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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 Qder8I  
    p"0#G&-  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 {!2K-7;  
    v2x+_K}J  
    .n7@$kq  
    场景 H'WYnhU&  
    QM(xMq  
    T_*inPf  
    D\Ez~.H  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 i9ySD  
    _^_3>}y5op  
    系统构建块
    ](JrEg$K  
     ] 2 `%i5  
    6:8s,a3&[k  
    =`+D/ W\[Y  
    组件求解器 _[[0rn$  
    ZxtO.U2  
    F(VVb(\jd  
    e|k]te  
    9 dNB _  
    *}]#E$  
    系统构建块 f#ZM 2!^!  
    qm=U<'b^  
    `NtW+v  
    5t%8y!s  
    总结 Ck/44Wfej  
    xKu#O H  
    Ey7zb#/<!  
    cX9o'e:C  
    几何光学仿真 /l<(i+0  
    通过光线追迹 =2$ ( tXL  
    icb)JZ1K  
    结果:光线追迹 z|Y54o3  
    ;a?<7LIx  
    CU|E-XPW  
    ]njNSn  
    快速物理光学仿真 CR$wzjP j  
    通过场追迹 "6d0j)YO  
    !H\;X`W|~D  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /phMrL=  
    J$6WUz:?  
    ,P9F*;Dj  
    4bk`i*-O  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *)RKU),3nL  
    [)V~U?  
    o}Grb/LJ  
    #e@NV4q  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _#V&rY&@  
    K9zr]7;th  
    e%e.|+  
    8-@@QZ\N  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !L.R"8!  
    U,!qNi}  
    b>ZAkz)U+  
    ;i[JCNiS\  
    总结 [~8U],?1  
    deAV:c  
    <}lah%4F  
     
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