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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 'MC) %N,  
    SUvHLOA  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 }*+ca>K  
    ;Hm\?n)a  
    t,RR\S  
    场景 vO"AJ`_  
    Be}Cj(C  
     O0~[]3Y[=  
    6i&WF<%D  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 cL`l1:j\}  
    h{>8W0W*  
    系统构建块     I-+D+DhRx  
    N!btj,vx  
     ~omX(kPzK  
    YJr@4!j*  
    组件求解器 Ba@UX(t  
    Q@l3XNH|c  
    "*TnkFTR  
    EP{y?+E2  
    "esV#%:#J  
    JqFFI:Q5a  
    系统构建块 KqB(W ,$  
    :a`l_RMU  
     Xf$,ra"  
    N!HiQ  
    总结 oBIKt S*L  
    79S=n,O  
    w' U;b  
    = "Dmfy7  
    几何光学仿真 Is%-r.i  
    通过光线追迹 Jd)|== yD  
      +/AW6  
    结果：光线追迹 1uS _]59=  
    !9V_U  
     P^.L0T5g  
    \}G/F!  
    快速物理光学仿真 "z7.i{  
    通过场追迹 yPuT%H&i  
     Vx?a&{3]-  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -_A0<A.  
    z`{Ld9W  
     ?l bK;Kv  
    E+[K?W5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 <BT}Tv9  
    MheP@ [w|@  
     [ tm J6^s  
    lZ E x0  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 h.G/HHz  
    Hz+edM UL  
    "4i(5|whp?  
    B ljZ&wZW  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 J Wof<D,  
    qfG`H#cA<  
     s_p?3bKu  
    X[|-F3o  
    总结 J`V7FlM  
    _f2(vWCW;J  
    (w)Qt/P^4  
     
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