CFl  
    tYZGf xj  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 2j1v.%  
    7G/|e24  
    F*VMS  
    场景 X388Gs;e  
    4&hqeY3  
    ^]&{"!  
    E^a `IA  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 )OC[;>F7  
    K"j=_%{  
    系统构建块
    92VX5?Cyg  
    Gc z@ze  
    jMui+G(h  
    &xroms"S=  
    组件求解器 9Pk3}f)a  
    5dw@g4N %^  
    ZM`P~N1?)g  
    IA#*T`  
    h^kNM8  
    `)M\(_  
    系统构建块 %W',cu  
    zy6(S_j  
    9w;J7jgOT!  
    {JCz^0DV  
    总结 p6*a1^lU6  
    gzCMJ<3!D  
    $1zeY6O  
    np\2sa`  
    几何光学仿真 }"B? 8T@_~  
    通过光线追迹 2$zq (  
    iv z?-X4]  
    结果:光线追迹 kJi&9  
    vq:OH H  
    L Yg$M@  
    A2:){`Mw  
    快速物理光学仿真 ]q[  
    通过场追迹 WfT)CIKs  
    4O_+4yS  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 e$+f~~K  
    fMEv85@JL  
    w[7.@%^[  
    _q$LrAT  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 DT"Zq  
    Z F yX@#B9  
    %^?3s5PXD  
    |5B,cB_  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 n vpPmc  
    |k .M+  
    1;kG[z=A  
    _O)2  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 K*U=;*p)  
    `Ivw`}L  
    LH/&\k  
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    总结 eIUuq&(  
    *- IlF]  
    AK s39U'  
     
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