摘要 eyos6Qi )IKqO:@ ]G,BSttD 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
-#r= ~oRT@E 设计任务 (w
Q,($@ +ux`}L( -5@hU8B'a 连接建模技术:蛾眼结构 jOL=vG vQ>8>V B8>@q!G8P 光栅阶数分析器 fBKN?]BdN /pJr%}sc }*7Gq 元件内场分析器:FMM R xc jm[f|4\ Pxgal4{6 参数运行 8]WcW/1r ! c&"1Z/tR Sy^@v%P'A 参数优化 o}yA{<" a4",BDx "|/q4JN)7d 模拟结果 {T3wOi afjEN
y1 通过计算器进行参考测量 Iz&<rL;s 5?TX.h9B4 \# 1p 结构内的场
hAD gi^ #/)U0IR) B X O, iGNZC{ 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 /km0[M *7),v+ET h2
>a_0" 初始解决方案 #1 的参数优化 [V0%=q+ R +l<;?yk:; ^vTp.7o~5 最终设计 #1 的性能分析 6`5DR~ unyU|B 初始解决方案 #2 的参数优化 f_IsY+@ \$,8aRT>#U ;B;wU.Y" 最终设计 #2 的性能分析 Z;6?,5OSc