摘要 aIGn9:\ =B5E0x IUhp;iH 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
9[>Lp9l' ]XrE 设计任务 =Nl5{qYz^& %{ ~>n"
*q"G } 连接建模技术:蛾眼结构 !Q[}s#g Oje|bxQ ,OBQv.D3>a 光栅阶数分析器 )|T`17- \j:gr>4 I#l;~a<9z 元件内场分析器:FMM h=f6~5l5 Z>{*ISvpq !d4HN.a7+u 参数运行 |(%AM*n ku3D?D:V oYq,u@oM 参数优化 ^_w*XV 'jbMTI 4 ?2g&B\ 模拟结果 7x+=7,BZd 'oi2Seq 通过计算器进行参考测量 OPJgIU% e 2*F;.) ~|=rwDBZ8l 结构内的场 8on[%Vk M7U:g} vU9~[I`^p D5[VK`4Z 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 AFtCqq#[ )=(n/vckM qj;l,Kua 初始解决方案 #1 的参数优化 1HXlHic 0Q*-g}wXfS u
S(@?m$ 最终设计 #1 的性能分析 P7Z<0Dt\} Z]e4pR6! 初始解决方案 #2 的参数优化 _s@bz|yqw 5^o3y.J?P 4d6%
t2 最终设计 #2 的性能分析 T"A^[r*