摘要 O*{<{3 H-A?F^# '?dO[iQ$: 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
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Y%M5(&Q l+!!S"=8)~ 设计任务 &5puGnTZ %jz]s4u$5j 52?zBl`| 连接建模技术:蛾眼结构 q/U(j&8W{ ST$~l7p MyB&mC7Es 光栅阶数分析器 FY_.Vp T<(1)N1H` hw! l{yv 元件内场分析器:FMM -F=?M+9[ 2Ya)I k{ NRu_6~^^ 参数运行 }5c%v1 ,5oe8\uz Yt&Isi
+ 参数优化 zQ3m@x MB.\G.bV s}Phw2`1U 模拟结果 Y~\71QE> n^aSio6 通过计算器进行参考测量 z~&uLu uQh dg4 Z(DCR/U=(> 结构内的场 ~C[p}MED vD<6BQR eewhT^ TNe,'S,% 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 S_; 5mb+b oSVo~F 8K+(CS>xvO 初始解决方案 #1 的参数优化 $A~UA 8B#;ffkmN xz2U?)m;x 最终设计 #1 的性能分析 Gk_%WY* &"HxAK)f 初始解决方案 #2 的参数优化 Mx9#YJ?t~ >[t0a"
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