摘要 OmU.9PDg- WqYl=%x"{V uO"@YX/ 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
z2"2Xqy<U )K5~r>n& 设计任务 /8Vh G|Wb YJ3970c/M UK_2i(I"e 连接建模技术:蛾眼结构 ^~(bm$4r |nm,5gPNC ig?]kZ 光栅阶数分析器 [fO]oTh o^7NZ]m YciZU 元件内场分析器:FMM =faV,o&{` P6IhpB59 v[Ar{t& 参数运行 N4H nW0 yP-.8[; &<!I]:Y 参数优化 B'~.>,fg "h:xdaIE/p r-'j#|^tz 模拟结果 ~hM4({/QN VK$+Nm) 通过计算器进行参考测量 qPzgGbmD9 A1YIPrav( Dj<Vn%d* 结构内的场 t3bN
PK^ NINyg"g< 6'qs=Ql wl9E 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 a<vCAFQ T}4RlIZF :[AW 初始解决方案 #1 的参数优化 yYF80mnJz T_B$ L\n_q6n 最终设计 #1 的性能分析 2+ 9">a@ E-!`6 初始解决方案 #2 的参数优化 #]:nQ( L0uN|?} q$H'u[KQ06 最终设计 #2 的性能分析 le8n!Dk(