摘要 t V03+&jF 5u r)uz]w8 !nd*W"_gQ/ 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
W^Y#pn w7FoL 设计任务 .Pe9_ZH$W 5{K}?*3hJ EF#QH
_X 连接建模技术:蛾眼结构 wG1l+^p _OMpIdY,R* e4`uVq5 光栅阶数分析器 Tde0 ~j} rkB'Hf KL [ek 元件内场分析器:FMM G_ >G'2 AQss4[\Dx P:C2G(V1AR 参数运行 AVl~{k| ,qQG;w,m t\4[``t 参数优化 \K
iwUz "Pz}@= UG;Y^?Ppe5 模拟结果 $s\UL}Gc Nc)J18 通过计算器进行参考测量 >?lOE
-}^ :7g=b%; x%N\5 V1 结构内的场 ~rD={&0 !ABiy6d 445o DkG 9Q;c,] 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 cXnKCzSxZq w Q+8\ s= {Qv>q$Q 初始解决方案 #1 的参数优化 Km#pX1]>e UPiW73Nu e>}}:Ud 最终设计 #1 的性能分析 Q`%R[# L<V3KS2y 初始解决方案 #2 的参数优化 IA&L] Oakb' O#a6+W"U 最终设计 #2 的性能分析 44ed79ly0)