摘要 $`xpn#lz k(f),_ 5|0}bv O 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
Eu|/pH=: U" @5R[=F- 设计任务 D(z#)oDr zBm~ J% CW;zviH5 连接建模技术:蛾眼结构 Q_T,=y <B%wq>4S \]Y<d 光栅阶数分析器 II^Rp],> h`Jc%6o '
!huU 元件内场分析器:FMM "'BDVxp'w h5{//0 y !fs ~ > 参数运行 D[W`
q#W s=$xnc}mf E[hSL#0 参数优化 M_O$]^I3w l>jrY1u padV|hF3(e 模拟结果 +R?E @S [,&g46x22 通过计算器进行参考测量 L^u|=9 :qS~"@ ?< bLTX_
R 结构内的场 +:m)BLA4l '"Cqq{* qY&(O`?m& H!NGY]z* 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 E.yFCaL %B&O+~ -/3h&g 初始解决方案 #1 的参数优化 nUY)LnI H94_a e <S_0=U 最终设计 #1 的性能分析 Q3r]T.].h /&?ei*z 初始解决方案 #2 的参数优化 x~l"'qsK \>T1&JT r<]^.]3zj 最终设计 #2 的性能分析 i Q3wi