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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 E2*"~gL^,  
    Y0B*.H Ae  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。  (+]k{  
    Sw1]]-Es  
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    场景 h/TPd]  
    ^/n[5@6H  
    ex!^&7Q(  
    [ !R%yD;  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 NuO>zAu  
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    系统构建块
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    8]?1gDS|9O  
    Xi{(1o4%  
    f,L  
    组件求解器 Y|VzeJC  
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    R-Fi`#PG2  
    系统构建块 3N*Shzusbt  
    "tj#P  
    17i^|&J6}:  
    =h_gj >  
    总结 /3TorB~Y  
    F>b6fUtR  
    '9/kDkt!  
    twu6z5<!-=  
    几何光学仿真 &"kx (B  
    通过光线追迹 H);'\]_'x  
    ^r& {V"l]  
    结果:光线追迹 " }ZD)7K  
    B7PmG f)b  
    oPbD9  
    XP`kf]9  
    快速物理光学仿真 a2 rv4d=  
    通过场追迹 ZkIQ-;wx  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 zc1Zuco| R  
    sR 9F:  
    ^`!Daqk  
    PW`Tuj  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 W^N"y &  
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    $ B9=v  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 2bJFlxEU  
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    E nvs[YZe  
    !:t9{z{Ixg  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 jwq"B$ap  
    gCJ'wv)6|%  
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    总结 UH.cn|R  
    O$H150,Q  
    1;P\mff3Y  
     
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