摘要 N#')Qz:P <;d?E%` */Oq$3QGsV 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
54kd>)|"ag UW+|1Bj_: 设计任务 eKlh }v )#9R()n! Q:\I
%o 连接建模技术:蛾眼结构 VJM n5v[V I=VPw5"E .y {qsL^P 光栅阶数分析器 %,rUN+vW ~_P,z? odPq<'V|AY 元件内场分析器:FMM L&F0^ oB:tio4DE Akf?BB3bC 参数运行 ~S)o(' D+/27# p]uwGWDI 参数优化 A-vK0l+ N5 SK_+ n83,MV?- 模拟结果 Bry\"V"'g *P&ZE 通过计算器进行参考测量 MoN;t; F{\MIuoy -E#!`~&V 结构内的场 f5+a6s9 +1Oi-$
2- U]lXw+& /i|T \ 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 NrVrR80Y I ;N)jj`b dV<|ztv 初始解决方案 #1 的参数优化 m98j`t +5Yc/Qp "q4c[dna 最终设计 #1 的性能分析 |:n4t6 4flyV - 初始解决方案 #2 的参数优化 s.]7c
CY pS
vDH- a?CV;9 最终设计 #2 的性能分析 w
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