摘要 +zaA,e?\ JGsx_V1t ifUGY[ L 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
^Eb.:}!D6 %S*{9hm/ 设计任务 zMm#Rhn QxVq^H Q@<S[Qh[. 连接建模技术:蛾眼结构 vY${;#~| $Q96,rb}k; >0ph9$ 光栅阶数分析器 D#il* QS` PpyBkd >*#1ZB_l 元件内场分析器:FMM 52 fA/sx aWWU4xe T92UeG 参数运行 #LL?IRH9^ Mc09ES %l}D. ml 参数优化
gX]-\ JEahGzO {mZC$U' 模拟结果 0=* 8
2jg- 通过计算器进行参考测量 <acUKfpY \?0&0;5 / ';0H_ 结构内的场 2Ga7$q "a
ueL/dgN tiB_a}5IB 'IZI:V" 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 dJ2Hr;Lc Oiz ,w7LRh )0"wB 初始解决方案 #1 的参数优化 ein4^o<f. WN?O'E=2 [F0s!,P 最终设计 #1 的性能分析 s2'yY(u/ T>}5:,N~ 初始解决方案 #2 的参数优化 lef2 X1w}! Ghx3EVqnx" 2XFU1 AW 最终设计 #2 的性能分析 uC+V6;