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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 )X\.Xr-6q  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 D{.%Dr?  
    KN~E9oGs  
    $EviGZFAaR  
    场景 ACl:~7;  
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    z}C#+VhQ`  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 >o 3X)  
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    系统构建块
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     2WE   
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    组件求解器 (fh:q2E#  
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    系统构建块 f,M$>!$V  
    &%qD Som3  
    {K3\S 0L  
     TWx<)  
    总结 a2=wJhk  
    GetUCb%1  
    XN=<s;U  
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    几何光学仿真 7U.g4x|<  
    通过光线追迹 6^{ hY^Z  
    c_ygwO3.Q  
    结果:光线追迹 Mh+'f 93  
    #Z$6> Xt  
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    qZ\zsOnp  
    快速物理光学仿真 :-"J)^V  
    通过场追迹 mnmwO(.  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 g=U?{<8.m  
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    mH{cGu?  
    sM5 w~R>Y  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ?sS'T7r v  
    M\v4{\2l0  
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    [tD*\\IA  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 .k*2T<p$rC  
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    M;iaNL(  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 iT5H<uS  
    #[KwR\b{:+  
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    总结 8V|-BP5^  
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