摘要 ,s%1#cbR "k8Yc<`u BVKr 2v 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
JQ>GKu~ SNV[KdvP* 设计任务 ,Zpc vK/S 4k
HFfc !J5k?J&{= 连接建模技术:蛾眼结构 cB;:}Q08# <K~> :4c +0w~Skd, 光栅阶数分析器 0Cox+QJt NF}QQwG3 6 9 PTo 元件内场分析器:FMM 2k
}:)]m yqy5i{Y KuU]enC3 参数运行 lZY0A#
}Htnhom0n kQ,#NR/q6 参数优化 Bs@!S? h,Y!d]2w x[mxp/
/P 模拟结果 .4M8 0ssKZ9Lc 通过计算器进行参考测量 02Ftn&bi ^w0V{qF{ vyME 结构内的场 @}#" o
Wc}opp b`NXe7A hX-([o 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 DCJmk6p%0 z (N3oBW E8TJ*ZU 初始解决方案 #1 的参数优化 +`EF0sux `EV"
/&` yI&{8DCCw 最终设计 #1 的性能分析 |-WoR u i+/:^tc; 初始解决方案 #2 的参数优化 qf/1a CQiP zW`Zmt\T2 W\(u1>lj 最终设计 #2 的性能分析 16iymiLz&