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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 aXVFc5C\  
    ]5O~+Nf  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 W^Yxny  
    _!6jR5&r,  
    mw!F{pw  
    场景 txpgO1  
    >z03{=sAN  
    O^.#d  
    sB</DS  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 uH]OEz\H'  
    \RiP  
    系统构建块
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    #R"*c hLV  
    1^}+=~  
    S!UaH>Rh  
    组件求解器 h\o.&6sd  
    8Wx=p#_  
    WY/}1X9.%  
    .3;;;K9a~]  
    ]`K2 N  
    | (93gJ  
    系统构建块 Nc`L;CP  
     )2.Si#  
    tA;}h7/Lc~  
    cr3^6HB  
    总结 #a6iuO0I  
    QV!up^Zso  
    p2eGm-Erq  
    C_Dn{  
    几何光学仿真 d-qUtgqV86  
    通过光线追迹 _XBd3JN@  
    1#x0q:6  
    结果:光线追迹 oU8q o-J1H  
    { FkF  
    >6T8^Nt  
    Ac@VGT:9  
    快速物理光学仿真 ,bi^P>X  
    通过场追迹  R&&4y 7  
    6m93puY`7  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 # d  
    tw;}jh  
    9;{C IMg&  
    4Z*/WsCv  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 dV_G1'  
    9{l}bu/u  
    @JMiO^  
    vXs"Dst  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iS^QTuk3%  
    0mE 0 j  
    01]f2.5  
    ^8WRqQdx  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X ?O[r3<  
    XFl 6M~ c  
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    m O_af  
    总结 { 6il`>=C  
    x2xRBkRg=  
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