摘要 IEI&PRD gl2l%]=\' c{x:'@%/s' 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
&0d5".|s )]\-Uy$x 设计任务 tZ*>S]qD (#qQ;ch vo~Qo;m 连接建模技术:蛾眼结构 g"g3|$#Ej| wARd^Iw d*@K5?O. 光栅阶数分析器 3q6FV7Fv&b TIF =fQ 8hSw4S"$ 元件内场分析器:FMM KmWd$Qy, li#ep?5h^ y`7b3*P 参数运行 G1I<B SWT)M1O2 tCu.Fc@ 参数优化 |F qujZz -f?,%6(1 7$*x&We 模拟结果 rV*Ri~Vx 6.|[;>Km 通过计算器进行参考测量 EQ"+G[j~x "K;""]#wg0 =t|,6Vp 结构内的场 P#rS.CIh vJX0c\e w.+G+r= SI=7$8T5=5 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 '+*'sQvH[ h66mzV:` >3I|5kZ6 初始解决方案 #1 的参数优化 i\#?M " ~;t/VsgGW vSCJ xSt#e 最终设计 #1 的性能分析 Dh<}j3] QQ %W3D@ 初始解决方案 #2 的参数优化
Yq{R*HO -"x@ V7X dChMjaix 最终设计 #2 的性能分析 jFI`CA6P