摘要 (y]Z *p:EW 0L/chP Nt$4; 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
q3#[6! %mmV#vwp 设计任务 v1{j1~ZR 3&})gU&a O;RBK&P 连接建模技术:蛾眼结构 HU>>\t?d Cl&mz1Y;]1 EF<TU.)Zf 光栅阶数分析器 QtnNc!,n 'EIe5Op Q$5t~*$` 元件内场分析器:FMM ljK?2z> Ni>Ns=n eAW)|=2 参数运行 OS#aYER~/ 3/]1m9x kZG=C6a 参数优化 Sa<(F[p` =i vlS (NFrZ0 模拟结果 `D%i`"~Lf& 129\H<
m 通过计算器进行参考测量 K[iAN;QCe% nV8'QDQ:Al d\>XfS 结构内的场 R-m5( LujLC&S :dW\Q&iW #3*cA!V.< 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 HFP'b=?`]| [j/|)cj FUL3@Gb$UV 初始解决方案 #1 的参数优化 S'HA] t,De/ L lU!_V%n 最终设计 #1 的性能分析 h.K"v5I* -sA&1n"W&5 初始解决方案 #2 的参数优化 3}\ z&| goiI*"6M !$l<'K$ 最终设计 #2 的性能分析 )]q Qgc&