摘要 uQ_C<ii"W 'q:7PkN!p m0^ "fMV 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
<\$"U5"` Wm-$l 设计任务 -DHzBq=H #3_g8ni5X M.y!J
连接建模技术:蛾眼结构 b3>zdS]Q l+2NA4s Z|*#)<|~ 光栅阶数分析器 %+Nng<_U\T @R`6jS_gK g9^\QYh! 元件内场分析器:FMM 8k:^( kByF =C,DR4xh o[KZm17 参数运行 .up[wt gN (Ox&B+\v+v Pi5MFw'v 参数优化 ly34aD/p~, .F@Lx45 X(x,6cC 模拟结果 rz&V.,s 5>%^"f 通过计算器进行参考测量 Pf4zjc /dg?6XT/ V#$QKn`; 结构内的场 25`W"x_ dpS@: WG A&Lr {9Qc\Ij 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 bf.+Ewb( V*s\ ~h) jEQ_#KKYJ 初始解决方案 #1 的参数优化 f@ |[pT ejR$N!LL T2]8w1l&K 最终设计 #1 的性能分析 w{T$3F`@9 @BnK C&{ 初始解决方案 #2 的参数优化 Y1r'\@L w .{ILeG ~.^:?yCA 最终设计 #2 的性能分析 3O*iv{-&