摘要 %4Y/-xF}9, S#/[>Cb po}Jwx! 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
;sE;l7 I8d#AVF2 设计任务 9KN75<n ex
@e-< }oIA*:5 连接建模技术:蛾眼结构 ryy".'v -fI-d1@ vrXUS9i. 光栅阶数分析器 E?l_*[G Qr6[h! g""1f%U_p 元件内场分析器:FMM aze}koNE oyZ}JTl(Q byR|L:L 参数运行 YDE;mIW IGeXj%e ijOUv 6=- 参数优化 R*3x{DNL d[;S n:B h[b;_>7 模拟结果 &x
=}m hg_@Ui@[z 通过计算器进行参考测量 QCIH1\`jW 8<#X]I_eP+ ~Wp>tnl 结构内的场 $-H#M]Gq '!>LF1W= n@<+D`[.V AC;ja$A# 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 8x#SpDI >0z(+}]3z fA{[H:*}G 初始解决方案 #1 的参数优化 } QVREj _yw]Cacr\ l ?RsXC 最终设计 #1 的性能分析 dr#g[}l'H Z+!._uA 初始解决方案 #2 的参数优化 \yP\@cpY{ M}2a/}4 MwMv[];I 最终设计 #2 的性能分析 |giV<Sj